公开(公告)号：US20100282709A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：US12774846

申请日：2010-05-06

申请人： Tae-Wook KANG ,  Ou-Hyon KIM ,  Chang-Soon JI ,  Hyun-Lae CHO ,  Chang-Guo AN ,  Jeong-Yeol LEE ,  Jae-Mork PARK

发明人： Tae-Wook KANG ,  Ou-Hyon KIM ,  Chang-Soon JI ,  Hyun-Lae CHO ,  Chang-Guo AN ,  Jeong-Yeol LEE ,  Jae-Mork PARK

IPC分类号： B44C1/22 ,  C23F1/08

CPC分类号： H01L51/0029 ,  H01J37/20 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/20235

摘要： A substrate plasma-processing apparatus for plasma-processing a surface of an electrode of an organic light emitting device. The substrate plasma-processing apparatus may adjust the distance between a first electrode and a substrate and adjust the distance between a second electrode and the substrate.

摘要翻译： 一种用于等离子体处理有机发光器件的电极表面的衬底等离子体处理设备。 衬底等离子体处理设备可以调节第一电极和衬底之间的距离并且调整第二电极和衬底之间的距离。