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    Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics
    1.
    发明授权
    Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics 有权
    用于具有成像光学元件的微光刻的成像光学和投影曝光安装

    公开(公告)号：US09057964B2

    公开(公告)日：2015-06-16

    申请号：US13236873

    申请日：2011-09-20

    申请人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

    发明人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

    IPC分类号： G02B17/06 ,  G03F7/20 ,  G02B17/08

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0663 ,  G02B17/0888

    摘要： Imaging optics includes a first mirror in the imaging beam path after the object field, a last mirror in the imaging beam path before the image field, and a fourth to last mirror in the imaging beam path before the image field. In an unfolded imaging beam path between the object plane and the image plane, an impingement point of the chief ray on a used region of each of the plurality of mirrors has a mirror spacing from the image plane. The mirror spacing of the first mirror is greater than the mirror spacing of the last mirror. The mirror spacing of the fourth to last mirror is greater than the mirror spacing of the first mirror. Chief rays that emanate from points of the object field that are spaced apart from another have a mutually diverging beam course, giving a negative back focus of the entrance pupil.

    摘要翻译： 成像光学器件包括在物场之后的成像光束路径中的第一反射镜，在图像场之前的成像光束路径中的最后一个反射镜，以及在图像场之前的成像光束路径中的第四个至最后一个镜像。 在物平面和图像平面之间的展开成像光束路径中，多个反射镜中的每一个的使用区域上的主光线的冲击点具有与图像平面相反的反射镜间隔。 第一个镜子的镜子间距大于最后一个镜子的反射镜间距。 第四到最后一个镜子的镜子间距大于第一个镜子的镜子间距。 从与物体间隔开的物体点发出的主光线具有相互发散的光束路线，给入射光瞳的负后焦距。

    IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS
    2.
    发明申请
    IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS 有权
    成像光学和投影曝光安装用于成像光学的微观算法

    公开(公告)号：US20120069315A1

    公开(公告)日：2012-03-22

    申请号：US13236873

    申请日：2011-09-20

    申请人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

    发明人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/70 ,  G02B17/06

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0663 ,  G02B17/0888

    摘要： Imaging optics includes a first mirror in the imaging beam path after the object field, a last mirror in the imaging beam path before the image field, and a fourth to last mirror in the imaging beam path before the image field. In an unfolded imaging beam path between the object plane and the image plane, an impingement point of the chief ray on a used region of each of the plurality of mirrors has a mirror spacing from the image plane. The mirror spacing of the first mirror is greater than the mirror spacing of the last mirror. The mirror spacing of the fourth to last mirror is greater than the mirror spacing of the first mirror. Chief rays that emanate from points of the object field that are spaced apart from another have a mutually diverging beam course, giving a negative back focus of the entrance pupil.

    摘要翻译： 成像光学器件包括在物场之后的成像光束路径中的第一反射镜，在图像场之前的成像光束路径中的最后一个反射镜，以及在图像场之前的成像光束路径中的第四个至最后一个镜像。 在物平面和图像平面之间的展开成像光束路径中，多个反射镜中的每一个的使用区域上的主光线的冲击点具有与图像平面相反的反射镜间隔。 第一个镜子的镜子间距大于最后一个镜子的反射镜间距。 第四到最后一个镜子的镜子间距大于第一个镜子的镜子间距。 从与物体间隔开的物体点发出的主光线具有相互发散的光束路线，给入射光瞳的负后焦距。

    Projection objective
    5.
    发明授权
    Projection objective 有权
    投影目标

    公开(公告)号：US08027022B2

    公开(公告)日：2011-09-27

    申请号：US12174131

    申请日：2008-07-16

    申请人： Johannes Zellner ,  Hans-Juergen Mann ,  Wilhelm Ulrich

    发明人： Johannes Zellner ,  Hans-Juergen Mann ,  Wilhelm Ulrich

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657

    摘要： The disclosure relates a projection objective for imaging an object field in an object plane into an image field in an image plane. The disclosure also relates to a microlithographic projection exposure apparatus including such a projection objective. The disclosure further relates to methods of using such a projection exposure apparatus to fabricate microstructured or nanostructured components, such as highly integrated semiconductor components. In addition, the disclosure relates to components fabricated by such methods.

    摘要翻译： 本公开涉及用于将物平面中的对象场成像成像面中的图像场的投影物镜。 本公开还涉及包括这种投影物镜的微光刻投影曝光装置。 本公开还涉及使用这种投影曝光装置来制造微结构化或纳米结构化部件（诸如高度集成的半导体部件）的方法。 此外，本公开涉及通过这些方法制造的部件。

    PROJECTION OBJECTIVE
    7.
    发明申请
    PROJECTION OBJECTIVE 有权
    投影目标

    公开(公告)号：US20090027644A1

    公开(公告)日：2009-01-29

    申请号：US12174131

    申请日：2008-07-16

    申请人： Johannes Zellner ,  Hans-Juergen Mann ,  Wilhelm Ulrich

    发明人： Johannes Zellner ,  Hans-Juergen Mann ,  Wilhelm Ulrich

    IPC分类号： G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657

    摘要： The disclosure relates a projection objective for imaging an object field in an object plane into an image field in an image plane. The disclosure also relates to a microlithographic projection exposure apparatus including such a projection objective. The disclosure further relates to methods of using such a projection exposure apparatus to fabricate microstructured or nanostructured components, such as highly integrated semiconductor components. In addition, the disclosure relates to components fabricated by such methods.

    摘要翻译： 本公开涉及用于将物平面中的对象场成像成像面中的图像场的投影物镜。 本公开还涉及包括这种投影物镜的微光刻投影曝光装置。 本公开还涉及使用这种投影曝光装置来制造微结构化或纳米结构化部件（诸如高度集成的半导体部件）的方法。 此外，本公开涉及通过这些方法制造的部件。

    Illumination system and microlithographic projection exposure apparatus including same
    9.
    发明授权
    Illumination system and microlithographic projection exposure apparatus including same 有权
    包括照明系统和微光刻投影曝光装置

    公开(公告)号：US07999917B2

    公开(公告)日：2011-08-16

    申请号：US12171596

    申请日：2008-07-11

    申请人： Johannes Zellner ,  Hans-Juergen Mann

    发明人： Johannes Zellner ,  Hans-Juergen Mann

    IPC分类号： G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657

    摘要： The disclosure relates an illumination system configured to guide illumination light from a radiation source to an object plane and to provide defined illumination of an object field in the object plane, wherein illumination light is supplied to the object field by a bundle-guiding optical pupil component which is disposed in a pupil plane of the projection objective, and wherein at least another bundle-guiding component is disposed upstream of the pupil component in the beam path of the illumination light. The disclosure further concerns a projection exposure apparatus that includes such an illumination system of this type, a method of fabricating a microstructured component using such a projection exposure apparatus, and a microstructured component fabricated using such a method.

    摘要翻译： 本公开涉及一种照明系统，其被配置为将来自辐射源的照明光引导到物体平面并且提供对象平面中物体场的限定照明，其中通过束引导光瞳分量向照射光提供照明光 其布置在投影物镜的光瞳平面中，并且其中至少另一个束引导部件设置在照明光束的光束路径中的光瞳分量的上游。 本公开还涉及包括这种这种照明系统的投影曝光装置，使用这种投影曝光装置制造微结构元件的方法，以及使用这种方法制造的微结构元件。