公开(公告)号：US20100173033A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：US12715915

申请日：2010-03-02

申请人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

发明人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

IPC分类号： B29C59/02 ,  B29C35/08

CPC分类号： G11B5/855 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/003 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  Y10S977/887

摘要： An imprint lithography template may be used to form an imprinted layer in a light curable liquid disposed on a substrate. During use, the template may be disposed within a template holder. The template holder may include a body with an opening configured to receive the template, a support plate, and an actuator system coupled to the body. The actuator system may be configured to alter a physical dimension of the template during use.

摘要翻译： 可以使用压印光刻模板来在设置在基板上的可光固化液体中形成印刷层。 在使用期间，模板可以设置在模板保持器内。 模板保持器可以包括具有构造成接收模板的开口的主体，支撑板和联接到主体的致动器系统。 致动器系统可以被配置为在使用期间改变模板的物理尺寸。

公开(公告)号：US20080199816A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：US11774710

申请日：2007-07-09

申请人： Byung J. Choi ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

发明人： Byung J. Choi ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/164 ,  H01L2224/29012 ,  H01L2224/3003 ,  H01L2224/3016 ,  H01L2924/01067 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed herein is an automatic fluid dispensing method and system for dispensing fluid on the surface of a plate-like material, or substrate, including a semiconductor wafer for imprint lithography processes. The dispensing method uses fluid dispenser and a substrate stage that may generate relative lateral motions between a fluid dispenser tip a substrate. Also described herein are methods and devices for creating a planar surface on a substrate using a substantially unpatterned planar template.

摘要翻译： 本文公开了一种用于在板状材料或基板的表面上分配流体的自动流体分配方法和系统，其包括用于压印光刻工艺的半导体晶片。 分配方法使用流体分配器和可在流体分配器尖端基底之间产生相对侧向运动的基底台。 本文还描述了使用基本上未图案化的平面模板在衬底上创建平面表面的方法和装置。

公开(公告)号：US20080020198A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11831137

申请日：2007-07-31

申请人： Todd Bailey ,  Colin Brodsky ,  Allen Gabor

发明人： Todd Bailey ,  Colin Brodsky ,  Allen Gabor

IPC分类号： B32B3/26 ,  B05D5/12 ,  C23F1/00

CPC分类号： H01L21/76802 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76816 ,  Y10T428/24322 ,  Y10T428/24331 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/249953

摘要： A structure and a method for forming the same. The method comprises providing a structure including (a) a hole layer, (b) a BARC (bottom antireflective coating) layer on the top of the hole layer, and (c) a patterned photoresist layer on top of the BARC layer and having a photoresist hole; etching the BARC layer through the photoresist hole to extend the photoresist hole to the hole layer; performing the chemical shrinking process to shrink the extended photoresist hole; and etching the hole layer through the shrunk, extended photoresist hole so as to form a hole in the hole layer.

摘要翻译： 一种结构及其形成方法。 该方法包括提供一种结构，其包括（a）空穴层，（b）在空穴层顶部的BARC（底部抗反射涂层）层，和（c）在BARC层的顶部上的图案化光致抗蚀剂层， 光致抗蚀剂孔; 通过光致抗蚀剂孔蚀刻BARC层以将光致抗蚀剂孔延伸到孔层; 执行化学收缩过程以收缩延伸的光致抗蚀剂孔; 并且通过收缩的延伸的光致抗蚀剂孔蚀刻孔层，以在孔层中形成孔。

公开(公告)号：US07060324B2

公开(公告)日：2006-06-13

申请号：US10755918

申请日：2004-01-13

申请人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

发明人： Todd Bailey ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  Sidlgata V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  John Ekerdt

IPC分类号： B05D1/32

CPC分类号： G11B5/855 ,  B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/003 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  Y10S977/887

摘要： The present invention includes a method of moving a liquid between a substrate extending in a first plane and a template extending in a second plane. More specifically, the method may include forming an oblique angle between the first plane and the second plane, reducing a distance between the substrate and the template such that the template is in contact with a portion of the liquid at a desired location, and creating a dispersion of the liquid away from the desired location.

摘要翻译： 本发明包括一种在第一平面中延伸的基板和在第二平面中延伸的模板之间移动液体的方法。 更具体地，该方法可以包括在第一平面和第二平面之间形成倾斜角度，减小基板和模板之间的距离，使得模板在期望位置与液体的一部分接触，并且产生 液体离开所需位置分散。

公开(公告)号：US20060110666A1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：US10995714

申请日：2004-11-23

申请人： Sajan Marokkey ,  Wai-Kin Li ,  Todd Bailey

发明人： Sajan Marokkey ,  Wai-Kin Li ,  Todd Bailey

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70941

摘要： A stray light feedback system and method for a lithography exposure tool. The stray light feedback helps control critical dimension (CD) within a stray light specification limit. A stray light dose control factor is calculated as a function of the stray light measured in the exposure tool and the sensitivity of the resist. The stray light dose control factor is used to adjust the exposure dose to achieve the desired CD. The stray light may be monitored, and if a threshold level of stray light is reached or exceeded, the use of the exposure tool may be discontinued for a particular type of semiconductor product, resist, or mask level, until the lens system is cleaned.

公开(公告)号：US20080072334A1

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：US11856995

申请日：2007-09-18

申请人： Todd Bailey ,  Jonathan Bailey ,  Christopher Eley ,  Rex Eley

发明人： Todd Bailey ,  Jonathan Bailey ,  Christopher Eley ,  Rex Eley

IPC分类号： G06F21/22

CPC分类号： G06Q10/10

摘要： A system for providing users with electronic access to multiple electronic collaboration services via a single electronic work center with a single user home page is disclosed that provides routing of users amongst multiple electronic work centers, each with access to a centralized electronic signature service. User information remains accessible from the user's home page while the user accessed functionality in other work centers can be controlled according to the access and authority credentials and rules specified by each third party work center administrator. In addition, electronic signatures can be applied in the work center environment, including via integrated audio and web conferencing with document management. The work center environment can be used to manage an electronic document to be electronically signed by any number of individuals in remote locations, with any of these signings being performed on a single computer in a single location hosted by an independent third.

摘要翻译： 公开了一种用于通过具有单个用户主页的单个电子工作中心向用户提供对多个电子协作服务的电子访问的系统，其提供多个电子工作中心之间的用户的路由，每个电子工作中心具有对集中式电子签名服务的访问。 用户信息仍然可以从用户主页访问，而用户访问其他工作中心的功能可以根据每个第三方工作中心管理员指定的访问权限凭证和规则进行控制。 此外，电子签名可以在工作中心环境中应用，包括通过集成音频和Web会议与文档管理。 工作中心环境可用于管理由远程位置的任何数量的个人进行电子签名的电子文档，这些签名中的任何一个在由独立第三方托管的单个位置的单个计算机上执行。

公开(公告)号：US20070010091A1

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：US11160670

申请日：2005-07-05

申请人： Todd Bailey ,  Colin Brodsky ,  Allen Gabor

发明人： Todd Bailey ,  Colin Brodsky ,  Allen Gabor

IPC分类号： H01L21/4763

CPC分类号： H01L21/76802 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76816 ,  Y10T428/24322 ,  Y10T428/24331 ,  Y10T428/24521 ,  Y10T428/249953

摘要： A structure and a method for forming the same. The method comprises providing a structure including (a) a hole layer, (b) a BARC (bottom antireflective coating) layer on the top of the hole layer, and (c) a patterned photoresist layer on top of the BARC layer and having a photoresist hole; etching the BARC layer through the photoresist hole to extend the photoresist hole to the hole layer; performing the chemical shrinking process to shrink the extended photoresist hole; and etching the hole layer through the shrunk, extended photoresist hole so as to form a hole in the hole layer.

摘要翻译： 一种结构及其形成方法。 该方法包括提供一种结构，其包括（a）空穴层，（b）在空穴层顶部的BARC（底部抗反射涂层）层，和（c）在BARC层的顶部上的图案化光致抗蚀剂层， 光致抗蚀剂孔; 通过光致抗蚀剂孔蚀刻BARC层以将光致抗蚀剂孔延伸到孔层; 执行化学收缩过程以收缩延伸的光致抗蚀剂孔; 并且通过收缩的延伸的光致抗蚀剂孔蚀刻孔层，以在孔层中形成孔。

公开(公告)号：US20060145398A1

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：US11027473

申请日：2004-12-30

申请人： Todd Bailey ,  Nicholas Stacey ,  Edward Engbrecht ,  John Ekerdt

发明人： Todd Bailey ,  Nicholas Stacey ,  Edward Engbrecht ,  John Ekerdt

IPC分类号： B29C33/60

CPC分类号： B81C1/0046 ,  B29C33/58 ,  B29C33/60

摘要： The present invention pertains to disposing a diamond-like composition on a template, wherein the diamond-like composition acts as a release layer. The diamond-like composition is substantially transparent to actinic radiation, e.g., ultraviolet (UV) light, and will also have a desired surface energy, wherein the desired surface energy minimizes adhesion between the template and an underlying material disposed on a substrate. The diamond-like composition is characterized with a low surface energy that exhibits desirable release characteristics.

摘要翻译： 本发明涉及在模板上设置类金刚石组合物，其中类金刚石组合物用作剥离层。 类金刚石组合物对于光化辐射（例如紫外线（UV））光是基本上透明的，并且还将具有所需的表面能，其中期望的表面能使最小化模板和布置在基底上的下层材料之间的粘合性。 金刚石组合物的特征在于表现出所需释放特性的低表面能。

公开(公告)号：US06986975B2

公开(公告)日：2006-01-17

申请号：US10818099

申请日：2004-04-05

申请人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey

发明人： Sidlgata V. Sreenivasan ,  Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  Todd Bailey

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： B29C35/0888 ,  B29C37/0053 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00 ,  Y10S101/36 ,  Y10T428/24802

摘要： The present invention includes a method of determining an alignment between a substrate and a template spaced-apart from the substrate and having a distance defined therebetween, the substrate having a first pattern disposed thereon and the template having a second pattern disposed thereon, the method including, sensing the first and the second pattern, with the distance being established such that the first and the second pattern form a desired moiré pattern when the template and the substrate are in a desired spatial relationship.

摘要翻译： 本发明包括一种确定衬底和与衬底间隔开的并具有在其间限定的距离的模板之间的对准的方法，所述衬底具有设置在其上的第一图案，并且所述模板具有设置在其上的第二图案，所述方法包括 感测第一和第二图案，其中建立距离使得当模板和衬底处于期望的空间关系时，第一和第二图案形成期望的莫尔图案。

公开(公告)号：US06954275B2

公开(公告)日：2005-10-11

申请号：US09920341

申请日：2001-08-01

申请人： Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

发明人： Byung J. Choi ,  Matthew Colburn ,  S. V. Sreenivasan ,  C. Grant Willson ,  Todd Bailey ,  John Ekerdt

IPC分类号： G01B11/14 ,  B29C31/04 ,  B29C35/08 ,  B29C43/02 ,  B29C59/02 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： B29C43/021 ,  B29C31/045 ,  B29C31/047 ,  B29C35/0888 ,  B29C43/003 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2037/90 ,  B29C2043/025 ,  B29D11/0023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/00

摘要： Described are high precision gap and orientation measurement methods between a template and a substrate used in imprint lithography processes. Gap and orientation measurement methods presented here include uses of broad-band light based measuring techniques.

摘要翻译： 描述了在压印光刻工艺中使用的模板和衬底之间的高精度间隙和取向测量方法。 这里介绍的差距和方向测量方法包括使用宽带光基测量技术。