公开(公告)号：US20100038827A1

公开(公告)日：2010-02-18

申请号：US12576030

申请日：2009-10-08

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs ,  Van Nguyen Truskett

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs ,  Van Nguyen Truskett

IPC分类号： B29C59/16 ,  G06K9/36

CPC分类号： G01B11/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049

摘要： The present invention features a method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The method includes sensing relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.

摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的方法，该坐标系可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该方法包括在多个点处检测两个坐标系之间的相对对准并且确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。

公开(公告)号：US07880872B2

公开(公告)日：2011-02-01

申请号：US12576030

申请日：2009-10-08

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs ,  Van Nguyen Truskett

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs ,  Van Nguyen Truskett

IPC分类号： G01B11/26

CPC分类号： G01B11/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049

摘要： The present invention features a method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The method includes sensing relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.

摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的方法，该坐标系可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该方法包括在多个点处检测两个坐标系之间的相对对准并且确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。

公开(公告)号：US07292326B2

公开(公告)日：2007-11-06

申请号：US11000331

申请日：2004-11-30

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs

IPC分类号： G01B11/26

CPC分类号： G03F9/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076

摘要： The present invention features a system to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The system senses relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.

摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的系统，其可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该系统在多个点处感测两个坐标系之间的相对对准，并确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。

公开(公告)号：US07630067B2

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：US11000321

申请日：2004-11-30

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs ,  Van N. Truskett

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Tom H. Rafferty ,  Alireza Aghili ,  Byung-Jin Choi ,  Philip D. Schumaker ,  Daniel A. Babbs ,  Van N. Truskett

IPC分类号： G01B11/26

CPC分类号： G01B11/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7049

摘要： The present invention features a method to determine relative spatial parameters between two coordinate systems, which may be a mold and a region of a substrate in which mold is employed to generate a pattern. The method includes sensing relative alignment between the two coordinate systems at multiple points and determines relative spatial parameters therebetween. The relative spatial parameters include a relative area and a relative shape.

摘要翻译： 本发明的特征在于确定两个坐标系之间的相对空间参数的方法，该坐标系可以是模具和其中模具用于产生图案的基板的区域。 该方法包括在多个点处检测两个坐标系之间的相对对准并且确定它们之间的相对空间参数。 相对空间参数包括相对面积和相对形状。

公开(公告)号：US07785096B2

公开(公告)日：2010-08-31

申请号：US12389673

申请日：2009-02-20

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Byung-Jin Choi ,  Tom H. Rafferty ,  Philip D. Schumaker

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Byung-Jin Choi ,  Tom H. Rafferty ,  Philip D. Schumaker

IPC分类号： B29C59/00 ,  G01B9/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7088

摘要： An imprint lithography system operable for imprinting a pattern into a material deposited between an imprint mold and a substrate, the system including, inter alia, a first set of imaging units positioned at a first angle relative to normal of the substrate; and a second set of imaging units positioned at a second angle relative to normal of the substrate, wherein the first and second angles are not equal to each other.

摘要翻译： 压印光刻系统，其可操作用于将图案压印到沉积在压印模具和衬底之间的材料中，所述系统尤其包括相对于衬底法线以第一角度定位的第一组成像单元; 以及第二组成像单元，其相对于基板的法线定位成第二角度，其中第一和第二角度彼此不相等。

公开(公告)号：US20090169662A1

公开(公告)日：2009-07-02

申请号：US12389673

申请日：2009-02-20

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Byung-Jin Choi ,  Tom H. Rafferty ,  Philip D. Schumaker

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Byung-Jin Choi ,  Tom H. Rafferty ,  Philip D. Schumaker

IPC分类号： B29C47/92

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7088

摘要： An imprint lithography system operable for imprinting a pattern into a material deposited between an imprint mold and a substrate, the system including, inter alia, a first set of imaging units positioned at a first angle relative to normal of the substrate; and a second set of imaging units positioned at a second angle relative to normal of the substrate, wherein the first and second angles are not equal to each other.

摘要翻译： 压印光刻系统，其可操作用于将图案压印到沉积在压印模具和衬底之间的材料中，所述系统尤其包括相对于衬底法线以第一角度定位的第一组成像单元; 以及第二组成像单元，其相对于基板的法线定位成第二角度，其中第一和第二角度彼此不相等。

公开(公告)号：US20070231421A1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：US11694644

申请日：2007-03-30

申请人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Byung-Jin Choi ,  Tom H. Rafferty ,  Philip D. Schumaker

发明人： Pawan Kumar Nimmakayala ,  Byung-Jin Choi ,  Tom H. Rafferty ,  Philip D. Schumaker

IPC分类号： B29C35/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7088

摘要： A imprint lithography system operable for imprinting a pattern into a material deposited between an imprint mold and a substrate, the system including, inter alia, a first set of imaging units positioned at a first angle relative to normal of the substrate; and a second set of imaging units positioned at a second angle relative to normal of the substrate, wherein the first and second angles are not equal to each other.

摘要翻译： 压印光刻系统，其可操作用于将图案压印到沉积在压印模具和衬底之间的材料中，该系统尤其包括相对于衬底法线定位成第一角度的第一组成像单元; 以及第二组成像单元，其相对于基板的法线定位成第二角度，其中第一和第二角度彼此不相等。

公开(公告)号：US20090148032A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：US12328350

申请日：2008-12-04

申请人： Philip D. Schumaker ,  Tom H. Rafferty ,  Niyaz Khusnatdinov ,  Dwayne L. LaBrake

发明人： Philip D. Schumaker ,  Tom H. Rafferty ,  Niyaz Khusnatdinov ,  Dwayne L. LaBrake

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06K9/3216 ,  G06T7/33

摘要： Methods of determining relative spatial parameters between two substrates in a process of alignment are described. Generally, multiple alignment data may be collected from phase information using a pair of alignment marks.

摘要翻译： 描述了在对准过程中确定两个基板之间的相对空间参数的方法。 通常，可以使用一对对准标记从相位信息收集多个对准数据。

公开(公告)号：US20090147237A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：US12328327

申请日：2008-12-04

申请人： Philip D. Schumaker ,  Babak Mokaberi ,  Tom H. Rafferty

发明人： Philip D. Schumaker ,  Babak Mokaberi ,  Tom H. Rafferty

IPC分类号： G01B11/00 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088

摘要： Methods for locating an alignment mark on a substrate are described. Generally, the substrate includes one or more locator marks adjacent to a substrate alignment mark. Locator marks provide the relative location of the substrate alignment mark such that the substrate alignment mark may be used in aligning a substrate with a template within a lithographic system with a reduced magnitude of relative displacement.

摘要翻译： 描述了在基板上定位对准标记的方法。 通常，衬底包括与衬底对准标记相邻的一个或多个定位器标记。 定位标记提供了衬底对准标记的相对位置，使得可以使用衬底对准标记来将衬底与光刻系统内的模板对准，其中相对位移的幅度减小。