利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

14 条记录 (耗时 0.021 秒)

    Lithography system, modulation device and method of manufacturing a fiber fixation substrate
    2.
    发明授权
    Lithography system, modulation device and method of manufacturing a fiber fixation substrate 有权
    光刻系统，调制装置及其制造方法

    公开(公告)号：US09287081B2

    公开(公告)日：2016-03-15

    申请号：US13281558

    申请日：2011-10-26

    申请人： Ralph Van Melle ,  Teunis Van De Peut ,  Henk Derks

    发明人： Ralph Van Melle ,  Teunis Van De Peut ,  Henk Derks

    IPC分类号： H01J37/04 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/22 ,  H01J37/317

    CPC分类号： H01J37/045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/22 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0437

    摘要： The invention relates to a charged-particle multi-beamlet lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target. The system comprises a beam generator for generating a plurality of charged particle beamlets, a beamlet blanker array for patterning the beamlets in accordance with a pattern, and a projection system for projecting the patterned beamlets onto the target surface. The blanker array comprises a plurality of modulators and a plurality of light sensitive elements. The light sensitive elements are arranged to receive pattern data carrying light beams and to convert the light beams into electrical signals. The light sensitive elements are electrically connected to one or more modulators for providing the received pattern data. The blanker array is coupled to a fiber fixation substrate which accommodates end sections of a plurality of fibers for providing pattern data carrying light beams as an assembled group with a fixed connection.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于将图案转印到目标表面上的带电粒子多子束光刻系统。 该系统包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器，用于根据图案对子束进行图案化的子束遮断器阵列，以及用于将图案化的子束投影到目标表面上的投影系统。 遮光器阵列包括多个调制器和多个光敏元件。 光敏元件布置成接收携带光束的图案数据并将光束转换成电信号。 光敏元件电连接到一个或多个调制器以提供接收到的图案数据。 遮光器阵列耦合到光纤固定基板，该光纤固定基板容纳多个光纤的端部，用于提供携带光束的图案数据作为具有固定连接的组合组。

    DATA PATH FOR LITHOGRAPHY APPARATUS
    5.
    发明申请
    DATA PATH FOR LITHOGRAPHY APPARATUS 有权
    数据路径为LITHOGRAPHY设备

    公开(公告)号：US20120286168A1

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：US13290141

    申请日：2011-11-07

    申请人： Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    发明人： Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    IPC分类号： G06F11/20 ,  G21K5/04

    CPC分类号： H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31793

    摘要： A maskless charged particle lithography system comprises an electron-optical column and a data path. The column includes a blanker array including blanker elements. The data path comprises a preprocessing system, transmission channels, and a pattern streaming system. The lithography system is configured for exposing a target field in two passes by allocating a first beamlet subset for exposing a first field subset during a first pass and a second beamlet subset for exposing a second field subset during a second pass. A first beam selector selects a first pattern data subset containing exposure data for the first beamlet subset and a second pattern data subset containing exposure data for the second beamlet subset. Second beam selectors connect transmission channels assigned for transmitting the first pattern data subset to a first blanker elements subset, and transmission channels assigned for transmitting the second pattern data subset to a second blanker elements subset.

    摘要翻译： 无掩模带电粒子光刻系统包括电子 - 光学柱和数据路径。 该列包括一个包含消隐元素的消隐数组。 数据路径包括预处理系统，传输信道和模式流传输系统。 光刻系统被配置为通过在第一次通过期间分配用于暴露第一场子集的第一子束子集和用于在第二遍期间暴露第二场子集的第二子束子集来分两次通过中的目标场曝光。 第一光束选择器选择包含第一子束子集的曝光数据的第一图案数据子集和包含第二子束子集的曝光数据的第二图案数据子集。 第二光束选择器将分配用于发射第一图案数据子集的传输通道连接到第一消隐元素子集，以及分配用于将第二图案数据子集发送到第二消隐元素子集的传输信道。

    Charged particle beam modulator
    6.
    发明授权
    Charged particle beam modulator 有权
    带电粒子束调制器

    公开(公告)号：US08604411B2

    公开(公告)日：2013-12-10

    申请号：US13295252

    申请日：2011-11-14

    申请人： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Remco Jager ,  Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink ,  Teunis van de Peut ,  Henk Derks

    发明人： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Remco Jager ,  Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink ,  Teunis van de Peut ,  Henk Derks

    IPC分类号： H01J37/147 ,  G21K5/00

    CPC分类号： H01J37/045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/241 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/2482

    摘要： The invention relates to a charged particle lithography system comprising a beam generator for generating a plurality of charged particle beamlets, a beam stop array and a modulation device. The beam stop array has a surface for blocking beamlets from reaching a target surface and an aperture array in the surface for allowing beamlets to reach the target surface. The modulation device is arranged for modulating the beamlets by deflecting or not deflecting the beamlets so that the beamlets are blocked or not blocked by the beam stop array. A surface area of the modulation device comprises an elongated beam area comprising an array of apertures and associated modulators, and a power interface area for accommodating a power arrangement for powering elements within the modulation device. The power interface area is located alongside a long side of the elongated beam area and extending in a direction substantially parallel thereto.

    摘要翻译： 本发明涉及一种带电粒子光刻系统，其包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器，束阻止阵列和调制装置。 光束停止阵列具有用于阻挡子束到达目标表面的表面和表面中的孔径阵列，以允许子束到达目标表面。 调制装置被布置用于通过偏转或不偏转子束来调制子束，使得子束被阻挡或不被阻挡阵列阻挡。 调制装置的表面区域包括细长的波束区域，其包括孔阵列和相关联的调制器，以及用于容纳为调制装置内的元件供电的功率装置的电源接口区域。 电源接口区域位于细长波束区域的长边旁边并沿与其大致平行的方向延伸。

    Data path for lithography apparatus
    7.
    发明授权
    Data path for lithography apparatus 有权
    光刻设备的数据路径

    公开(公告)号：US08884255B2

    公开(公告)日：2014-11-11

    申请号：US13290141

    申请日：2011-11-07

    申请人： Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    发明人： Henk Derks ,  Marco Jan-Jaco Wieland ,  Teunis Van De Peut

    IPC分类号： H01J37/00 ,  H01J37/317 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： H01J37/3177 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31754 ,  H01J2237/31762 ,  H01J2237/31793

    摘要： A maskless charged particle lithography system comprises an electron-optical column and a data path. The column includes a blanker array including blanker elements. The data path comprises a preprocessing system, transmission channels, and a pattern streaming system. The lithography system is configured for exposing a target field in two passes by allocating a first beamlet subset for exposing a first field subset during a first pass and a second beamlet subset for exposing a second field subset during a second pass. A first beam selector selects a first pattern data subset containing exposure data for the first beamlet subset and a second pattern data subset containing exposure data for the second beamlet subset. Second beam selectors connect transmission channels assigned for transmitting the first pattern data subset to a first blanker elements subset, and transmission channels assigned for transmitting the second pattern data subset to a second blanker elements subset.

    摘要翻译： 无掩模带电粒子光刻系统包括电子 - 光学柱和数据路径。 该列包括一个包含消隐元素的消隐数组。 数据路径包括预处理系统，传输信道和模式流传输系统。 光刻系统被配置为通过在第一次通过期间分配用于暴露第一场子集的第一子束子集和用于在第二遍期间暴露第二场子集的第二子束子集来分两次通过中的目标场曝光。 第一光束选择器选择包含第一子束子集的曝光数据的第一图案数据子集和包含第二子束子集的曝光数据的第二图案数据子集。 第二光束选择器将分配用于发射第一图案数据子集的传输通道连接到第一消隐元素子集，以及分配用于将第二图案数据子集发送到第二消隐元素子集的传输信道。

    CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR
    8.
    发明申请
    CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR 有权
    充电颗粒光束调制器

    公开(公告)号：US20120292491A1

    公开(公告)日：2012-11-22

    申请号：US13295252

    申请日：2011-11-14

    申请人： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Remco Jager ,  Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink ,  Teunis Van De Peut ,  Henk Derks

    发明人： Marco Jan-Jaco Wieland ,  Remco Jager ,  Alexander Hendrik Vincent Van Veen ,  Stijn Willem Herman Karel Steenbrink ,  Teunis Van De Peut ,  Henk Derks

    IPC分类号： G21K5/04

    CPC分类号： H01J37/045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/241 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/2482

    摘要： The invention relates to a charged particle lithography system comprising a beam generator for generating a plurality of charged particle beamlets, a beam stop array and a modulation device. The beam stop array has a surface for blocking beamlets from reaching a target surface and an aperture array in the surface for allowing beamlets to reach the target surface. The modulation device is arranged for modulating the beamlets by deflecting or not deflecting the beamlets so that the beamlets are blocked or not blocked by the beam stop array. A surface area of the modulation device comprises an elongated beam area comprising an array of apertures and associated modulators, and a power interface area for accommodating a power arrangement for powering elements within the modulation device. The power interface area is located alongside a long side of the elongated beam area and extending in a direction substantially parallel thereto.

    摘要翻译： 本发明涉及一种带电粒子光刻系统，其包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器，束阻止阵列和调制装置。 光束停止阵列具有用于阻挡子束到达目标表面的表面和表面中的孔径阵列，以允许子束到达目标表面。 调制装置被布置用于通过偏转或不偏转子束来调制子束，使得子束被阻挡或不被阻挡阵列阻挡。 调制装置的表面区域包括细长的波束区域，其包括孔阵列和相关联的调制器，以及用于容纳为调制装置内的元件供电的功率装置的电源接口区域。 电源接口区域位于细长波束区域的长边旁边并沿与其大致平行的方向延伸。

    CONTROLLABLE OPTICAL COMPONENT
    9.
    发明申请
    CONTROLLABLE OPTICAL COMPONENT 审中-公开
    可控光学元件

    公开(公告)号：US20090185280A1

    公开(公告)日：2009-07-23

    申请号：US11719309

    申请日：2005-11-07

    申请人： Ivon F. Helwegen ,  Stein Kuiper ,  Henk Derks ,  Bernardus H.W. Hendriks

    发明人： Ivon F. Helwegen ,  Stein Kuiper ,  Henk Derks ,  Bernardus H.W. Hendriks

    IPC分类号： G02B3/14

    CPC分类号： G02B26/005 ,  G02B3/14

    摘要： A controllable optical system has an optical component comprising a chamber housing first and second fluids, the interface between the fluids defining a boundary surface (15;88a,88b) and an electrode arrangement (14,16;86,87) for electrically controlling the shape of the boundary surface. A drive circuit is operable in an operative mode and an inoperative, power saving mode, and a storage capacitor maintains a signal on the electrode arrangement during the inoperative mode. Feedback is used control switching of the drive circuit between modes taking into account the boundary surface conditions.

    摘要翻译： 可控光学系统具有光学部件，该光学部件包括容纳第一和第二流体的腔室，流体之间的界面限定了边界表面（15; 88a，88b）和电极装置（14,16; 86,87） 边界面的形状。 驱动电路在操作模式和不工作的省电模式下操作，并且存储电容器在非操作模式期间在电极装置上保持信号。 反馈用于考虑边界表面条件的模式之间的驱动电路的控制切换。

    Telecommunication circuit and a telecommunication device
    10.
    发明授权
    Telecommunication circuit and a telecommunication device 失效
    电信电路和电信设备

    公开(公告)号：US06233334B1

    公开(公告)日：2001-05-15

    申请号：US09015753

    申请日：1998-01-30

    申请人： Henk Derks

    发明人： Henk Derks

    IPC分类号： H04M176

    CPC分类号： H04M1/76 ,  H04M19/08

    摘要： An interface circuit has a circuit input. The circuit has a first controlled amplifier combined with an at least resistive element. The first amplifier provides at a first output a first output current dependent on a voltage of the circuit input. The circuit also has a second controlled current amplifier. The second amplifier provides at a second output a second output current dependent on a current of the circuit input. The second output is coupled to the first output. The circuit further comprises a third controlled current with a third input. The third input is coupled to the first and second outputs.

    摘要翻译： 接口电路具有电路输入。 电路具有与至少电阻元件组合的第一控制放大器。 第一放大器在第一输出端提供取决于电路输入的电压的第一输出电流。 该电路还具有第二受控电流放大器。 第二放大器在第二输出端提供取决于电路输入的电流的第二输出电流。 第二输出耦合到第一输出。 电路还包括具有第三输入的第三受控电流。 第三输入耦合到第一和第二输出。