公开(公告)号：US20050143952A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：US11003829

申请日：2004-12-06

申请人： Masayuki Tomoyasu ,  Hin Oh ,  Hideki Tanaka

发明人： Masayuki Tomoyasu ,  Hin Oh ,  Hideki Tanaka

IPC分类号： H01J37/32 ,  G06F101/14

CPC分类号： H01J37/32935

摘要： According to the present invention, multivariate analysis model expressions are generated for a plasma processing apparatus 100A and a plasma processing apparatus 100B by executing a multivariate analysis of detection data provided by a plurality of sensors included in each plasma processing apparatus when the plasma processing apparatuses 100A and 100B operate based upon first setting data. Then, when the plasma processing apparatus 100A operates based upon new second setting data, detection data provided by the plurality of sensors in the plasma processing apparatus 100A are used to generate a corresponding multivariate analysis model expression, and by using the new multivariate analysis model expression corresponding to the plasma processing apparatus 100A generated based upon the second setting data and to the plasma processing apparatus 100B, a multivariate analysis model expression corresponding to the new second setting data is generated four the plasma processing apparatus 100B.

摘要翻译： 根据本发明，对等离子体处理装置100A和等离子体处理装置100B，通过对等离子体处理装置中包含的多个传感器所提供的检测数据进行多元分析，生成多变量分析模型表达式 设备100A和100​​B基于第一设置数据进行操作。 然后，当等离子体处理装置100A基于新的第二设定数据进行动作时，使用等离子体处理装置100A中的多个传感器提供的检测数据来生成相应的多变量分析模型表达式，并且通过使用新的多变量分析 对应于基于第二设定数据生成的等离子体处理装置100A的模型表达式和等离子体处理装置100B，生成与新的第二设定数据对应的多变量分析模型表达式四等离子体处理装置100B。

公开(公告)号：US07505879B2

公开(公告)日：2009-03-17

申请号：US11003829

申请日：2004-12-06

申请人： Masayuki Tomoyasu ,  Hin Oh ,  Hideki Tanaka

发明人： Masayuki Tomoyasu ,  Hin Oh ,  Hideki Tanaka

IPC分类号： G06F7/60

CPC分类号： H01J37/32935

摘要： According to the present invention, multivariate analysis model expressions are generated for a plasma processing apparatus 100A and a plasma processing apparatus 100B by executing a multivariate analysis of detection data provided by a plurality of sensors included in each plasma processing apparatus when the plasma processing apparatuses 100A and 100B operate based upon first setting data. Then, when the plasma processing apparatus 100A operates based upon new second setting data, detection data provided by the plurality of sensors in the plasma processing apparatus 100A are used to generate a corresponding multivariate analysis model expression, and by using the new multivariate analysis model expression corresponding to the plasma processing apparatus 100A generated based upon the second setting data and to the plasma processing apparatus 100B, a multivariate analysis model expression corresponding to the new second setting data is generated four the plasma processing apparatus 100B.

摘要翻译： 根据本发明，通过对等离子体处理装置100A中的等离子体处理装置100A中包含的多个传感器所提供的检测数据进行多元分析，为等离子体处理装置100A和等离子体处理装置100B生成多变量分析模型表达式 和100B基于第一设定数据进行操作。 然后，当等离子体处理装置100A基于新的第二设定数据进行动作时，由等离子体处理装置100A中的多个传感器提供的检测数据用于生成相应的多变量分析模型表达式，并且通过使用新的多变量分析模型表达式 对应于基于第二设定数据生成的等离子体处理装置100A和等离子体处理装置100B，生成与等离子体处理装置100B相对应的新的第二设定数据的多变量分析模型表达式。

公开(公告)号：US20050146709A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US11055612

申请日：2005-02-11

申请人： Hin Oh ,  Hideaki Sato ,  Naoki Takayama ,  Hisanori Sakai ,  Yuichi Mimura

发明人： Hin Oh ,  Hideaki Sato ,  Naoki Takayama ,  Hisanori Sakai ,  Yuichi Mimura

IPC分类号： G01J3/28 ,  G01J3/30 ,  H01J37/32 ,  H01L21/3065

CPC分类号： H01J37/32935

摘要： In a plasma processing method and apparatus for monitoring information on a plasma processing, a multivariate analysis is performed by using as analysis data detection values detected for each object to be processed from a plurality of detection devices disposed in the processing apparatus upon the plasma processing. At that time, for each of sections defined whenever a maintenance of the processing apparatus is carried out, the detection values detected by the detection devices in the respective sections are compensated through a compensation unit, and the compensated detection values are taken as the analysis data.

摘要翻译： 在用于监视等离子体处理信息的等离子体处理方法和装置中，通过在等离子体处理时，从设置在处理装置中的多个检测装置中使用作为对待处理对象检测的分析数据检测值，进行多变量分析。 此时，对于执行处理装置的维护而定义的每个部分，通过补偿单元补偿由各个部分中的检测装置检测的检测值，并将补偿的检测值作为分析数据 。

公开(公告)号：US07101458B2

公开(公告)日：2006-09-05

申请号：US10727604

申请日：2003-12-05

申请人： Hin Oh ,  Yuichi Mimura

发明人： Hin Oh ,  Yuichi Mimura

IPC分类号： H01L21/00 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01J37/32935 ,  G01N21/73 ,  H01J37/32972

摘要： In a plasma processing method and apparatus for monitoring an operating status of a plasma processing apparatus and/or a processing status of an object being processed, emission spectra emitted from a plasma is obtained as optical data when the plasma process is performed on the object. Quantitative data of each emission source is obtained from the obtained optical data by using reference data in a database storing therein emission spectra of a plurality of emission source as the reference data. The operating status of the plasma processing apparatus and/or the processing status of the object being processed is estimated based on changes in the quantitative data of each emission source.

摘要翻译： 在等离子体处理装置的等离子体处理方法和装置和/或待处理物体的处理状态的等离子体处理方法和装置中，当对物体进行等离子体处理时，获得从等离子体发射的发射光谱作为光学数据。 通过使用存储有多个发射源的发射光谱的数据库中的参考数据作为参考数据，从获得的光学数据获得每个发射源的定量数据。 基于每个发射源的定量数据的变化来估计等离子体处理装置的操作状态和/或被处理物体的处理状态。

公开(公告)号：US06985215B2

公开(公告)日：2006-01-10

申请号：US11055612

申请日：2005-02-11

申请人： Hin Oh ,  Hideaki Sato ,  Naoki Takayama ,  Hisanori Sakai ,  Yuichi Mimura

发明人： Hin Oh ,  Hideaki Sato ,  Naoki Takayama ,  Hisanori Sakai ,  Yuichi Mimura

IPC分类号： H01L21/3065 ,  G01J3/28 ,  G01J3/30

CPC分类号： H01J37/32935

摘要： In a plasma processing method and apparatus for monitoring information on a plasma processing, a multivariate analysis is performed by using as analysis data detection values detected for each object to be processed from a plurality of detection devices disposed in the processing apparatus upon the plasma processing. At that time, for each of sections defined whenever a maintenance of the processing apparatus is carried out, the detection values detected by the detection devices in the respective sections are compensated through a compensation unit, and the compensated detection values are taken as the analysis data.

摘要翻译： 在用于监视等离子体处理信息的等离子体处理方法和装置中，通过在等离子体处理时，从设置在处理装置中的多个检测装置中使用作为对待处理对象检测的分析数据检测值，进行多变量分析。 此时，对于执行处理装置的维护而定义的每个部分，通过补偿单元补偿由各个部分中的检测装置检测的检测值，并将补偿的检测值作为分析数据 。