公开(公告)号：US20070146660A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11319193

申请日：2005-12-28

申请人： Marc Lorenz Van Der Velden ,  Vadim Banine ,  Bastiaan Mertens ,  Johannes Josephina Moors ,  Markus Weiss ,  Bastiaan Wolschrijn ,  Michiel Nijkerk

发明人： Marc Lorenz Van Der Velden ,  Vadim Banine ,  Bastiaan Mertens ,  Johannes Josephina Moors ,  Markus Weiss ,  Bastiaan Wolschrijn ,  Michiel Nijkerk

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/7095

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus that includes a system configured to condition a radiation beam or project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate. The system includes an optically active device configured to direct the radiation beam or the patterned radiation beam, respectively, and a support structure configured to support the optically active device. The apparatus further includes a gas supply for providing a background gas into the system. The radiation beam or patterned radiation beam react with the background gas to form a plasma that includes a plurality of ions. The support structure includes an element that includes a material that has a low sputtering yield, a high sputter threshold energy, or a high ion implantation yield, to reduce sputtering and the creation of sputtering products.

摘要翻译： 本发明涉及一种光刻设备，其包括被配置为调节辐射束或将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的系统。 该系统包括被配置为分别引导辐射束或图案化辐射束的光学有源器件，以及被配置为支持光学有源器件的支撑结构。 该装置还包括用于将背景气体提供到系统中的气体供应。 辐射束或图案化的辐射束与背景气体反应以形成包括多个离子的等离子体。 支撑结构包括包括具有低溅射产率，高溅射阈值能量或高离子注入产量的材料的元件，以减少溅射和溅射产物的产生。

公开(公告)号：US20070114466A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11439854

申请日：2006-05-24

申请人： Marco Wedowski ,  Markus Weiss ,  Stephan Mullender ,  Johann Trenkler ,  Hartmut Enkisch ,  Gisela Sipos ,  H.A. van Mierlo ,  Michiel Nijkerk ,  Fokko Wieringa ,  Nadyeh Shariloo

发明人： Marco Wedowski ,  Markus Weiss ,  Stephan Mullender ,  Johann Trenkler ,  Hartmut Enkisch ,  Gisela Sipos ,  H.A. van Mierlo ,  Michiel Nijkerk ,  Fokko Wieringa ,  Nadyeh Shariloo

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

摘要： An optical element, especially a normal-incidence collector mirror, for radiation in the EUV and/or soft X-ray region of wavelengths is described. The element has a substrate, a multilayer coating with an optically active region, and a capacitor, having a first and a second capacitor electrode. At least one layer of the multilayer coating serves as the first capacitor electrode. At least one dielectric layer is provided between the two capacitor electrodes. Also described is an optical system with at least one optical element, having a first electrode arranged in the vicinity of the optical element.

摘要翻译： 描述了用于EUV和/或波长的软X射线区域中的辐射的光学元件，特别是法向入射收集镜。 元件具有基板，具有光学活性区域的多层涂层和具有第一和第二电容器电极的电容器。 多层涂层的至少一层用作第一电容器电极。 在两个电容器电极之间提供至少一个电介质层。 还描述了具有至少一个光学元件的光学系统，其具有布置在光学元件附近的第一电极。

公开(公告)号：US20050186509A1

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：US11091905

申请日：2005-03-29

申请人： Johannes Gijsbertsen ,  Pieter De Jager ,  Michiel Nijkerk

发明人： Johannes Gijsbertsen ,  Pieter De Jager ,  Michiel Nijkerk

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03C5/00 ,  H01L21/311

CPC分类号： G03F9/7053

摘要： A lithographic projection apparatus includes an alignment sensor having an electron beam source constructed and arranged to provide an electron beam for impinging on an alignment marker on a substrate, and a back-scattered electron detector constructed and arranged to detect electrons back-scattered from the alignment marker. The alignment sensor is independent of the projection system and projection radiation, and is an off-axis alignment sensor.

摘要翻译： 光刻投影装置包括一个对准传感器，该对准传感器具有一个电子束源，该电子束源被构造和布置成提供一个电子束，用于冲击基板上的一个对准标记;以及一个后向散射电子检测器，被构造和布置成检测从该对准反向散射的电子 标记。 对准传感器与投影系统和投射辐射无关，是离轴对准传感器。

公开(公告)号：US20070272856A1

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：US11572398

申请日：2005-07-21

申请人： Michiel Nijkerk ,  Pieter Kruit

发明人： Michiel Nijkerk ,  Pieter Kruit

IPC分类号： G01N23/00 ,  G01N21/64

CPC分类号： H01J37/244 ,  G01N23/2251 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1503 ,  H01J2237/2443 ,  H01J2237/2445 ,  H01J2237/2482

摘要： The invention relates to a method of inspecting a specimen surface. The method comprises the steps of generating a plurality of primary beams directed towards the specimen surface, focussing the plurality of primary beams onto respective loci on the specimen surface, collecting a plurality of secondary beams of charged particles originating from the specimen surface upon incidence of the primary beams, converting at least one of the collected secondary beams into an optical beam, and detecting the optical beam.

摘要翻译： 本发明涉及一种检查样品表面的方法。 该方法包括以下步骤：产生指向样品表面的多个主光束，将多个主光束聚焦在样品表面上的相应位置上，在发射的样品表面上收集多个源自样品表面的带电粒子的次光束 主波束，将所收集的次波束中的至少一个转换成光束，以及检测光束。