公开(公告)号：US20110073785A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12996029

申请日：2009-06-04

申请人： Renaud Mercier-Ythier ,  Roland Geyl

发明人： Renaud Mercier-Ythier ,  Roland Geyl

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B17/061 ,  G02B17/0694 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70166 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

摘要： The invention relates to a radiation collector (10) designed to concentrate part of the radiation produced by a source on a spot (100). The collector includes a primary concave mirror (1) and a secondary convex mirror (2), each being rotationally symmetrical about an optical axis (X-X) of the collector. The primary mirror is configured to reflect the radiation collected with an angle of incidence (i) that is substantially constant between different points on said main mirror. Such a collector is particularly suitable for use with a discharge produced plasma source.

摘要翻译： 本发明涉及一种设计用于将由源产生的辐射的一部分集中在点（100）上的辐射收集器（10）。 收集器包括一个初级凹面镜（1）和一个副凸面镜（2），它们都围绕收集器的光轴（X-X）旋转对称。 主镜被配置成以在所述主镜上的不同点之间基本上恒定的入射角（i）反射所收集的辐射。 这种集电器特别适用于放电产生的等离子体源。

公开(公告)号：US20090244696A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12226038

申请日：2007-04-04

申请人： Roland Geyl ,  Vincent Patoz ,  Francois Riguet ,  Francois Dufresne De Virel

发明人： Roland Geyl ,  Vincent Patoz ,  Francois Riguet ,  Francois Dufresne De Virel

IPC分类号： G02B5/10

CPC分类号： G03F7/70175

摘要： Device for collecting a flux of electromagnetic radiation in the extreme ultraviolet (EUV) emitted by a source (S), comprising a main, first collector stage (E1), with a concave collector mirror (2) placed in front of the source (S) at a distance of greater than 250 mm and pierced by a central hole (3) and a convex mirror (4) placed behind the concave mirror level with the source and pierced by a central hole (5), and at least a second collector stage (E2) with a concave collector mirror (7) placed in front of the stage (E1) and pierced by a central hole (8) and a convex mirror (9) placed behind the concave mirror.

摘要翻译： 用于收集由源（S）发射的极紫外（EUV）中的电磁辐射通量的装置，包括主要的第一收集器台（E1）和放置在源极（S）前面的凹集电镜 ），大于250mm的距离并且被中心孔（3）刺穿并且被凸起的反射镜（4）设置在所述凹面镜面的后面与所述源并被中心孔（5）刺穿，并且至少第二收集器 平台（E2），其具有放置在台架（E1）的前面并被中心孔（8）刺穿的凹集电镜（7）和设置在凹面镜后面的凸面镜（9）。

公开(公告)号：US06356388B1

公开(公告)日：2002-03-12

申请号：US09242176

申请日：1999-12-28

申请人： Roland Geyl

发明人： Roland Geyl

IPC分类号： G02B1700

CPC分类号： G02B17/0657

摘要： The invention relates to a wide-angle catoptric system. The system comprises a convex primary mirror (M1), a secondary mirror (M2), a tertiary mirror (M3), and a quaternary mirror (M4), and it is characterized in that the secondary mirror (M2) is convex. The invention is particularly applicable to astronomical or space observation over a broad spectral range.

摘要翻译： 本发明涉及一种广角反射系统。 该系统包括凸形主镜（M1），副镜（M2），第三镜（M3）和四分镜（M4），其特征在于副镜（M2）是凸的。 本发明特别适用于广谱范围内的天文观测或空间观测。

公开(公告)号：US08023182B2

公开(公告)日：2011-09-20

申请号：US12226038

申请日：2007-04-04

申请人： Roland Geyl ,  Vincent Patoz ,  François Riguet ,  François Dufresne De Virel

发明人： Roland Geyl ,  Vincent Patoz ,  François Riguet ,  François Dufresne De Virel

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： G03F7/70175

摘要： Device for collecting a flux of electromagnetic radiation in the extreme ultraviolet (EUV) emitted by a source, including a main, first collector stage, with a concave collector mirror placed in front of the source at a distance of greater than 250 mm and pierced by a central hole, and a convex mirror placed behind the concave mirror level with the source and pierced by a central hole, and at least a second collector stage with a concave collector mirror placed in front of the stage and pierced by a central hole and a convex mirror placed behind the concave mirror.

摘要翻译： 用于收集由源（包括主要的第一收集器台）发射的极紫外（EUV）中的电磁辐射通量的装置，其具有以大于250mm的距离放置在源的前方的凹集电镜，并被 一个中心孔和一个凸起的镜子，放置在凹面镜面的后面，与源头一起被中心孔刺穿，并且至少一个第二收集器台带有一个凹形收集器镜子，放置在舞台的前面，并被中心孔和 凸镜放置在凹面镜后面。

公开(公告)号：US07593091B2

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：US11666073

申请日：2005-10-25

申请人： Roland Geyl

发明人： Roland Geyl

IPC分类号： G03B27/70 ,  G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B26/08

CPC分类号： G03F7/70266 ,  G02B13/143 ,  G02B26/06

摘要： The imaging or exposure device comprises a radiation source (1), a reticle (3) mounted between the radiation source and an optical projection system (4) for shaping the radiation downstream from the reticle (3), the optical projection system (4) comprising a series of mirrors (7, 8, 10, 11) including at least two mirrors (10, 11) that are deformable, having deformer members (12, 13) connected to a control unit (14) associated with an image analyzer (15) to deform the two deformable mirrors in separate manner, firstly as a function of differences relative to an image quality setpoint, and second as a function of differences relative to an image distortion setpoint.

摘要翻译： 成像或曝光装置包括辐射源（1），安装在辐射源和光学投影系统（4）之间的掩模版（3），用于使来自掩模版（3）下游的辐射成形，光学投影系统（4） 包括一系列反射镜（7,8,10,11），其包括可变形的至少两个反射镜（10,11），其具有连接到与图像分析器相关联的控制单元（14）的变形构件（12,13） 15）以分离的方式使两个可变形反射镜变形，首先作为相对于图像质量设定点的差异的函数，而第二个作为相对于图像失真设定点的差的函数。

公开(公告)号：US20080088811A1

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：US11666073

申请日：2005-10-25

申请人： Roland Geyl

发明人： Roland Geyl

IPC分类号： G03B27/68

CPC分类号： G03F7/70266 ,  G02B13/143 ,  G02B26/06

摘要： The imaging or exposure device comprises a radiation source (1), a reticle (3) mounted between the radiation source and an optical projection system (4) for shaping the radiation downstream from the reticle (3), the optical projection system (4) comprising a series of mirrors (7, 8, 10, 11) including at least two mirrors (10, 11) that are deformable, having deformer members (12, 13) connected to a control unit (14) associated with an image analyzer (15) to deform the two deformable mirrors in separate manner, firstly as a function of differences relative to an image quality setpoint, and second as a function of differences relative to an image distortion setpoint.

摘要翻译： 成像或曝光装置包括辐射源（1），安装在辐射源和光学投影系统（4）之间的掩模版（3），用于使来自掩模版（3）下游的辐射成形，光学投影系统（4） 包括一系列反射镜（7,8,10,11），其包括可变形的至少两个反射镜（10,11），其具有连接到与图像分析器相关联的控制单元（14）的变形构件（12,13） 15）以分离的方式使两个可变形反射镜变形，首先作为相对于图像质量设定点的差异的函数，而第二个作为相对于图像失真设定点的差的函数。