公开(公告)号：US20120171610A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：US13303197

申请日：2011-11-23

申请人： Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Mi-Ra IM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Myoung-Hwan CHA

发明人： Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Mi-Ra IM ,  Hwan-Sung CHEON ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Myoung-Hwan CHA

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0751 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a novolac resin including a repeating unit represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, a photosensitive resin film prepared by using the positive photosensitive resin composition, and a semiconductor device including the photosensitive resin film.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的重复单元的酚醛清漆树脂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，使用正型感光性树脂组合物制备的感光性树脂膜和包含感光性树脂膜的半导体装置。

公开(公告)号：US20130171563A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：US13590440

申请日：2012-08-21

申请人： Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Myoung-Hwan CHA

发明人： Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Myoung-Hwan CHA

IPC分类号： C08G8/28 ,  G03F7/075 ,  G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C08G8/28 ,  C08G73/22 ,  C08L61/14 ,  C08L79/04 ,  G03F7/023 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a photosensitive novolac resin including a structural unit represented by the following Chemical Formula 1 and structural unit represented by the following Chemical Formula 2, wherein R11, R12, R13, and R14 in Chemical Formulae 1 and 2 are the same as defined in the detailed description, a positive photosensitive resin composition including the same, a photosensitive resin film fabricated using the same, and a semiconductor device including the photosensitive resin composition.

摘要翻译： 公开了包含由以下化学式1表示的结构单元和由以下化学式2表示的结构单元的光敏酚醛清漆树脂，其中化学式1和2中的R 11，R 12，R 13和R 14与 具体实施方式，包括它的正型感光性树脂组合物，使用其制造的感光性树脂膜和包含该感光性树脂组合物的半导体装置。

公开(公告)号：US20110171578A1

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：US13073005

申请日：2011-03-28

申请人： Hyun-Yong CHO ,  Doo-Young JUNG ,  Yong-Sik YOO ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Min-Kook CHUNG ,  Kil-Sung LEE ,  Myoung-Hwan CHA

发明人： Hyun-Yong CHO ,  Doo-Young JUNG ,  Yong-Sik YOO ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Min-Kook CHUNG ,  Kil-Sung LEE ,  Myoung-Hwan CHA

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  Y10S430/107

摘要： A positive photosensitive resin composition includes: (A) a polybenzoxazole precursor; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a polyamic acid ester compound; and (E) a solvent. The positive photosensitive resin composition can reduce film shrinkage, can have high sensitivity, high resolution, and excellent residue removal properties, and can provide good pattern shapes.

摘要翻译： 正型感光性树脂组合物包括：（A）聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）聚酰胺酸酯化合物; 和（E）溶剂。 正型感光性树脂组合物可以降低膜收缩，可以具有高灵敏度，高分辨率和优异的残留物去除性能，并且可以提供良好的图案形状。

公开(公告)号：US20120171609A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：US13190690

申请日：2011-07-26

申请人： Ji-Young JEONG ,  Min-Kook CHUNG ,  Jong-Hwa LEE ,  Mi-Ra IM ,  Hyun-Yong CHO ,  Myoung-Hwan CHA ,  Hwan-Sung CHEON

发明人： Ji-Young JEONG ,  Min-Kook CHUNG ,  Jong-Hwa LEE ,  Mi-Ra IM ,  Hyun-Yong CHO ,  Myoung-Hwan CHA ,  Hwan-Sung CHEON

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/022

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/40

摘要： Provided is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a first polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by Chemical Formula 1 and a repeating unit represented by Chemical Formula 2, and having a thermally polymerizable functional group at least one terminal end; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. A photosensitive resin film fabricated using the positive photosensitive resin composition is provided.

摘要翻译： 提供一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含第一聚苯并恶唑前体的聚苯并恶唑前体，所述第一聚苯并恶唑前体包含由化学式1表示的重复单元和由化学式2表示的重复单元，并且具有热聚合官能团至少一个末端 结束; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物 （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 提供使用正型感光性树脂组合物制造的感光性树脂膜。

公开(公告)号：US20110159428A1

公开(公告)日：2011-06-30

申请号：US12964010

申请日：2010-12-09

申请人： Jeong-Woo LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Hyun-Yong CHO ,  Ji-Young JEONG ,  Doo-Young JUNG ,  Jong-Hwa LEE ,  Min-Kook CHUNG ,  Myoung-Hwan CHA ,  Hwan-Sung CHEON

发明人： Jeong-Woo LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Hyun-Yong CHO ,  Ji-Young JEONG ,  Doo-Young JUNG ,  Jong-Hwa LEE ,  Min-Kook CHUNG ,  Myoung-Hwan CHA ,  Hwan-Sung CHEON

IPC分类号： G03C1/73

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0755

摘要： This disclosure relates to a positive photosensitive resin composition including (A) a resin precursor including a polybenzoxazole precursor, a polyamic acid, or a combination thereof, (B) a dissolution-controlling agent having a boiling point ranging from about 210° C. to about 400° C. and a polarity ranging from about 1D to about 4D, (C) an acid generator, (D) a silane-based compound, and (E) a solvent. The polybenzoxazole precursor includes a repeating unit represented by Chemical Formula 1, or both of repeating units represented by Chemical Formulae 1 and 2 and has a thermally polymerizable functional group at least one end. The polyamic acid includes a repeating unit of Chemical Formulae 50 and 51.

摘要翻译： 本公开涉及包含（A）包含聚苯并恶唑前体，聚酰胺酸或其组合的树脂前体的正型感光性树脂组合物，（B）沸点为约210℃〜 约400℃，极性范围为约1D至约4D，（C）酸产生剂，（D）硅烷基化合物和（E）溶剂。 聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元或由化学式1和2表示的重复单元两者，并且在至少一端具有可热聚合的官能团。 聚酰胺酸包括化学式50和51的重复单元。

公开(公告)号：US20120171614A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：US13294223

申请日：2011-11-11

申请人： Myoung-Hwan CHA ,  Jong-Hwa LEE ,  Mi-Ra IM ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Hyun-Yong CHO ,  Hwan-Sung CHEON

发明人： Myoung-Hwan CHA ,  Jong-Hwa LEE ,  Mi-Ra IM ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Hyun-Yong CHO ,  Hwan-Sung CHEON

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： H01L23/296 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin; (B) a dissolution controlling agent including the compound represented by Chemical Formula 6; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent, and a photosensitive resin film prepared by using the same.

摘要翻译： 公开了包含（A）碱溶性树脂的正型感光性树脂组合物， （B）包含由化学式6表示的化合物的溶解控制剂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂，以及使用其制备的感光性树脂膜。

公开(公告)号：US20100099043A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12581974

申请日：2009-10-20

申请人： Doo-Young JUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Hyun-Yong CHO ,  Yong-Sik YOO ,  Min-Kook CHUNG ,  Jong-Hwa LEE ,  Kil-Sung LEE ,  Myoung-Hwan CHA

发明人： Doo-Young JUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Hyun-Yong CHO ,  Yong-Sik YOO ,  Min-Kook CHUNG ,  Jong-Hwa LEE ,  Kil-Sung LEE ,  Myoung-Hwan CHA

IPC分类号： G03C1/053

CPC分类号： G03F7/0233 ,  G03F7/0048 ,  Y10S430/107

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a first polybenzoxazole precursor that includes: a repeating unit of Chemical Formula 1 and a thermally polymerizable functional group at least one terminal end; (B) a second polybenzoxazole precursor that includes a repeating unit of Chemical Formula 3; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; and (E) a solvent.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含：（A）第一聚苯并恶唑前体，其包含：化学式1的重复单元和可热聚合官能团的至少一个末端; （B）包含化学式3的重复单元的第二聚苯并恶唑前体; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; 和（E）溶剂。

公开(公告)号：US20130137036A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：US13590330

申请日：2012-08-21

申请人： Ji-Young JEONG ,  Jin-Young LEE ,  Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Sang-Soo KIM ,  Eun-Kyung YOON ,  Jun-Ho LEE ,  Myoung-Hwan CHA ,  Eun-Ha HWANG

发明人： Ji-Young JEONG ,  Jin-Young LEE ,  Jong-Hwa LEE ,  Hyun-Yong CHO ,  Sang-Soo KIM ,  Eun-Kyung YOON ,  Jun-Ho LEE ,  Myoung-Hwan CHA ,  Eun-Ha HWANG

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0236 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a first polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1 and a repeating unit represented by the following Chemical Formula 2, and having a thermally polymerizable functional group at at least one of the terminal end; (B) a dissolution controlling agent including a novolac resin including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 4; (C) a photosensitive diazoquinone compound; (D) a silane compound; (E) an acid generator; and (F) a solvent, a photosensitive resin film prepared using the same, and a semiconductor device including the photosensitive resin film.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含第一聚苯并恶唑前体的聚苯并恶唑前体，其包含由以下化学式1表示的重复单元和由以下化学式2表示的重复单元，并且具有热聚合性官能团 在终端中的至少一个; （B）包含由以下化学式4表示的重复单元的酚醛清漆树脂的溶解控制剂; （C）光敏重氮醌化合物; （D）硅烷化合物; （E）酸产生剂; 和（F）溶剂，使用其制备的感光性树脂膜和包含感光性树脂膜的半导体装置。

公开(公告)号：US20120156616A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13241612

申请日：2011-09-23

申请人： Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

发明人： Hyun-Yong CHO ,  Min-Kook CHUNG ,  Ji-Young JEONG ,  Jong-Hwa LEE ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) a polybenzoxazole precursor including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1; (B) a photosensitive diazoquinone compound; (C) a silane compound; (D) a phenol compound; and (E) a solvent. In the above Chemical Formula 1, each substituent is the same as defined in the specification.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）包含由以下化学式1表示的重复单元的聚苯并恶唑前体; （B）光敏重氮醌化合物; （C）硅烷化合物; （D）酚化合物; 和（E）溶剂。 在上述化学式1中，各取代基与说明书中的定义相同。

公开(公告)号：US20120156614A1

公开(公告)日：2012-06-21

申请号：US13242120

申请日：2011-09-23

申请人： Ji-Young JEONG ,  Min-Kook CHUNG ,  Hyun-Yong CHO ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Jong-Hwa LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

发明人： Ji-Young JEONG ,  Min-Kook CHUNG ,  Hyun-Yong CHO ,  Yong-Sik YOO ,  Jeong-Woo LEE ,  Jong-Hwa LEE ,  Hwan-Sung CHEON ,  Soo-Young KIM ,  Young-Ho KIM ,  Jae-Hyun KIM ,  Su-Min PARK

IPC分类号： G03F7/031 ,  C07C69/84

CPC分类号： G03F7/0226 ,  C07C69/84 ,  G03F7/0233

摘要： Disclosed are a novel phenol compound comprising a compound represented by Chemical Formula 1, a compound represented by Chemical Formula 2, or a combination thereof, and a positive photosensitive resin composition including the same.

摘要翻译： 公开了包含由化学式1表示的化合物，由化学式2表示的化合物或其组合的新型酚化合物和包含其的正性感光性树脂组合物。