公开(公告)号：US5882843A

公开(公告)日：1999-03-16

申请号：US557841

申请日：1995-11-14

申请人： Takanori Kudo ,  Yuko Nozaki ,  Kazuya Nagao ,  Yuki Nanjo

发明人： Takanori Kudo ,  Yuko Nozaki ,  Kazuya Nagao ,  Yuki Nanjo

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/032

CPC分类号： G03F7/0388 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033

摘要： A photosensitive resin composition is disclosed.The photosensitive resin composition is characterized by containing (a) a reaction product of a polymer having a specific segment with (3,4-epoxycylohexyl)-methyl methacrylate, (b) a polymerization initiator allowing the initiation of the polymerization of said reaction product when irradiated with an actinic radiation, and (c) a solvent. Preferably, the composition further contains (d) a thermal crosslinker, a compound having a polymerizable unsaturated bond and/or a pigment in addition to the above ingredients.According to the present invention, there is provided the photosensitive resin composition which has such excellent characteristics that it has high sensitivity, it does not require a heat treatment between exposure-development steps, it causes little change of sensitivity and pattern shape with time from the exposure to the development, it has high heat resistance, it permits the use of an aqueous system in the development step and it has good storage stability.

摘要翻译： 公开了一种感光性树脂组合物。 感光性树脂组合物的特征在于含有（a）具有特定链段的聚合物与（3,4-环氧环己基） - 甲基丙烯酸甲酯的反应产物，（b）允许引发所述反应产物的聚合的聚合引发剂的反应产物， 用光化辐射照射，和（c）溶剂。 优选地，除了上述成分之外，组合物还含有（d）热交联剂，具有可聚合不饱和键的化合物和/或颜料。 根据本发明，提供了具有这样优异特性的感光性树脂组合物，其具有高灵敏度，不需要在曝光显影步骤之间进行热处理，因此随着时间的推移，敏感性和图案形状几乎不变化 暴露于开发中，其耐热性高，允许在显影步骤中使用水性体系，并且具有良好的储存稳定性。

公开(公告)号：US5641594A

公开(公告)日：1997-06-24

申请号：US507301

申请日：1995-08-25

申请人： Takanori Kudo ,  Yuko Nozaki ,  Kazuya Nagao ,  Yuki Nanjo ,  Hiroshi Okazaki ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Natsumi Suehiro

发明人： Takanori Kudo ,  Yuko Nozaki ,  Kazuya Nagao ,  Yuki Nanjo ,  Hiroshi Okazaki ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Natsumi Suehiro

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/031 ,  G03C5/56 ,  G03F7/012 ,  G03F7/033

CPC分类号： G03F7/008 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031

摘要： A colored, photosensitive resin composition of a pigment dispersing-type is disclosed.The colored, photosensitive resin composition is characterized by containing (a) a polymer having alcohlic or phenolic hydroxyl groups, (b) a compound capable of producing a nitrene when irradiated with an actinic radiation, (c) a pigment, and (d) a solvent. Preferably, the composition further contains (e) a heat crosslinking agent and/or (f) a compound having a polymerizable double bond in addition to the above ingredients.According to the present invention, the production of a color filter need not be performed in an inert gas atmosphere, does not require an oxygen barrier film and does not require heating during the period of from the exposure step to the development step. Thus, the use of the composition permits the color filter production steps to be made significantly simple so that the composition provides a great value in industrial utilization.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP94 / 02085 Sec。 371日期1995年8月25日 102（e）日期1995年8月25日PCT 1994年12月12日PCT PCT。 公开号WO95 / 18399 日期：1995年7月6日公开了一种着色的颜料分散型感光性树脂组合物。 着色的感光性树脂组合物的特征在于，含有（a）具有异羟基或酚羟基的聚合物，（b）当用光化辐射照射时能够产生硝酸的化合物，（c）颜料，（d） 溶剂。 优选地，除了上述成分之外，组合物还含有（e）热交联剂和/或（f）具有可聚合双键的化合物。 根据本发明，滤色器的制造不需要在惰性气体气氛中进行，在从曝光步骤到显影步骤的期间，不需要氧阻隔膜，不需要加热。 因此，使用该组合物可以使滤色器制造步骤显着简单，从而使组合物在工业应用中提供了巨大的价值。

公开(公告)号：US5595855A

公开(公告)日：1997-01-21

申请号：US390045

申请日：1995-02-17

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Georg Pawlowski

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： C08L25/00 ,  C08L25/18 ,  C08L59/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C1/72

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045

摘要： A chemically amplified radiation sensitive composition comprising: (a) a copolymer such as poly(4-hydroxystyrene-co-styrene), (b) a dissolution inhibitor such as polyacetal or (b') a crosslinking agent, (c) a radiation sensitive compound capable of generating an acid upon exposure to actinic radiation, (d) a radiation sensitive base capable of stabilizing the width of lines throughout steps from exposure to post-exposure bake treatment, and (e) a solvent for dissolving the components (a) to (d), can realize fine lines and spaces down to 0.22 microns, for example, using KrF laser, and possesses excellent heat and etch resistance and adhesiveness to substrates, and produces patterns with low standing waves arising due to substrate reflectiveness of exposed light.

摘要翻译： 一种化学增强的辐射敏感组合物，其包含：（a）共聚物如聚（4-羟基苯乙烯 - 共 - 苯乙烯），（b）溶解抑制剂如聚缩醛或（b'）交联剂，（c） 能够在暴露于光化辐射下产生酸的化合物，（d）能够在暴露于曝光后烘烤处理的步骤中稳定整个条纹宽度的辐射敏感性基质，和（e）用于溶解组分的溶剂（a） 至（d），可以实现例如使用KrF激光器至0.22微米的细线和间隔，并且具有优异的耐热和耐蚀刻性以及与衬底的粘附性，并且由于曝光的衬底反射性而产生具有低驻波的图案 。

公开(公告)号：US5663035A

公开(公告)日：1997-09-02

申请号：US420787

申请日：1995-04-12

申请人： Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Takanori Kudo ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Klaus Jurgen Przybilla

发明人： Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Takanori Kudo ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Klaus Jurgen Przybilla

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045

摘要： A radiation-sensitive mixture for use in the production of semiconductor elements, which has high sensitivity and high resolution, which can be developed by an aqueous alkaline solution, and which is based on a novel concept in that a stable acid latent image is controlled by using a radiation-decomposable base.The mixture is characterized by comprising as essential components a) a binder which is insoluble in water but soluble in an aqueous alkaline solution; b.sup.1) a compound having at least one bond which can be cleaved by an acid, or b.sup.2) a compound having at least one bond which is crosslinked with the compound a) by an acid; c) a compound which generates an acid when irradiated; and d) a basic iodonium compound.

摘要翻译： 用于生产半导体元件的辐射敏感性混合物，其具有高灵敏度和高分辨率，其可以通过碱性水溶液开发，并且其基于新的概念，其中稳定的酸潜像由 使用辐射分解碱。 该混合物的特征在于包含作为必需组分的a）不溶于水但可溶于碱性水溶液的粘合剂; b1）具有至少一个可被酸切割的键的化合物，或b2）具有至少一个键的化合物，其通过酸与化合物a）交联; c）当照射时产生酸的化合物; 和d）碱性碘鎓化合物。