公开(公告)号：WO2017041339A1

公开(公告)日：2017-03-16

申请号：PCT/CN2015/091471

申请日：2015-10-08

Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司 ,  武汉华星光电技术有限公司

Inventor： 李子健

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/31

CPC classification number: C03C17/225 ,  C03C15/00 ,  C03C17/23 ,  C03C17/30 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/3482 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/281 ,  C03C2218/33 ,  C03C2218/345 ,  H01L21/02 ,  H01L21/31

Abstract: 一种基板制备方法，包括以下步骤：步骤一，在基材（11）上沉积非晶硅层（12），步骤二，在所述非晶硅层（12）上沉积第一厚度（D1）的二氧化硅层（17），步骤三，刻蚀所述二氧化硅层（17），直到其厚度（D1）降低到第二厚度（D2）。根据该方法，能够在非晶硅层（12）上制备所需厚度的二氧化硅层（17）。在进行准分子激光退火时，所制备的二氧化硅层（17）足以抑制多晶硅层（18）晶界处的隆起，使得所制备的半导体层的粗糙度较低。

公开(公告)号：WO2017029890A1

公开(公告)日：2017-02-23

申请号：PCT/JP2016/069347

申请日：2016-06-29

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 稲本　美砂 ,  岡畑　直樹 ,  青嶋　有紀

IPC: C03C17/30 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  C03C15/00 ,  C03C17/42

CPC classification number: C03C15/00 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  C03C17/30 ,  C03C17/42 ,  C03C21/002 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/11 ,  C03C2218/151 ,  C03C2218/155 ,  C03C2218/31 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/021 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/30 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3464

Abstract: 第一の表面を備える基板、フッ素を含有する凹凸層、および防汚層をこの順に備える積層体において、前記凹凸層は、０．５ｎｍ～５０ｎｍの範囲の算術平均表面粗さＲａを有し、前記凹凸層におけるフッ素のＦ１ｓの結合エネルギーピークは、６８４ｅＶ以上６８７．５ｅＶ以下の範囲であり、前記フッ素のＦ１ｓの結合エネルギーピークから算出されるフッ素の原子濃度（ａｔｍ％）とケイ素のＳｉ２ｐの結合エネルギーピークから算出されるケイ素の原子濃度（ａｔｍ％）との比Ｆ１ｓ／Ｓｉ２ｐは、０．００３～１００の範囲であり、前記防汚層におけるフッ素のＦ１ｓの結合エネルギーピークは、６８７．５ｅＶ超６９１ｅＶ以下の範囲である。

Abstract translation: 该层压体依次具有第一面，含氟不均匀层和防污层的基板。 不平坦层的算术平均表面粗糙度Ra在0.5-50nm的范围内。 不均匀层中氟的F1结合能峰值在684-687.5 eV的范围内。 从氟的F1s结合能峰计算的氟的原子浓度（atm％）与硅的Si2p结合能峰计算的硅的原子浓度（atm％）之比F1s / Si2p在0.003的范围内 -100。 防污层中氟的F1结合能峰值超过687.5eV，但不超过691eV。

公开(公告)号：WO2017006228A1

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：PCT/IB2016/053970

申请日：2016-07-01

Applicant: DAMASKO UHRENMANUFAKTUR KG

Inventor： MÄNNICKE, Stefan

IPC: G04B17/06

CPC classification number: F16F1/024 ,  C03C15/00 ,  F16F1/021 ,  F16F1/10 ,  F16F2222/02 ,  F16F2224/02 ,  F16F2226/02 ,  F16F2226/04 ,  G04B17/066 ,  G04B17/22

Abstract: Es ist eine Spiralfeder (4) und ein Verfahren zur Herstellung der Spiralfeder (4) offenbart. Die Spiralfeder (4) besitzt mindestens eine Windung (9), die aus einemmassiven Kern (16) aus einem Siliziummaterial (32) besteht. Der Kern (16) umfasst zwei lange, parallele und geradlinige Seiten (22) und zwei kurze parallele und geradlinige Seiten (24 O , 24 U ). Zumindest die gegenüberliegenden langen Seiten (22) des Kerns (16) sind von einer SiO 2 - Schicht (20) bedeckt. Bei dem Verfahren werden die Windungen (9) aus dem Siliziummaterial geätzt, so dass der Kern (16) der mindestens einen Windung (9) der Spiralfeder (4) ausgeformt wird und zwei lange,parallele und geradlinige Seiten (22) und zwei kurze parallele und geradlinige Seiten (24 O , 24 U ) umfasst.

Abstract translation: 有公开了一种螺旋弹簧（4）和用于制造该螺旋弹簧（4）的方法。 所述螺旋弹簧（4）具有至少一个绕组（9），其由硅材料制成（32）的一个固体芯（16）的。 所述芯（16）包括两个长，并行和直边（22）和两个短平行和直边（240，24H）。 至少所述相对的长边芯（16）的（22）是在SiO 2的 - 覆盖层（20）。 在该方法中，线圈（9）被蚀刻出来的硅材料制成，使得所述至少一个的所述芯部（16）绕组（9）（4）形成在螺旋弹簧和两个长，并行和直边（22）和两个短平行的 并且包括直边（240，24H）。

公开(公告)号：WO2016201027A2

公开(公告)日：2016-12-15

申请号：PCT/US2016/036566

申请日：2016-06-09

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： CASTLE, Thomas Michael ,  HUANG, Tian ,  JIN, Yuhui ,  LEVESQUE, Daniel Wayne, Jr. ,  PETRIWSKY, Tammy Lynn

IPC: C03C15/00

CPC classification number: C03C15/00 ,  B23K26/382 ,  B23K2201/40 ,  B23K2203/54 ,  C03C4/0071 ,  C03C23/0025 ,  H01L21/4807 ,  H01L23/15 ,  Y10T428/24182 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24777

Abstract: A method of forming a glass substrate includes providing a glass substrate having alumina, translating a pulsed laser beam on the glass substrate to form one or more pilot holes, contacting the glass substrate with an etching solution, and providing agitation. The etching solution has a pH from about 0 to about 2.0, and an etch rate is less than about 3 µm/min. A glass substrate is disclosed having a first surface and a second surface opposite the first surface in a thickness direction, and at least one hole penetrating the first surface, wherein the at least one hole has been etched by an etching solution. A greatest distance d1 between (1) a first plane that contacts the first surface in regions that do not have the at least one hole or a deviation in a thickness of the substrate surrounding the at least one hole and (2) a surface of the deviation recessed from the first plane is less than or equal to about 0.2 µm.

Abstract translation: 形成玻璃基板的方法包括提供具有氧化铝的玻璃基板，将脉冲激光束平移在玻璃基板上以形成一个或多个引导孔，使玻璃基板与蚀刻溶液接触并提供搅拌。 蚀刻溶液具有约0至约2.0的pH，蚀刻速率小于约3μm/ min。 公开了一种玻璃基板，其具有在厚度方向上与第一表面相对的第一表面和第二表面，以及穿过第一表面的至少一个孔，其中至少一个孔已经被蚀刻溶液蚀刻。 （1）在不具有至少一个孔的区域中接触第一表面的第一平面或围绕至少一个孔的基底的厚度偏差之间的最大距离d1，以及（2） 从第一平面凹陷的偏差小于或等于约0.2μm。

公开(公告)号：WO2016185880A1

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：PCT/JP2016/063005

申请日：2016-04-26

Applicant: 日本電気硝子株式会社

Inventor： 奥　隼人 ,  中津　広之 ,  竹内　久博 ,  深田　睦

IPC: C03C21/00 ,  C03B33/033 ,  C03B33/037 ,  C03C15/00 ,  C03C17/09 ,  C03C17/245 ,  C03C17/32 ,  C03C19/00

CPC classification number: C03B33/033 ,  C03B33/037 ,  C03C15/00 ,  C03C17/09 ,  C03C17/245 ,  C03C17/32 ,  C03C19/00 ,  C03C21/00

Abstract: 板状の化学強化ガラス（１１）は、割断線を形成する際に割断線の形成開始部分となる端部（１２）を有する。化学強化ガラス（１１）の端部（１２）は、表面応力値が１００ＭＰａ以下の端面（１２ａ）を備える。化学強化用のガラス物品（１５）は、板状の化学強化用ガラス（１６）の端面（１７）の少なくとも一部に、化学強化を抑制する被覆層（１８）を積層した構成を有する。化学強化ガラス（１１）の製造方法は、例えば、化学強化用ガラス（１６）の端面の少なくとも一部に、被覆層（１８）を積層する工程と、被覆層（１８）が積層された化学強化用ガラス（１６）を化学強化する工程とを備える。化学強化ガラス（１１）の割断方法は、化学強化ガラス（１１）に端部（１２）から割断線を形成する工程と、割断線に沿って化学強化ガラス（１１）を割断する工程とを備える。

Abstract translation: 该板状化学强化玻璃（11）具有端部（12），当形成切割线时，用作形成切割线的起始部分。 化学强化玻璃（11）的端部（12）设有表面（12a），其表面应力值小于或等于100MPa。 这种待化学强化的玻璃制品（15）具有这样一种结构，其中用于抑制化学强化的涂层（18）层压在板状玻璃（16）的端面（17）的至少一部分上以进行化学 加强。 这种化学强化玻璃（11）的制造方法例如包括在被化学强化的玻璃（16）的端面的至少一部分上层叠被覆层（18）的步骤和化学强化工序 化学强化的玻璃（16），其上层叠有涂层（18）。 这种切割化学强化玻璃（11）的方法包括从化学强化玻璃（11）上的端部（12）形成劈裂线的步骤和沿着劈裂线切割化学强化玻璃（11）的步骤。

公开(公告)号：WO2016117474A1

公开(公告)日：2016-07-28

申请号：PCT/JP2016/051163

申请日：2016-01-15

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 鹿島　出 ,  藤原　祐輔 ,  玉井　喜芳 ,  鈴木　祐一 ,  世良　洋一 ,  小林　大介

IPC: C03C21/00 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C03C21/002 ,  C03C3/091 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  C03C2204/08 ,  G02F2001/133302

Abstract: 　本発明は、化学強化を行なってもガラスの強度が低下するのを効果的に抑制でき、かつ、透過率が高い（すなわち低反射性の）化学強化ガラスを提供することを目的とする。本発明は表層にイオン交換法により形成された圧縮応力層を有する化学強化ガラスであって、ナトリウム及びホウ素を含み、デルタ透過率が＋０．１％以上であり、ガラスの最表面から深さＸの領域における水素濃度Ｙを線形近似した直線が、Ｘ＝０．１～０．４（μｍ）において特定の関係式を満たす、化学強化ガラスに関する。

Abstract translation: 本发明的目的是提供即使进行化学强化也能够有效地抑制玻璃的强度降低的高透光率（低反射率）化学强化玻璃。 本发明涉及一种化学强化玻璃，其表面层具有通过离子交换法形成的压应力层。 化学强化玻璃包括钠和硼，并具有+ 0.1％以上的δ透射率。 线性近似于玻璃表面最深处的深度X处的氢浓度Y的直线满足X =0.1-0.4μm的特定关系式。

公开(公告)号：WO2016117327A1

公开(公告)日：2016-07-28

申请号：PCT/JP2016/000236

申请日：2016-01-19

Applicant: OSAKA UNIVERSITY ,  CANON KABUSHIKI KAISHA

Inventor： SADAKUNI, Shun ,  MIYAUCHI, Hiroki ,  ANDO, Manabu ,  YAMAUCHI, Kazuto

IPC: B23K20/10 ,  B24B7/24

CPC classification number: B24B37/046 ,  C03C15/00

Abstract: A processing apparatus includes: a tool in which a processing surface includes a catalyst material including a transition metal that assists hydrolysis of a surface to be processed of an object to be processed that is immersed in water; and a control unit that controls a relative distance between the surface to be processed of the object and the processing surface of the tool with respect to a direction including a surface normal direction of the surface to be processed; wherein the surface to be processed is processed by performing, by the control unit, catalytic reaction control that alternately generates: a first state in which the surface to be processed and the processing surface do not contact; and a second state in which the surface to be processed and the processing surface contact, or approach each other to a distance at which a catalytic reaction becomes effective.

Abstract translation: 一种加工设备，包括：工具，其中处理表面包括催化剂材料，所述催化剂材料包括助熔剂浸入水中的待处理物体的待处理表面的水解的过渡金属; 以及控制单元，其相对于包括待处理表面的法线方向的方向，控制被处理物体与工件的处理面之间的相对距离; 其中通过所述控制单元执行交替产生：待处理表面和所述处理表面不接触的第一状态的催化反应控制来处理待处理的表面; 以及第二状态，其中待处理表面和加工表面接触，或彼此接近到催化反应生效的距离。

公开(公告)号：WO2016106039A1

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：PCT/US2015/066027

申请日：2015-12-16

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： JOHNSON, Benedict Yorke ,  LIU, Xinyuan ,  MAZUMDER, Prantik ,  SONI, Kamal Kishore

IPC: C03C17/22 ,  C01B31/04

CPC classification number: C03C15/00 ,  C01B32/194 ,  C03C17/002 ,  C03C17/22 ,  C03C2218/31

Abstract: Described herein are methods for improved transfer of graphene from formation substrates to target substrates. In particular, the methods described herein are useful in the transfer of high-quality chemical vapor deposition-grown monolayers of graphene from metal, e.g., copper, formation substrates to ultrathin, flexible glass targets. The improved processes provide graphene materials with less defects in the structure.

Abstract translation: 这里描述的是用于改善石墨烯从地层衬底转移到目标衬底的方法。 特别地，本文描述的方法可用于将高质量化学气相沉积生长的石墨烯单层从金属例如铜，地层衬底转移到超薄，柔性玻璃靶。 改进的工艺为石墨烯材料提供了较少的结构缺陷。

公开(公告)号：WO2016094028A1

公开(公告)日：2016-06-16

申请号：PCT/US2015/060522

申请日：2015-11-13

Applicant: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION

Inventor： PALLIKKARA KUTTIATOOR, Sudeep ,  DOCKERY, Kevin ,  PANDEY, Prativa ,  JIA, Renhe

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  C03C15/00 ,  C23F1/16 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/76224

Abstract: The invention provides a chemical-mechanical polishing composition containing abrasive, an ionic polymer of formula (I) wherein X 1 and X 2 , Z 1 and Z 2 , R 1 , R 2 , R 3 and R 4 , and n are as defined herein, a polyhydroxy aromatic compound, a polyvinyl alcohol, and water, wherein the polishing composition has a pH of about 1 to about 4.5. The invention further provides a method of chemically-mechanically polishing a substrate with the inventive chemical-mechanical polishing composition. Typically, the substrate contains silicon oxide, silicon nitride, and/or polysilicon.

Abstract translation: 本发明提供一种含有研磨剂，式（I）的离子聚合物的化学机械抛光组合物，其中X1和X2，Z1和Z2，R1，R2，R3和R4和n如本文所定义，多羟基芳族化合物， 聚乙烯醇和水，其中抛光组合物的pH为约1至约4.5。 本发明还提供了利用本发明的化学 - 机械抛光组合物对衬底进行化学机械抛光的方法。 通常，衬底含有氧化硅，氮化硅和/或多晶硅。

公开(公告)号：WO2016073551A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：PCT/US2015/058943

申请日：2015-11-04

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： GROSS, Timothy Michael ,  SHUSTACK, Paul John

IPC: C03C21/00 ,  B32B17/06 ,  B32B17/10 ,  H01L51/52 ,  C03C15/00 ,  C03C17/00 ,  C03C17/30 ,  C03C17/32

CPC classification number: B32B17/064 ,  B32B7/12 ,  B32B2457/206 ,  C03C15/00 ,  C03C17/007 ,  C03C17/322 ,  C03C17/326 ,  C03C2217/43 ,  C03C2217/445 ,  C03C2217/478 ,  H01L51/0097 ,  H01L2251/5338 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

Abstract: A bendable stack assembly that includes a glass element having a composition substantially free of alkali ions, an elastic modulus of about 40 GPa to about 100 GPa, a final thickness from about 20 µm to about 100 µm, a first primary surface substantially in tension upon a bending of the element, and a second primary surface substantially in compression upon the bending, the primary surfaces characterized by a prior material removal to the final thickness from an initial thickness that is at least 20 µm greater than the final thickness. The glass element also includes a protect layer on the first primary surface. In addition, the glass element is characterized by an absence of failure when the element is held during the bending at a bend radius of about 15 mm for at least 60 minutes at about 25C and about 50% relative humidity.

Abstract translation: 一种可弯曲的堆叠组件，其包括具有基本上不含碱离子的组成的玻璃元件，约40GPa至约100GPa的弹性模量，最终厚度为约20μm至约100μm，第一主表面基本上处于张力 所述元件的弯曲以及在弯曲时基本上被压缩的第二主表面，所述主表面的特征在于从比最终厚度大至少20μm的初始厚度从最初的厚度移除到最终厚度。 玻璃元件还包括在第一主表面上的保护层。 此外，玻璃元件的特征在于当在大约25℃和大约50％相对湿度下在约15mm的弯曲半径弯曲期间将元件保持在至少60分钟时，不存在故障。