公开(公告)号：US20100173033A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：US12715915

申请日：2010-03-02

申请人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

发明人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C35/08

CPC分类号： G11B5/855 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/003 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  Y10S977/887

摘要： An imprint lithography template may be used to form an imprinted layer in a light curable liquid disposed on a substrate. During use, the template may be disposed within a template holder. The template holder may include a body with an opening configured to receive the template, a support plate, and an actuator system coupled to the body. The actuator system may be configured to alter a physical dimension of the template during use.

摘要翻译： 可以使用压印光刻模板来在设置在基板上的可光固化液体中形成印刷层。 在使用期间，模板可以设置在模板保持器内。 模板保持器可以包括具有构造成接收模板的开口的主体，支撑板和联接到主体的致动器系统。 致动器系统可以被配置为在使用期间改变模板的物理尺寸。

公开(公告)号：US20080199816A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：US11774710

申请日：2007-07-09

申请人： Byung J. Choi ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

发明人： Byung J. Choi ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/164 ,  H01L2224/29012 ,  H01L2224/3003 ,  H01L2224/3016 ,  H01L2924/01067 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed herein is an automatic fluid dispensing method and system for dispensing fluid on the surface of a plate-like material, or substrate, including a semiconductor wafer for imprint lithography processes. The dispensing method uses fluid dispenser and a substrate stage that may generate relative lateral motions between a fluid dispenser tip a substrate. Also described herein are methods and devices for creating a planar surface on a substrate using a substantially unpatterned planar template.

摘要翻译： 本文公开了一种用于在板状材料或基板的表面上分配流体的自动流体分配方法和系统，其包括用于压印光刻工艺的半导体晶片。 分配方法使用流体分配器和可在流体分配器尖端基底之间产生相对侧向运动的基底台。 本文还描述了使用基本上未图案化的平面模板在衬底上创建平面表面的方法和装置。

公开(公告)号：US06954275B2

公开(公告)日：2005-10-11

申请号：US09920341

申请日：2001-08-01

申请人： Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

发明人： Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

IPC分类号： G01B11/14 ,  B29C31/04 ,  B29C35/08 ,  B29C43/02 ,  B29C59/02 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： B29C43/021 ,  B29C31/045 ,  B29C31/047 ,  B29C35/0888 ,  B29C43/003 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2037/90 ,  B29C2043/025 ,  B29D11/0023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00

摘要： Described are high precision gap and orientation measurement methods between a template and a substrate used in imprint lithography processes. Gap and orientation measurement methods presented here include uses of broad-band light based measuring techniques.

摘要翻译： 描述了在压印光刻工艺中使用的模板和衬底之间的高精度间隙和取向测量方法。 这里介绍的差距和方向测量方法包括使用宽带光基测量技术。

公开(公告)号：US06919152B2

公开(公告)日：2005-07-19

申请号：US10445863

申请日：2003-05-27

申请人： S. V. Sreenivasan ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey

发明人： S. V. Sreenivasan ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey

IPC分类号： G02B5/18 ,  B29C35/08 ,  B29C37/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F9/00 ,  G03B17/00

CPC分类号： B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  Y10S101/36 ,  Y10T428/24802

摘要： A system of determining and correcting alignment during imprint lithography process is described. During an imprint lithographic process the template may be aligned with the substrate by the use of alignment marks disposed on both the template and substrate. The alignment may be determined and corrected for before the layer is processed.

摘要翻译： 描述了在压印光刻工艺期间确定和校正对准的系统。 在压印光刻工艺期间，模板可以通过使用设置在模板和衬底上的对准标记与衬底对准。 可以在层被处理之前确定和校正对准。

公开(公告)号：US06696220B2

公开(公告)日：2004-02-24

申请号：US09976681

申请日：2001-10-12

申请人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

发明人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

IPC分类号： G03C176

CPC分类号： G11B5/855 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/003 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  Y10S977/887

摘要： Described are imprint lithography templates, methods of forming and using the templates, and a template holder device. An imprint lithography template may include a body with a plurality of recesses on a surface of the body. The body may be of a material that is substantially transparent to activating light. At least a portion of the plurality of recesses may define features having a feature size less than about 250 nm. A template may be formed by obtaining a material that is substantially transparent to activating light and forming a plurality or recesses on a surface of the template. In some embodiments, a template may further include at least one alignment mark. In some embodiments, a template may further include a gap sensing area. An imprint lithography template may be used to form an imprinted layer in a light curable liquid disposed on a substrate. During use, the template may be disposed within a template holder. The template holder may include a body with an opening configured to receive the template, a support plate, and at least one piezo actuator coupled to the body. The piezo actuator may be configured to alter a physical dimension of the template during use.

摘要翻译： 描述了压印光刻模板，形成和使用模板的方法以及模板保持装置。 压印光刻模板可以包括在主体的表面上具有多个凹部的主体。 身体可以是对于激活光是基本上透明的材料。 多个凹部的至少一部分可以限定具有小于约250nm的特征尺寸的特征。 可以通过获得对于激活光而基本上透明并在模板的表面上形成多个或多个凹陷的材料来形成模板。 在一些实施例中，模板还可以包括至少一个对准标记。 在一些实施例中，模板还可以包括间隙感测区域。 可以使用压印光刻模板来在设置在基板上的可光固化液体中形成印刷层。 在使用期间，模板可以设置在模板保持器内。 模板保持器可以包括具有构造成接收模板的开口的主体，支撑板和耦合到主体的至少一个压电致动器。 压电致动器可以被配置为在使用期间改变模板的物理尺寸。