公开(公告)号：US20110069296A1

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：US12946380

申请日：2010-11-15

申请人： Toralf GRUNER ,  Daniel KRAEHMER ,  Michael TOTZECK ,  Johannes WANGLER ,  Markus BROTSACK ,  Nils DIECKMANN ,  Aksel GOEHNERMEIER ,  Markus SCHWAB ,  Damian FIOLKA ,  Markus ZENZINGER

发明人： Toralf GRUNER ,  Daniel KRAEHMER ,  Michael TOTZECK ,  Johannes WANGLER ,  Markus BROTSACK ,  Nils DIECKMANN ,  Aksel GOEHNERMEIER ,  Markus SCHWAB ,  Damian FIOLKA ,  Markus ZENZINGER

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US20100149510A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12631536

申请日：2009-12-04

申请人： Christoph ZACZEK ,  Gennady FEDOSENKO ,  Wolfgang HENSCHEL ,  Daniel KRAEHMER

发明人： Christoph ZACZEK ,  Gennady FEDOSENKO ,  Wolfgang HENSCHEL ,  Daniel KRAEHMER

IPC分类号： G03B27/72 ,  G02B1/11 ,  B05D5/06

CPC分类号： G02B1/118

摘要： Methods for producing an antireflection surface (6) on an optical element (1) made of a material that is transparent at a useful-light wavelength λ in the UV region, preferably at 193 nm. A first method includes: applying a layer (3) of an inorganic, non-metallic material, which forms nanostructures (4) and is transparent to the useful-light wavelength λ, onto a surface (2) of the optical element (1); and etching the surface (2) while using the nanostructures (4) of the layer (3) as an etching mask for forming preferably pyramid-shaped or conical sub-lambda structures (5) in the surface (2). In a second method, the sub-lambda structures are produced without using an etching mask. An associated optical element (1) includes such an antireflection surface (6), and an associated optical arrangement includes such an optical element (1).

摘要翻译： 在由UV区域中的有用光波长λ为透明的材料制成的光学元件（1）上制造抗反射面（6）的方法，优选为193nm。 第一种方法包括：将形成纳米结构（4）并且对有用光波长λ透明的无机非金属材料层（3）施加到光学元件（1）的表面（2）上， ; 并且在使用所述层（3）的纳米结构（4）作为蚀刻掩模的同时蚀刻所述表面（2），以在所述表面（2）中形成优选的金字塔形或锥形的子-λ结构（5）。 在第二种方法中，在不使用蚀刻掩模的情况下制造子λ结构。 相关联的光学元件（1）包括这种抗反射表面（6），并且相关联的光学装置包括这种光学元件（1）。