公开(公告)号：US08431453B2

公开(公告)日：2013-04-30

申请号：US13077358

申请日：2011-03-31

申请人： Yu-Lien Huang ,  Chia-Pin Lin ,  Sheng-Hsiung Wang ,  Fan-Yi Hsu ,  Chun-Liang Tai

发明人： Yu-Lien Huang ,  Chia-Pin Lin ,  Sheng-Hsiung Wang ,  Fan-Yi Hsu ,  Chun-Liang Tai

IPC分类号： H01L21/338

CPC分类号： H01L27/088 ,  H01L29/513 ,  H01L29/66545

摘要： The embodiments of methods and structures disclosed herein provide mechanisms of performing doping an inter-level dielectric film, ILD0, surrounding the gate structures with a dopant to reduce its etch rates during the processes of removing dummy gate electrode layer and/or gate dielectric layer for replacement gate technologies. The ILD0 film may be doped with a plasma doping process (PLAD) or an ion beam process. Post doping anneal is optional.

摘要翻译： 本文公开的方法和结构的实施例提供了利用掺杂剂围绕栅极结构进行掺杂层间电介质膜ILD0的机制，以在去除伪栅极电极层和/或栅极电介质层的过程中降低其蚀刻速率 替换门技术。 可以用等离子体掺杂工艺（PLAD）或离子束工艺来掺杂ILD0膜。 后掺杂退火是可选的。

公开(公告)号：US20080160619A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：US12045708

申请日：2008-03-11

申请人： Chun-Liang Tai ,  Yi-Chang Yang

发明人： Chun-Liang Tai ,  Yi-Chang Yang

IPC分类号： G01N31/22

CPC分类号： C23C16/4401 ,  G01M3/20 ,  G01M3/3281 ,  G01M3/38 ,  G01N21/783 ,  G01N31/225 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/31662 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67288

摘要： A method of detecting oxygen leakage. Firstly, a detection wafer with a first color positioned on the substrate is provided. Then, the detection wafer is loaded into a reaction tube from a loading chamber, and subsequently, the detection wafer is unloaded from the reaction tube. Finally, the detection wafer is observed to obtain a second color, wherein if oxygen leaks into the loading chamber, the second color is different from the first color.

摘要翻译： 一种检测氧气泄漏的方法。 首先，提供具有位于基板上的第一颜色的检测晶片。 然后，将检测晶片从装载室装载到反应管中，随后将检测晶片从反应管中卸载。 最后，观察检测晶片获得第二种颜色，其中如果氧气泄漏到装载室中，则第二种颜色不同于第一种颜色。

公开(公告)号：US20050148079A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US10710235

申请日：2004-06-28

申请人： Chun-Liang Tai ,  Yi-Chang Yang

发明人： Chun-Liang Tai ,  Yi-Chang Yang

IPC分类号： C23C16/44 ,  G01N21/78 ,  G01N31/00 ,  G01N31/22 ,  H01L21/66

CPC分类号： G01N31/225 ,  C23C16/4401 ,  G01N21/783

摘要： A method of detecting oxygen leakage. Firstly, a detection wafer having a substrate and a metallic film with a first color positioned on the substrate is provided. Then, the detection wafer is loaded into a reaction tube from a loading chamber, and subsequently, the detection wafer is unloaded from the reaction tube. Finally, a surface of the detection wafer is observed to obtain a second color of the metallic film, wherein if oxygen leaks into the loading chamber, the second color is different from the first color.

摘要翻译： 一种检测氧气泄漏的方法。 首先，提供具有基板和位于基板上的具有第一颜色的金属膜的检测晶片。 然后，将检测晶片从装载室装载到反应管中，随后将检测晶片从反应管中卸载。 最后，观察检测晶片的表面以获得金属膜的第二颜色，其中如果氧气泄漏到装载室中，则第二颜色不同于第一颜色。