公开(公告)号：US08007644B2

公开(公告)日：2011-08-30

申请号：US11454730

申请日：2006-06-16

申请人： Sung Eun Kim ,  Tae Hyun Lim ,  Kwang Jong Yoo ,  Byung Han Yun ,  Yang Sik Moon

发明人： Sung Eun Kim ,  Tae Hyun Lim ,  Kwang Jong Yoo ,  Byung Han Yun ,  Yang Sik Moon

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C14/50 ,  C23C14/568 ,  Y10S414/139

摘要： An inclined carrier transferring apparatus for use inline sputtering equipment. The inclined carrier transferring apparatus includes rollers and a guiding portion. The rollers transfer and support the bottom of a carrier. The guiding portion is installed diagonally with respect to the rollers, to support the top of the carrier in a non-contact manner.

摘要翻译： 一种用于在线溅射设备的倾斜载体传送装置。 倾斜载体传送装置包括辊和引导部。 辊子传送和支撑载体的底部。 引导部分相对于辊倾斜地安装，以非接触的方式支撑载体的顶部。

公开(公告)号：US08052850B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US11802174

申请日：2007-05-21

申请人： Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3407 ,  C23C14/352 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor for receiving a substrate, and a first target device disposed to be opposite to a center region of a substrate and at least second and third target devices disposed to be opposite to peripheral regions of the substrate, wherein the second and third target devices are rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括用于接收基板的基座和设置成与基板的中心区域相对的第一目标装置和设置成与基板的周边区域相对设置的至少第二和第三目标装置，其中第二和 第三目标装置是可旋转的。

公开(公告)号：US08741116B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13238500

申请日：2011-09-21

申请人： Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3407 ,  C23C14/352 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor for receiving a substrate, and a first target device disposed to be opposite to a center region of a substrate and at least second and third target devices disposed to be opposite to peripheral regions of the substrate, wherein the second and third target devices are rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括用于接收基板的基座和设置成与基板的中心区域相对的第一目标装置和设置成与基板的周边区域相对设置的至少第二和第三目标装置，其中第二和 第三目标装置是可旋转的。

公开(公告)号：US07708866B2

公开(公告)日：2010-05-04

申请号：US11471782

申请日：2006-06-21

申请人： Sung Eun Kim ,  Cheon Soo Lee ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Sung Eun Kim ,  Cheon Soo Lee ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： C23C14/3464 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/34

摘要： A sputtering apparatus comprises a substrate unit that includes a substrate on which a target material is deposited in a chamber and a target unit on which a plurality of target sections formed of the target material are arranged. The sputtering apparatus further comprises a cathode plate that supplies electric power to surfaces of the plurality of target sections and a plurality of gas supply ports provided on regions between the plurality of target sections.

摘要翻译： 溅射装置包括：基板单元，其包括其中在其中沉积靶材料的基板和其上布置有由目标材料形成的多个目标部分的目标单元。 溅射装置还包括向多个目标部分的表面提供电力的阴极板和设置在多个目标部分之间的区域上的多个气体供应端口。

公开(公告)号：US07981263B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11797775

申请日：2007-05-07

申请人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C25B9/00 ,  C25B11/00 ,  C25B13/00 ,  C23C14/00

CPC分类号： C23C14/352 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor having a substrate and a plurality of target devices facing the substrate and substantially parallel to each other, each target device being rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括具有基板的基座和面向基板并且基本上彼此平行的多个目标装置，每个目标装置可旋转。

公开(公告)号：US20070256933A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US11797775

申请日：2007-05-07

申请人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/32

CPC分类号： C23C14/352 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor having a substrate and a plurality of target devices facing the substrate and substantially parallel to each other, each target device being rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括具有基板的基座和面向基板并且基本上彼此平行的多个目标装置，每个目标装置可旋转。