公开(公告)号：US20100282598A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：US12308589

申请日：2007-06-20

申请人： Florian Ruske ,  Volker Sittinger ,  Bernd Szyszka

发明人： Florian Ruske ,  Volker Sittinger ,  Bernd Szyszka

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/0036 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3421 ,  C23C14/544 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/3467

摘要： The invention relates to the control of a reactive high-power pulsed sputter process. The invention particularly relates to a method for controlling a process of the aforementioned kind, wherein a controlled variable is measured and an adjustable variable is modified based on the measured controlled variable in order to adjust the controlled variable to a predetermined setting value. The method according to the invention is characterised by modifying the discharge capacity by varying the pulse frequency of the discharge.

摘要翻译： 本发明涉及反应性大功率脉冲溅射工艺的控制。 本发明特别涉及一种用于控制上述类型的方法，其中测量受控变量并且基于所测量的受控变量修改可调节变量，以将受控变量调整到预定设定值。 根据本发明的方法的特征在于通过改变放电的脉冲频率来改变放电容量。

公开(公告)号：US20100006426A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：US12443352

申请日：2007-09-28

申请人： Volker Sittinger ,  Florian Ruske ,  Bernd Szyszka

发明人： Volker Sittinger ,  Florian Ruske ,  Bernd Szyszka

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： H01L31/1884 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3615 ,  C03C17/3628 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/3678 ,  C03C2217/94 ,  C03C2218/156 ,  C23C14/0629 ,  C23C14/086 ,  C23C14/35 ,  H01B1/08 ,  H01J37/3467 ,  H01L31/022466 ,  Y02E10/50

摘要： A method for depositing at least one stable, transparent and conductive layer system on chalcopyrite solar cell absorbers. The at least one stable, transparent and conductive layer system may be formed via ionizing PVD (physical vapor deposition) technology by using either high power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) or high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS).

摘要翻译： 一种用于在黄铜矿太阳能电池吸收体上沉积至少一个稳定的，透明和导电的层系统的方法。 可以通过使用高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）或高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）的电离PVD（物理气相沉积）技术形成至少一个稳定的，透明和导电的层系统。