公开(公告)号：US20050233076A1

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：US11111100

申请日：2005-04-20

申请人： Shao-Ming Hsu ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Yu-Ying Chan ,  Tseng-Kuei Tseng ,  Ho-Li Hsieh ,  Chen-Kun Teng

发明人： Shao-Ming Hsu ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Yu-Ying Chan ,  Tseng-Kuei Tseng ,  Ho-Li Hsieh ,  Chen-Kun Teng

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/32

CPC分类号： H01L21/68735 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6875 ,  H01L21/68757

摘要： An apparatus (20) for supporting a substrate (S2) includes a number of slats (28), a number of connecting blocks (24) separately positioned on the slats, and a number of soft sleeves (22) connected with the connecting blocks, respectively. Because top surfaces of the soft sleeves are shaped as annular, the force applied between the substrate and the soft sleeves is distributed, and is reduced at each contact point. The surface of the substrate is hardly if at all deformed by the soft sleeves, thereby reducing the risk of or even altogether preventing the formation of undulations. The quality of the pattern to be processed is improved.

摘要翻译： 用于支撑基板（S 2）的装置（20）包括多个板条（28），分开定位在板条上的多个连接块（24）和与连接块连接的多个软套筒（22） ， 分别。 由于软套筒的顶面形状为环形，所以施加在基体和软套之间的力分布，并在每个接触点处被减小。 如果通过软套筒变形，基材的表面几乎不变，从而降低或甚至完全防止起伏形成的风险。 要处理的图案的质量得到改善。

公开(公告)号：US20050235910A1

公开(公告)日：2005-10-27

申请号：US11111101

申请日：2005-04-20

申请人： Chen Teng ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Yu-Ying Chan ,  Tseng-Kuei Tseng ,  Ho-Li Hsieh

发明人： Chen Teng ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Yu-Ying Chan ,  Tseng-Kuei Tseng ,  Ho-Li Hsieh

IPC分类号： B05B7/00 ,  B05C5/00 ,  B05C5/02 ,  B05C9/10 ,  B05C15/00 ,  B08B5/04 ,  B08B7/02 ,  G03F7/16

CPC分类号： B08B5/04 ,  B05C5/0254 ,  B05C9/10 ,  B08B7/028 ,  G03F7/16

摘要： A coating apparatus (20) for forming a photoresist film on a substrate (21) includes a flat table (30), a nozzle unit (40), and a particle cleaning unit (50). The flat table is used for supporting the substrate. The nozzle unit is used for dispensing photoresist material on a top surface of the substrate. The particle cleaning unit is used for removing particles from the top surface before the photoresist material is coated thereon. The coating apparatus can timely clean the substrate before coating. The coating performance is improved, and the nozzle unit is protected from being scratched or damaged.

摘要翻译： 用于在基板（21）上形成光致抗蚀剂膜的涂布装置（20）包括平台（30），喷嘴单元（40）和颗粒清洁单元（50）。 平台用于支撑基板。 喷嘴单元用于在基板的顶表面上分配光致抗蚀剂材料。 颗粒清洁单元用于在光致抗蚀剂材料被涂覆之前从顶表面去除颗粒。 涂布装置可以在涂布之前及时清洁基材。 改善了涂层性能，并且防止喷嘴单元被划伤或损坏。

公开(公告)号：US07371023B2

公开(公告)日：2008-05-13

申请号：US11151870

申请日：2005-06-13

申请人： Yu-Ying Chan ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Tseng-Kui Tseng ,  Chen Kun Teng ,  Ho-Li Hsieh

发明人： Yu-Ying Chan ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Tseng-Kui Tseng ,  Chen Kun Teng ,  Ho-Li Hsieh

IPC分类号： G03D5/00

CPC分类号： B08B3/14 ,  G03F7/3092

摘要： An apparatus (100) for processing substrates includes: a substrate cleaning device (20), which cleans the substrates with treating liquid; a developing device (40); and a treating liquid recovery system (30), which is connected with the cleaning device and the developing device. The treating liquid recovery system can convey the treating liquid from the cleaning device to the developing device. Thus the treating liquid that has been used in the cleaning device can be reused in the developing device. Therefore the apparatus can economize on treating liquid and reduce costs.

摘要翻译： 一种用于处理衬底的设备（100），包括：用处理液清洗衬底的衬底清洗装置（20）; 显影装置（40）; 以及与清洁装置和显影装置连接的处理液回收系统（30）。 处理液回收系统可将处理液从清洗装置输送到显影装置。 因此，已经在清洁装置中使用的处理液体可以重新用于显影装置。 因此，该设备可以节省处理液体并降低成本。

公开(公告)号：US20050211789A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11092230

申请日：2005-03-28

申请人： Ho-Li Hsieh ,  Hung-Wen Yang ,  Ching-Lung Wang ,  Yu-Ying Chan ,  Tseng-Kuei Tseng

发明人： Ho-Li Hsieh ,  Hung-Wen Yang ,  Ching-Lung Wang ,  Yu-Ying Chan ,  Tseng-Kuei Tseng

IPC分类号： G06K19/06

CPC分类号： G06K19/06028

摘要： A glass substrate includes a two-dimensional barcode, which is provided on a peripheral region of a major surface of the glass substrate. A side of the two-dimensional barcode is oblique to a nearest side of the glass substrate. The two-dimensional barcode includes a reference line, and is for recording identification information of the glass substrate. If the two-dimensional barcode sustains partial damage at the nearest side of the glass substrate, there is a reasonable likelihood that only part of the side of the two-dimensional barcode will sustain damage. In such case, the risk of damage occurring to the reference line of the two-dimensional barcode is minimized. If the reference line remains intact, then the two-dimensional barcode can still be properly read.

摘要翻译： 玻璃基板包括设置在玻璃基板的主表面的周边区域上的二维条形码。 二维条形码的一侧与玻璃基板的最近侧倾斜。 二维条形码包括参考线，用于记录玻璃基板的识别信息。 如果二维条形码在玻璃基板的最近侧保持部分损伤，那么二维条形码只有部分侧面会有损坏的合理可能性。 在这种情况下，二维条形码的参考线发生损坏的危险被最小化。 如果参考线保持原样，则二维条形码仍然可以正确读取。

公开(公告)号：US20050274400A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US11151870

申请日：2005-06-13

申请人： Yu-Ying Chan ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Tseng-Kui Tseng ,  Chen Teng ,  Ho-Li Hsieh

发明人： Yu-Ying Chan ,  Ching-Lung Wang ,  Wen-Cheng Hsu ,  Tseng-Kui Tseng ,  Chen Teng ,  Ho-Li Hsieh

IPC分类号： B08B3/00 ,  B08B3/14 ,  G03C3/00 ,  G03C5/18 ,  G03C5/26 ,  G03D3/02 ,  G03F7/30

CPC分类号： B08B3/14 ,  G03F7/3092

摘要： An apparatus (100) for processing substrates includes: a substrate cleaning device (20), which cleans the substrates with treating liquid; a developing device (40); and a treating liquid recovery system (30), which is connected with the cleaning device and the developing device. The treating liquid recovery system can convey the treating liquid from the cleaning device to the developing device. Thus the treating liquid that has been used in the cleaning device can be reused in the developing device. Therefore the apparatus can economize on treating liquid and reduce costs.

摘要翻译： 一种用于处理衬底的设备（100），包括：用处理液清洗衬底的衬底清洗装置（20）; 显影装置（40）; 以及与清洁装置和显影装置连接的处理液回收系统（30）。 处理液回收系统可将处理液从清洗装置输送到显影装置。 因此，已经在清洁装置中使用的处理液体可以重新用于显影装置。 因此，该设备可以节省处理液体并降低成本。