公开(公告)号：US5852128A

公开(公告)日：1998-12-22

申请号：US922321

申请日：1997-09-03

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Georg Pawlowski ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Hiroshi Okazaki ,  Seiya Masuda ,  Satoru Funato ,  Tetsu Yamamoto

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Georg Pawlowski ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Hiroshi Okazaki ,  Seiya Masuda ,  Satoru Funato ,  Tetsu Yamamoto

IPC分类号： C09D125/18 ,  C08F8/00 ,  C08F212/14 ,  C08F8/14

CPC分类号： C08F8/00 ,  C08F12/22 ,  C08F8/30 ,  C08F8/34 ,  C08F212/14

摘要： Acid-labile group protected hydroxystyrene polymers having recurrent pendant groups such as 1-(2-methanecarbonyl oxyethoxy)ethoxy group and 1-(2-N-methylcarbamatoethoxy) ethoxy group. A resist containing the polymer, a photo acid generator, a base, additives and a solvent is sensitive to UV, electron beam and X-ray. In the resist, acid is formed in the exposed area during irradiation, which deprotects acid-labile group catalytically during application of post-exposure baking. Positive patterns are formed after development using an alkaline solution.

摘要翻译： 酸不稳定基团保护具有复发性侧基的羟基苯乙烯聚合物，例如1-（2-甲羰基氧基乙氧基）乙氧基和1-（2-N-甲基氨基甲酰基乙氧基）乙氧基。 含有聚合物，光酸产生剂，碱，添加剂和溶剂的抗蚀剂对UV，电子束和X射线敏感。 在抗蚀剂中，在照射期间在曝光区域形成酸，在施加曝光后烘烤时，催化剂对酸不稳定基团进行脱保护。 使用碱性溶液在显影后形成阳性图案。

公开(公告)号：US5843319A

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：US902072

申请日：1997-07-29

申请人： Klaus Juergen Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

发明人： Klaus Juergen Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  B01D15/00 ,  B01J39/00 ,  C02F1/42

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： A process for producing a solution of a basic or non-basic sulfonium compound (A) of formulae II-V: ##STR1## wherein R.sup.5, R.sup.6 and R.sup.7 each independently represent a C.sub.1 -C.sub.18 alkyl, aryl or heteroaryl group or an aryl group mono-, di- or tri-substituted with an alkyl, an alkylaryl, an aryl, a halogen, an alkoxy, a phenoxy, a thiophenol, a phenylsulfonyl or a phenylsulphenyl; Y represents (CH.sub.2).sub.n (wherein n is 0 or 1), O or S; R.sup.8 and R.sup.9 represent a C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, alkoxy or a halogen; R.sup.10 and R.sup.11 represent a C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, alkoxy or a halogen; n is 5 or 6; and X.sub.2.sup.- represents a basic anion having a pK.sub.B value of -3 to +5; comprising the steps of: (a) dissolving a sulfonium salt (B) in a metal-ion free polar or non-polar solvent to form a solution, said sulfonium salt (B) being selected from said formulae II-V, wherein R.sup.5 to R.sup.11, Y and n of said sulfonium salt (B) have the sane meaning as above and X.sub.2.sup.- represents a non-nucleophilic anion; (b) contacting said solution for a sufficient amount of time with a basic ion-exchange resin having a quaternary ammonium group to replace the anion of (B) with a hydroxide ion and to form a sulfonium hydroxide solution; (c) separating said sulfonium hydroxide solution from the resin; and optionally (d) adding an active hydrogen containing compound or its base-labile precursor to said sulfonium hydroxide solution to yield a solution of the sulfonium compound (A) wherein X.sub.2.sup.- represents a basic anion other than a hydroxy ion.

摘要翻译： 制备式II-V的碱性或非碱性锍化合物（A）的溶液的方法：[SR5R6R7] + X2-Ⅱ其中R5，R6和R7各自独立地 独立地表示C1-C18烷基，芳基或杂芳基或被烷基，烷基芳基，芳基，卤素，烷氧基，苯氧基，苯硫酚，苯基磺酰基或苯基磺酰基单 - ，二 - 或三 - 取代的芳基 苯基磺酰基; Y表示（CH 2）n（其中n为0或1），O或S; R8和R9代表C1-C4烷基，烷氧基或卤素; R10和R11表示C1-C4烷基，烷氧基或卤素; n为5或6; X2-表示pKB值为-3〜+5的碱性阴离子; 包括以下步骤：（a）将锍盐（B）溶解在无金属离子的极性或非极性溶剂中以形成溶液，所述锍盐（B）选自所述式II-V，其中R5至 所述锍盐（B）的R 11，Y和n具有如上所述的正义，X2-表示非亲核阴离子; （b）用具有季铵基团的碱性离子交换树脂将所述溶液接触足够的时间以用氢氧根离子代替（B）的阴离子并形成氢氧化锍溶液; （c）从树脂中分离出氢氧化锍溶液; 和任选地（d）在所述氢氧化锍溶液中加入含活性氢的化合物或其碱不稳定的前体，得到其中X2代表羟基离子以外的碱性阴离子的锍化合物（A）的溶液。

公开(公告)号：US5738972A

公开(公告)日：1998-04-14

申请号：US864375

申请日：1997-05-28

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Natsumi Suehiro ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Satoru Funato ,  Seiya Masuda ,  Hiroshi Okazaki ,  Georg Pawlowski

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Natsumi Suehiro ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Satoru Funato ,  Seiya Masuda ,  Hiroshi Okazaki ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 ,  G03F7/085 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/106

摘要： A chemically amplified resist material comprising: a) a homopolymer or a copolymer of hydroxystyrene or hydroxystyrene partly protected by a group sensitive to an acid such as a tetrahydropyranyl or t-butoxycarbonyl group, b) a dissolution inhibitor such as poly(N,O-acetal) or phenol or bisphenol protected by a group cleavable with an acid, c) a photosensitive compound capable of generating an acid upon exposure, d) a base capable of degrading upon radiation to regulate the line width in a period between the exposure step and the processing steps after exposure, e) a low-molecular weight phenolic or polyphenolic compound having a structure represented by the following general formula or a mixture of the phenolic or polyphenolic compounds: ##STR1## where n is an integer of 1 to 5, m is an integer of 0 to 4, n+m.ltoreq.5, and p is an integer of 1 to 10, each R is a C.sub.1 -C.sub.12 alkyl group or an unsubstituted or substituted cycloalkyl group or a C.sub.1 -C.sub.5 hydroxyalkyl group, provided that hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom and, when m is not less than 2, each R may be the same or different; A represents a hydrocarbon atomic grouping, having a valence of p, including an unsubstituted or substituted C.sub.1 -C.sub.100 alicyclic, chain aliphatic, or aromatic hydrocarbon or a combination thereof with the carbon atoms being optionally substituted with an oxygen atom, provided that when p is 1, A may represent a hydrogen atom and, when p is 2, A may represent --S--, --SO--, --SO.sub.2 --, --O--, --CO--, or a direct bond, and f) a solvent for dissolving the components a) to e).

摘要翻译： 一种化学放大抗蚀剂材料，包括：a）部分由对酸如四氢吡喃基或叔丁氧基羰基敏感的基团部分保护的羟基苯乙烯或羟基苯乙烯的均聚物或共聚物，b）溶解抑制剂如聚（N， 乙缩醛）或苯酚或双酚被被一个酸可裂解的基团保护，c）一种能够在暴露时产生酸的感光性化合物，d）能够在辐射下降解以在曝光步骤和 曝光后的处理步骤，e）具有由以下通式表示的结构的低分子量酚或多酚化合物或酚类或多酚化合物的混合物：n为0〜4的整数，n + m = 5 ，p为1〜10的整数，R为C1-C12烷基或未取代或取代的环烷基或C1-C5羟烷基，条件是氢原子可被卤素原子取代， en不小于2，每个R可以相同或不同; A表示具有p价的烃原子团，包括未取代或取代的C1-C100脂环族，链脂族或芳族烃或其任选被氧原子取代的碳原子的组合，条件是当p为 1中，A可以表示氢原子，当p为2时，A可以表示-S-，-SO-，-SO2-，-O-，-CO-或直接键，f）溶解溶剂 组件a）至e）。

公开(公告)号：US5846690A

公开(公告)日：1998-12-08

申请号：US615831

申请日：1996-03-14

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Hiroshi Okazaki ,  Seiya Masuda ,  Natsumi Kawasaki ,  Satoru Funato ,  Georg Pawlowski

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Hiroshi Okazaki ,  Seiya Masuda ,  Natsumi Kawasaki ,  Satoru Funato ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045

摘要： A radiation-sensitive composition is disclosed which includes (a) a binder insoluble in water but soluble in or capable of being swelled in an aqueous alkali solution, (b) a dissolution inhibitor composed of (b1) a poly(N,O-acetal) having a general formula: ##STR1## wherein R.sup.3 is alkyl or substituted or unsubstituted aryl, R.sup.4 is a divalent group selected from alkylene, cycloalkylene, alkene or alkyne, R.sup.5 is alkyl, alkene, alkyne or cycloalkyl, X is --OCO--, --CO-- or --NHCO--, and p is a number not less than 1, and/or (b2) a phenol compound having a hydroxyl group which is protected by a group which can be cleaved in the presence of an acid, (c) a photosensitive compound capable of generating an acid when exposed to an active radiation, (d) a base capable of being decomposed when exposed to an active radiation to form a neutral compound derived therefrom, (e) a plasticizer, and (f) a solvent.

摘要翻译： 公开了一种辐射敏感性组合物，其包括（a）不溶于水但可溶于或能够在碱性水溶液中溶胀或能够溶胀的粘合剂，（b）由（b1）聚（N，O-缩醛） ）具有以下通式：其中R 3是烷基或取代或未取代的芳基，R 4是选自亚烷基，亚环烷基，烯烃或炔烃的二价基团，R 5是烷基，烯烃，炔烃或环烷基，X是-OCO-， -CO-或-NHCO-，p为不小于1的数，和/或（b2）具有羟基的酚化合物，该羟基被酸可以被可被切割的基团保护，（c ）当暴露于活性辐射时能够产生酸的光敏化合物，（d）当暴露于活性辐射时能够分解以形成由其衍生的中性化合物的碱，（e）增塑剂，和（f） 溶剂。

公开(公告)号：US5691100A

公开(公告)日：1997-11-25

申请号：US623735

申请日：1996-03-29

申请人： Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Klaus Przybilla ,  Natsumi Endo ,  Natsumi Suehiro ,  Hiroshi Okazaki

发明人： Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Klaus Przybilla ,  Natsumi Endo ,  Natsumi Suehiro ,  Hiroshi Okazaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03C1/54 ,  G03C1/56 ,  G03C1/685

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122

摘要： A material for the formation of a pattern is provided which has a wide exposure latitude and is less liable to cause a dimensional change of a pattern with a change in exposure. The material comprises (A) a compound having a capability of producing an acid upon irradiation with an active beam, (B) a compound capable of producing a base or increasing its basicity, (C) a compound having at least one bond clearable with an acid and/or (D) a compound insoluble in water but soluble in an aqueous alkaline solution.

摘要翻译： 提供了用于形成图案的材料，其具有宽的曝光宽容度，并且不太可能导致图案的尺寸变化随着曝光的变化。 该材料包含（A）具有在活性束照射时产生酸的能力的化合物，（B）能够产生碱或增加其碱度的化合物，（C）具有至少一个键的化合物可以与 酸和/或（D）不溶于水但可溶于碱性水溶液的化合物。

公开(公告)号：US5663035A

公开(公告)日：1997-09-02

申请号：US420787

申请日：1995-04-12

申请人： Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Takanori Kudo ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Klaus Jurgen Przybilla

发明人： Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Takanori Kudo ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Klaus Jurgen Przybilla

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045

摘要： A radiation-sensitive mixture for use in the production of semiconductor elements, which has high sensitivity and high resolution, which can be developed by an aqueous alkaline solution, and which is based on a novel concept in that a stable acid latent image is controlled by using a radiation-decomposable base.The mixture is characterized by comprising as essential components a) a binder which is insoluble in water but soluble in an aqueous alkaline solution; b.sup.1) a compound having at least one bond which can be cleaved by an acid, or b.sup.2) a compound having at least one bond which is crosslinked with the compound a) by an acid; c) a compound which generates an acid when irradiated; and d) a basic iodonium compound.

摘要翻译： 用于生产半导体元件的辐射敏感性混合物，其具有高灵敏度和高分辨率，其可以通过碱性水溶液开发，并且其基于新的概念，其中稳定的酸潜像由 使用辐射分解碱。 该混合物的特征在于包含作为必需组分的a）不溶于水但可溶于碱性水溶液的粘合剂; b1）具有至少一个可被酸切割的键的化合物，或b2）具有至少一个键的化合物，其通过酸与化合物a）交联; c）当照射时产生酸的化合物; 和d）碱性碘鎓化合物。

公开(公告)号：US5641594A

公开(公告)日：1997-06-24

申请号：US507301

申请日：1995-08-25

申请人： Takanori Kudo ,  Yuko Nozaki ,  Kazuya Nagao ,  Yuki Nanjo ,  Hiroshi Okazaki ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Natsumi Suehiro

发明人： Takanori Kudo ,  Yuko Nozaki ,  Kazuya Nagao ,  Yuki Nanjo ,  Hiroshi Okazaki ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Seiya Masuda ,  Munirathna Padmanaban ,  Natsumi Suehiro

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/031 ,  G03C5/56 ,  G03F7/012 ,  G03F7/033

CPC分类号： G03F7/008 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031

摘要： A colored, photosensitive resin composition of a pigment dispersing-type is disclosed.The colored, photosensitive resin composition is characterized by containing (a) a polymer having alcohlic or phenolic hydroxyl groups, (b) a compound capable of producing a nitrene when irradiated with an actinic radiation, (c) a pigment, and (d) a solvent. Preferably, the composition further contains (e) a heat crosslinking agent and/or (f) a compound having a polymerizable double bond in addition to the above ingredients.According to the present invention, the production of a color filter need not be performed in an inert gas atmosphere, does not require an oxygen barrier film and does not require heating during the period of from the exposure step to the development step. Thus, the use of the composition permits the color filter production steps to be made significantly simple so that the composition provides a great value in industrial utilization.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP94 / 02085 Sec。 371日期1995年8月25日 102（e）日期1995年8月25日PCT 1994年12月12日PCT PCT。 公开号WO95 / 18399 日期：1995年7月6日公开了一种着色的颜料分散型感光性树脂组合物。 着色的感光性树脂组合物的特征在于，含有（a）具有异羟基或酚羟基的聚合物，（b）当用光化辐射照射时能够产生硝酸的化合物，（c）颜料，（d） 溶剂。 优选地，除了上述成分之外，组合物还含有（e）热交联剂和/或（f）具有可聚合双键的化合物。 根据本发明，滤色器的制造不需要在惰性气体气氛中进行，在从曝光步骤到显影步骤的期间，不需要氧阻隔膜，不需要加热。 因此，使用该组合物可以使滤色器制造步骤显着简单，从而使组合物在工业应用中提供了巨大的价值。

公开(公告)号：US6110639A

公开(公告)日：2000-08-29

申请号：US860451

申请日：1997-06-26

申请人： Seiya Masuda ,  Satoru Funato ,  Natsumi Kawasaki

发明人： Seiya Masuda ,  Satoru Funato ,  Natsumi Kawasaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/121

摘要： A radiation-sensitive composition comprising:an acid-generating compound capable of generating an acid upon exposure to radiation and represented by the formula (I): ##STR1## wherein X, Y and R.sup.1 to R.sup.5 have the following meanings: X and Y: independently a direct bond, C.sub.1 -C.sub.8 alkylene, C.sub.1 -C.sub.4 alkene, --O--R.sup.11 --O-- (wherein R.sup.11 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms), --NH--, --O--, --S--, --SO.sub.2 --, --CO--, --COO-- or --CONR.sup.12 -- (wherein R.sup.12 is a hydrogen atom, C.sub.1 -C.sub.8 alkyl, alkylaryl, halogenated alkyl, halogenated aryl, a halogen atom, alkoxy, phenoxy, alkylsulfonyl-oxy, halogenated alkylsulfonyl-oxy, or substituted or unsubstituted arylsulfonyl-oxy);R.sup.1 to R.sup.4 : a hydrogen atom, C.sub.1 -C.sub.18 alkyl, aryl, hetero-aryl, a halogen atom, alkyl-substituted or aryl-substituted amino, alkyl-substituted or aryl-substituted amido, nitro, cyano, aldehyde, acetal, alkoxy, phenoxy, alkylsulfonyl-oxy, or substituted or unsubstituted arylsulfonyl-oxy;R.sup.5 : a hydrogen atom, alkyl, aryl, halogenated alkyl, halogenated aryl, halogenated hetero-aryl, alkylsulfonyl-oxy, halogenated alkylsulfonyl-oxy, or substituted or unsubstituted arylsulfonyl-oxy;a water-insoluble but aqueous alkaline solution-soluble binder; anda cross-linking compound capable of reacting with said binder in the presence of said acid to cause the binder to be cross-linked. Further, a radiation-sensitive recording medium can be obtained by forming a layer made of the radiation-sensitive composition on a substrate.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP95 / 02764 Sec。 371日期：1997年6月26日 102（e）日期1997年6月26日PCT 1995年12月28日PCT PCT。 出版物WO96 / 20432 日期：1996年7月4日一种辐射敏感性组合物，其包含：在暴露于辐射后能够产生酸并由式（I）表示的产酸化合物：其中X，Y和R 1至R 5具有以下含义：X和 Y：独立地是直接键合，C1-C8亚烷基，C1-C4链烯基，-O-R11-O-（其中R11是具有1-4个碳原子的亚烷基），-NH-，-O - ， - S-， -SO 2 - ， - CO - ， - COO-或-CONR 12 - （其中R 12是氢原子，C 1 -C 8烷基，烷基芳基，卤代烷基，卤代芳基，卤素原子，烷氧基，苯氧基，烷基磺酰基 - 氧基，卤代烷基磺酰基 - 氧基或取代或未取代的芳基磺酰基 - 氧基）; R1至R4：氢原子，C1-C18烷基，芳基，杂芳基，卤素原子，烷基取代或芳基取代的氨基，烷基取代或芳基取代的酰氨基，硝基，氰基，醛，缩醛，烷氧基 ，苯氧基，烷基磺酰基氧基或取代或未取代的芳基磺酰基 - 氧基; R5：氢原子，烷基，芳基，卤代烷基，卤代芳基，卤代杂芳基，烷基磺酰基氧基，卤代烷基磺酰基氧基或取代或未取代的芳基磺酰基氧基; 水不溶性但碱性溶液水溶性粘合剂; 和能够在所述酸存在下与所述粘合剂反应以使粘合剂交联的交联化合物。 此外，通过在基板上形成由辐射敏感性组合物制成的层，可以获得辐射敏感记录介质。

公开(公告)号：US5595855A

公开(公告)日：1997-01-21

申请号：US390045

申请日：1995-02-17

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Georg Pawlowski

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natsumi Suehiro ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yuko Nozaki ,  Hiroshi Okazaki ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： C08L25/00 ,  C08L25/18 ,  C08L59/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C1/72

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045

摘要： A chemically amplified radiation sensitive composition comprising: (a) a copolymer such as poly(4-hydroxystyrene-co-styrene), (b) a dissolution inhibitor such as polyacetal or (b') a crosslinking agent, (c) a radiation sensitive compound capable of generating an acid upon exposure to actinic radiation, (d) a radiation sensitive base capable of stabilizing the width of lines throughout steps from exposure to post-exposure bake treatment, and (e) a solvent for dissolving the components (a) to (d), can realize fine lines and spaces down to 0.22 microns, for example, using KrF laser, and possesses excellent heat and etch resistance and adhesiveness to substrates, and produces patterns with low standing waves arising due to substrate reflectiveness of exposed light.

摘要翻译： 一种化学增强的辐射敏感组合物，其包含：（a）共聚物如聚（4-羟基苯乙烯 - 共 - 苯乙烯），（b）溶解抑制剂如聚缩醛或（b'）交联剂，（c） 能够在暴露于光化辐射下产生酸的化合物，（d）能够在暴露于曝光后烘烤处理的步骤中稳定整个条纹宽度的辐射敏感性基质，和（e）用于溶解组分的溶剂（a） 至（d），可以实现例如使用KrF激光器至0.22微米的细线和间隔，并且具有优异的耐热和耐蚀刻性以及与衬底的粘附性，并且由于曝光的衬底反射性而产生具有低驻波的图案 。

公开(公告)号：US5525453A

公开(公告)日：1996-06-11

申请号：US196810

申请日：1994-02-15

申请人： Klaus J. Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

发明人： Klaus J. Przybilla ,  Takanori Kudo ,  Seiya Masuda ,  Yoshiaki Kinoshita ,  Natumi Suehiro ,  Munirathna Padmanaban ,  Hiroshi Okazaki ,  Hajime Endo ,  Ralph Dammel ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/021

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： A novel positive-working radiation-sensitive mixture having a high sensitivity to radiation in a short-wavelength UV region is provided which can be developed in an aqueous alkaline solution, has a stable acid latent image and is used for the production of a semiconductor. The mixture comprises, as indispensable components, a) a binder insoluble in water but soluble in an aqueous alkaline solution, b) a compound having at least one bond cleavable with an acid, c) a compound capable of producing an acid upon radiation, and d.sub.1) a basic ammonium compound or d.sub.2) a basic sulfonium compound.

摘要翻译： 提供了一种在短波长UV区域对辐射具有高灵敏度的新型正性辐射敏感性混合物，其可以在碱性水溶液中显影，具有稳定的酸性潜像并用于制备半导体。 该混合物作为不可缺少的组分包含a）不溶于水但可溶于碱性水溶液的粘合剂，b）具有至少一个可与酸分离的键的化合物，c）能够在辐射时产生酸的化合物，和 d1）碱性铵化合物或d2）碱性锍化合物。