公开(公告)号：US20050095532A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10937270

申请日：2004-09-10

申请人： Kunihiko Kodama ,  Kenji Wada ,  Kenichiro Satoh

发明人： Kunihiko Kodama ,  Kenji Wada ,  Kenichiro Satoh

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03C1/494

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific acid having the plural number of sulfonic groups by irradiation with an actinic ray or a radiation and a pattern forming method using the same.

摘要翻译： 含有能够通过照射光化学射线或辐射而产生具有多个磺酸基的特定酸的化合物的光敏组合物和使用其的图案形成方法。

公开(公告)号：US07189492B2

公开(公告)日：2007-03-13

申请号：US10937270

申请日：2004-09-10

申请人： Kunihiko Kodama ,  Kenji Wada ,  Kenichiro Satoh

发明人： Kunihiko Kodama ,  Kenji Wada ,  Kenichiro Satoh

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific acid having the plural number of sulfonic groups by irradiation with an actinic ray or a radiation and a pattern forming method using the same.

摘要翻译： 含有能够通过照射光化学射线或辐射而产生具有多个磺酸基的特定酸的化合物的光敏组合物和使用其的图案形成方法。

公开(公告)号：US5554481A

公开(公告)日：1996-09-10

申请号：US361697

申请日：1994-12-22

申请人： Yasumasa Kawabe ,  Kenichiro Satoh ,  Toshiaki Aoai

发明人： Yasumasa Kawabe ,  Kenichiro Satoh ,  Toshiaki Aoai

IPC分类号： C08G8/20 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023

CPC分类号： C08G8/20 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023

摘要： A positive working photoresist composition sensitive to radiation, having high resolving power, high sensitivity, and excellent storage stability, and further forming a pattern capable of accurately reproducing a mask size in a wide range of photomask line width. The present invention has been obtained by a composition containing at least one of a 1,2-napthoquinonediazido-5-sulfonic acid ester of a polyhydroxy compound and a 1,2-napthoquinonediazido-4-sulfonic acid ester of a polyhydroxy compound in combination with at least one alkali-soluble resin.

摘要翻译： 对辐射敏感的正性光致抗蚀剂组合物，具有高分辨能力，高灵敏度和优异的储存稳定性，并进一步形成能够在宽范围的光掩模线宽度下精确地再现掩模尺寸的图案。 本发明是通过含有多羟基化合物的1,2-萘醌二叠氮基-5-磺酸酯和多羟基化合物的1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酸酯中的至少一种的组合物而得到的， 至少一种碱溶性树脂。