公开(公告)号：US20100098852A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12256413

申请日：2008-10-22

申请人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Marcel Martini ,  Florian Ries

发明人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Marcel Martini ,  Florian Ries

IPC分类号： C23C16/52

CPC分类号： C23C14/54 ,  C03C17/002 ,  C23C14/243

摘要： An arrangement for the regulation of a gas stream or the like is provided, which comprises at least one vaporizer crucible for the vaporization of a material or at least one supply container with material vapor. The vaporized material or the material vapor is conducted via a vapor conduit to a substrate. The at least one vaporizer crucible or the at least one supply container is connected via a dosing pipe with the vapor conduit. A tappet projects into the dosing pipe. By means of a regulator the position of the tappet in the dosing pipe is regulated as a function of a measured variable.

摘要翻译： 提供了一种用于调节气流等的装置，其包括至少一个用于使物料蒸发的蒸发器坩埚或具有材料蒸气的至少一个供应容器。 蒸发的材料或材料蒸汽通过蒸汽导管传导到基底。 至少一个蒸发器坩埚或至少一个供应容器经由计量管与蒸气导管相连接。 挺杆投入到配料管中。 通过调节器，定量管中挺杆的位置作为测量变量的函数进行调节。

公开(公告)号：US20100316788A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：US12486584

申请日：2009-06-17

申请人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Florian Ries ,  Frank Mattern

发明人： Manuel Dieguez-Campo ,  Elisabeth Sommer ,  Florian Ries ,  Frank Mattern

IPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/00 ,  G01F1/00

CPC分类号： C23C14/546 ,  C23C14/12 ,  G01B7/066

摘要： A deposition rate monitor device for monitoring the deposition rate of a vapor on a substrate is provided, including: a piezoelectric crystal monitor device including a piezoelectric crystal monitor provided in a housing, wherein the housing includes a vapor inlet aperture, and at least one elongated shielding device having a first end and a second end, the first end encompassing the vapor inlet aperture.

摘要翻译： 提供了一种用于监测基板上的蒸气的沉积速率的沉积速率监测装置，包括：压电晶体监测装置，其包括设置在壳体中的压电晶体监视器，其中壳体包括蒸气入口孔，以及至少一个细长的 屏蔽装置具有第一端和第二端，第一端包围蒸气入口孔。

公开(公告)号：US09127349B2

公开(公告)日：2015-09-08

申请号：US12342969

申请日：2008-12-23

申请人： Juergen Bruch ,  Elisabeth Sommer ,  Uwe Hoffmann ,  Manuel Dieguez-Campo

发明人： Juergen Bruch ,  Elisabeth Sommer ,  Uwe Hoffmann ,  Manuel Dieguez-Campo

IPC分类号： C30B23/02 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/22 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56

CPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/225 ,  C30B23/02 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： The present invention refers to a method as well as an apparatus for depositing a layer at a substrate, the layer containing at least two components co-deposited by at least two evaporation sources, wherein the mixture of the components regarding the content of the components is set by tilting the evaporation sources to predetermined angle and/or by positioning the evaporation sources at a predetermined distance with respect to the substrate and/or wherein evaporation plumes of the evaporation sources are arranged such that the maxima of the evaporation plumes are separated locally with respect to the substrate.

摘要翻译： 本发明涉及一种方法以及用于在衬底上沉积层的装置，所述层包含由至少两个蒸发源共沉积的至少两个组分，其中组分的混合物关于组分的含量是 通过将蒸发源倾斜到预定角度和/或通过将蒸发源相对于基底定位在预定距离和/或其中蒸发源的蒸发羽流被布置成使蒸发羽流的最大值局部地与 相对于底物。

公开(公告)号：US20100159125A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12342969

申请日：2008-12-23

申请人： Juergen Bruch ,  Elisabeth Sommer ,  Uwe Hoffmann ,  Manuel Dieguez-Campo

发明人： Juergen Bruch ,  Elisabeth Sommer ,  Uwe Hoffmann ,  Manuel Dieguez-Campo

IPC分类号： B05D5/12 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/225 ,  C30B23/02 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

摘要： The present invention refers to a method as well as an apparatus for depositing a layer at a substrate, the layer containing at least two components co-deposited by at least two evaporation sources, wherein the mixture of the components regarding the content of the components is set by tilting the evaporation sources to predetermined angle and/or by positioning the evaporation sources at a predetermined distance with respect to the substrate and/or wherein evaporation plumes of the evaporation sources are arranged such that the maxima of the evaporation plumes are separated locally with respect to the substrate.

摘要翻译： 本发明涉及一种方法以及用于在衬底上沉积层的装置，所述层包含由至少两个蒸发源共沉积的至少两个组分，其中组分的混合物关于组分的含量是 通过将蒸发源倾斜到预定角度和/或通过将蒸发源相对于基底定位在预定距离和/或其中蒸发源的蒸发羽流被布置成使蒸发羽流的最大值局部地与 相对于底物。

公开(公告)号：US20100025370A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：US12185663

申请日：2008-08-04

申请人： Manuel Dieguez-Campo ,  Andreas Lopp ,  Reiner Gertmann

发明人： Manuel Dieguez-Campo ,  Andreas Lopp ,  Reiner Gertmann

IPC分类号： C23F1/00 ,  C23C16/513 ,  C23F1/08

CPC分类号： H01J37/3244 ,  H01J37/32449

摘要： A reactive gas distributor for a reactive gas treatment system is provided, comprising a housing, a reactive gas inlet provided at one side of the housing and fluidly connectable to a remote plasma source, and a plurality of reactive gas outlets at another side of the housing and arranged in a pattern.

摘要翻译： 提供了一种用于反应性气体处理系统的反应气体分配器，包括壳体，设置在壳体的一侧并可流体连接到远程等离子体源的反应性气体入口，以及在壳体的另一侧的多个反应气体出口 并以图案排列。