公开(公告)号：US08609320B2

公开(公告)日：2013-12-17

申请号：US13305545

申请日：2011-11-28

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/04 ,  G03F7/00 ,  C07D313/20 ,  C08F24/00

CPC分类号： C07D307/00 ,  C08F2220/285 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition, a method of forming a resist pattern using the resist composition, a novel polymeric compound and a compound useful as a monomer for the polymeric compound, the resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, the base component (A) containing a resin component (A0) including a structural unit (a0) represented by general formula (a0) shown below in which A represents a divalent linking group; and R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物，使用抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法，新颖的聚合化合物和可用作高分子化合物的单体的化合物，抗蚀剂组合物包含在显影液中显示出改变的溶解度的基础组分（A） 在酸和产生酸的酸产生剂组分（B）的作用下，包含含有下述通式（a0）表示的结构单元（a0）的树脂组分（A0）的基础组分（A），其中A 表示二价连接基团; 并且R 1表示氢原子或可以具有取代基的1至6个碳原子的烃基。

公开(公告)号：US08206891B2

公开(公告)日：2012-06-26

申请号：US12573686

申请日：2009-10-05

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A positive resist composition including: a base component (A) which includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester having an acid dissociable, dissolution inhibiting group; and an acid generator component (B) which includes an acid generator (B1) containing an anion moiety represented by the general formula (I): (in the formula (a0-1), R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R2 represents a bivalent linking group; and R3 represents a cyclic group containing —SO2— within the ring skeleton. In the formula (I), X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, Q1 represents a bivalent linking group containing an oxygen atom; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms).

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：包含含有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）和由具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0））的结构单元（a1）的基础组分（A） 酸解离，溶解抑制组; 和含有由通式（I）表示的阴离子部分的酸发生剂（B1）的酸产生剂成分（B）：（式（a0-1）中，R 1表示氢原子，低级烷基 1〜5个碳原子的卤代低级烷基或1〜5个碳原子的卤代低级烷基; R2表示二价连接基团; R3表示环状骨架中含有-SO2-的环状基团，式（I）中，X表示 3〜30个碳原子的环状基团，Q1表示含有氧原子的二价连接基团，Y1表示碳原子数1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

公开(公告)号：US20100086873A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：US12573686

申请日：2009-10-05

申请人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

发明人： Takehiro Seshimo ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Akiya Kawaue ,  Takahiro Dazai ,  Tomoyuki Hirano ,  Fumitake Kaneko ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

摘要： A positive resist composition including: a base component (A) which includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester having an acid dissociable, dissolution inhibiting group; and an acid generator component (B) which includes an acid generator (B1) containing an anion moiety represented by the general formula (I): (in the formula (a0-1), R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R2 represents a bivalent linking group; and R3 represents a cyclic group containing —SO2— within the ring skeleton. In the formula (I), X represents a cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, Q1 represents a bivalent linking group containing an oxygen atom; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms).

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：包含含有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合化合物（A1）和由具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0））的结构单元（a1）的基础组分（A） 酸解离，溶解抑制组; 和含有由通式（I）表示的阴离子部分的酸发生剂（B1）的酸产生剂成分（B）：（式（a0-1）中，R 1表示氢原子，低级烷基 1〜5个碳原子的卤代低级烷基或1〜5个碳原子的卤代低级烷基; R2表示二价连接基团; R3表示环状骨架中含有-SO2-的环状基团，式（I）中，X表示 3〜30个碳原子的环状基团，Q1表示含有氧原子的二价连接基团，Y1表示碳原子数1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

公开(公告)号：US20120308928A1

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：US13477516

申请日：2012-05-22

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： C08F228/06 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F220/32 ,  C08F220/58 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/111 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/585 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20

摘要： A resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a resin component (A1) including a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below and a structural unit (a1)) containing an acid decomposable group that exhibits increased polarity under action of acid, and the amount of the structural unit (a0) is less than 50 mol %, wherein R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R1 represents a divalent linking group; R2 represents a —SO2— containing cyclic group; and v represents 0 or 1.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下显影溶液中溶解度变差的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述基材（A）含有树脂成分（A1） （a0）表示的结构单元（a0）和结构单元（a1）），其含有在酸作用下显示出极性增加的酸分解基团，结构单元（a0） 小于50摩尔％，其中R表示氢原子，1至5个碳原子的烷基或1至5个碳原子的卤代烷基; R1表示二价连接基团; R2表示含-SO2-的环状基团; v表示0或1。

公开(公告)号：US08658343B2

公开(公告)日：2014-02-25

申请号：US13373965

申请日：2011-12-05

申请人： Masatoshi Arai ,  Junichi Tsuchiya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki

发明人： Masatoshi Arai ,  Junichi Tsuchiya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-1). In formula (a5-1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group, X represents single bond or divalent linking group, W represents a cyclic alkylene group which may include an oxygen atom at arbitrary position, each of Ra and Rb independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may include an oxygen atom at arbitrary position, or alternatively, Ra and Rb may be bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom in the formula, and p represents integer of 1 to 3.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在显影溶液中显示出改变的溶解性的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸产生剂成分（B），其中，所述碱成分（A）含有高分子化合物 A1）具有由通式（a5-1）表示的结构单元（a5）。 式（a5-1）中，R表示氢原子，烷基或卤代烷基，X表示单键或二价连接基，W表示可以在任意位置含有氧原子的环状亚烷基， Ra和Rb独立地表示氢原子或可以在任意位置包含氧原子的烷基，或者Ra和Rb可以与式中的氮原子一起形成环，p表示 1〜3的整数。

公开(公告)号：US08227170B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12685579

申请日：2010-01-11

申请人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F28/06 ,  C07D327/04

CPC分类号： C07D493/18 ,  C07D327/04 ,  C08F20/38 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B), wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A0) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R2 represents a bivalent linking group containing at least one kind of polar groups selected from the group consisting of —O—, —C(═O)—, —C(═O)—O—, a carbonate linkage (—O—C(═O)—O—), —S—, —S(═O)2—, —S(═O)2—O—, —NH—, —NR04— (wherein, R04 represents an alkyl group or an acyl group), and —NH—C(═O)—; and R3 represents a cyclic group containing a sulfonyl group within the ring skeleton).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解度的碱成分（A）和酸产生剂成分（B），其中，所述基础成分（A）含有含有 由下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）：（其中，R1表示氢原子，烷基或卤代烷基; R2表示含有至少一种极性基团的二价连接基团 选自-O - ， - C（= O） - ， - C（= O）-O-，碳酸酯键（-O-C（= O）-O-），-S-， S（= O）2 - ， - S（= O）2 -O - ， - NH - ， - NRO4-（其中，R04表示烷基或酰基）和-NH-C（= R 3表示在环骨架中含有磺酰基的环状基团）。

公开(公告)号：US20100178609A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：US12685579

申请日：2010-01-11

申请人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F28/06 ,  C07D327/04

CPC分类号： C07D493/18 ,  C07D327/04 ,  C08F20/38 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B), wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A0) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R2 represents a bivalent linking group containing at least one kind of polar groups selected from the group consisting of —O—, —C(═O)—, —C(═O)—O—, a carbonate linkage (—O—C(═O)—O—), —S—, —S(═O)2—, —S(═O)2—O—, —NH—, —NR04— (wherein, R04 represents an alkyl group or an acyl group), and —NH—C(═O)—; and R3 represents a cyclic group containing a sulfonyl group within the ring skeleton).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解度的碱成分（A）和酸产生剂成分（B），其中，所述基础成分（A）含有含有 由下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）：（其中，R1表示氢原子，烷基或卤代烷基; R2表示含有至少一种极性基团的二价连接基团 选自-O - ， - C（= O） - ， - C（= O）-O-，碳酸酯键（-O-C（= O）-O-），-S-， S（= O）2 - ， - S（= O）2 -O - ， - NH - ， - NRO4-（其中，R04表示烷基或酰基）和-NH-C（= R 3表示在环骨架中含有磺酰基的环状基团）。

公开(公告)号：US08927191B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US13351716

申请日：2012-01-17

申请人： Junichi Tsuchiya ,  Daichi Takaki ,  Masatoshi Arai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Junichi Tsuchiya ,  Daichi Takaki ,  Masatoshi Arai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F226/06

CPC分类号： C08F226/06 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-1). In the formula (a5-1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; each of Ra and Rb independently represents a hydrocarbon group which may have a substituent, and Ra and Rb may be mutually bonded to form a ring.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在显影液中溶解性变差的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述碱成分（A）含有高分子化合物 ）具有由通式（a5-1）表示的结构单元（a5）。 在式（a5-1）中，R表示氢原子，1〜5个碳原子的烷基或1〜5个碳原子的卤代烷基; Ra和Rb各自独立地表示可以具有取代基的烃基，Ra和Rb可以相互键合形成环。

公开(公告)号：US08911928B2

公开(公告)日：2014-12-16

申请号：US13477516

申请日：2012-05-22

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  C08F220/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08F220/58

CPC分类号： C08F220/32 ,  C08F220/58 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/111 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/585 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20

摘要： A resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a resin component (A1) including a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below and a structural unit (a1)) containing an acid decomposable group that exhibits increased polarity under action of acid, and the amount of the structural unit (a0) is less than 50 mol %, wherein R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R1 represents a divalent linking group; R2 represents a —SO2— containing cyclic group; and v represents 0 or 1.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下显影溶液中溶解度变差的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述基材（A）含有树脂成分（A1） （a0）表示的结构单元（a0）和结构单元（a1）），其含有在酸作用下表现出极性增加的酸分解基团，结构单元（a0） 小于50摩尔％，其中R表示氢原子，1至5个碳原子的烷基或1至5个碳原子的卤代烷基; R1表示二价连接基团; R2表示含-SO2-的环状基团; v表示0或1。

公开(公告)号：US20120183900A1

公开(公告)日：2012-07-19

申请号：US13351716

申请日：2012-01-17

申请人： Junichi Tsuchiya ,  Daichi Takaki ,  Masatoshi Arai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Junichi Tsuchiya ,  Daichi Takaki ,  Masatoshi Arai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F226/06 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F226/06 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-1). In the formula (a5-1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; each of Ra and Rb independently represents a hydrocarbon group which may have a substituent, and Ra and Rb may be mutually bonded to form a ring.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在显影液中溶解性变差的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述碱成分（A）含有高分子化合物 ）具有由通式（a5-1）表示的结构单元（a5）。 在式（a5-1）中，R表示氢原子，1〜5个碳原子的烷基或1〜5个碳原子的卤代烷基; Ra和Rb各自独立地表示可以具有取代基的烃基，Ra和Rb可以相互键合形成环。