公开(公告)号：WO2014132927A1

公开(公告)日：2014-09-04

申请号：PCT/JP2014/054353

申请日：2014-02-24

申请人： 東京エレクトロン株式会社

发明人： 上田　健一

IPC分类号： H01L21/027 ,  B05C9/10 ,  B05D3/04

CPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/46 ,  C23C16/463 ,  G03F7/16 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/0231 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115

摘要： 　疎水化処理装置Ｕ５は、冷却部４０と、光照射部５０と、給気部６０と、昇降部８０と、制御部９０とを備える。冷却部４０の冷却板４１はウェハＷの裏面Ｗｂに対向する。光照射部５０の光源５１ａはウェハＷの表面Ｗａに間隙をもって対向し、輻射加熱用の光を出射する。給気部６０のガス収容体６１は、光源５１ａの下側を覆うと共にウェハＷの表面Ｗａに間隙をもって対向する。ガス収容体６１の下側には複数のガス吐出口６３が設けられている。制御部９０は、昇降部８０を制御してウェハＷを冷却板４１に接近させた状態で、給気部６０を制御して疎水化処理ガスを送出する。その後、光照射部５０を制御して光源５１ａを発光させ、且つ昇降部８０を制御してウェハＷを光源に接近させた状態で、給気部６０を制御して疎水化処理ガスを送出する。

摘要翻译： 该疏水化处理装置（U5）配备有冷却单元（40），光照射单元（50），空气供给单元（60），升降单元（80）和控制单元（90）。 冷却单元（40）的冷却板（41）面向晶片（W）的后表面（Wb）。 光照射单元（50）的光源（51a）与晶片（W）的前表面（Wa）间隔开间隙，并发射用于辐射加热的光。 空气供给单元（60）的气体收容体（61）在光源（51a）的下侧覆盖并与晶片（W）的前表面（Wa）面对间隙。 储气体61的下侧设有多个排气口63。 控制单元（90）通过控制供气单元（60）来输送疏水化处理气体，其中晶片（W）由于控制升降单元（80）而位于冷却板（41）附近。 此后，通过控制空气供给单元（60）来输送疏水化处理气体，同时通过控制光照射单元（50）从光源（51a）发射光，并且将晶片（W）定位在光附近 作为控制升降单元（80）的结果。

公开(公告)号：WO2014070750A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/US2013/067280

申请日：2013-10-29

申请人： YOKLEY, Edward Maxwell ,  OBENG, Yaw Samuel

发明人： YOKLEY, Edward Maxwell ,  OBENG, Yaw Samuel

IPC分类号： B05D1/38 ,  B05D3/04 ,  B05D3/06

CPC分类号： H05K1/185 ,  B05D1/62 ,  B05D3/142 ,  B05D3/144 ,  B29C59/14 ,  C03C23/006 ,  C03C2218/31 ,  H05K3/284 ,  H05K2201/0104 ,  H05K2201/0195 ,  H05K2201/09872 ,  H05K2203/095

摘要： A film deposition process comprising exposing a surface of a substrate to a first plasma treatment having plasma reactants in a plasma chamber to form an activated substrate surface. The activated surface has a lower water contact angle than the substrate surface before the surface activating. The process comprises introducing water vapor into the plasma chamber to form a water layer on the activated surface. The process comprises introducing pre-cursors molecules into the plasma chamber in the presence of a second plasma to graft a layer of reacted pre-cursor molecules on the water layer.

摘要翻译： 一种成膜方法，包括将衬底的表面暴露于在等离子体室中具有等离子体反应物的第一等离子体处理以形成活化的衬底表面。 激活的表面在表面激活之前具有比基底表面更低的水接触角。 该方法包括将水蒸气引入等离子体室中以在活化表面上形成水层。 该方法包括在存在第二等离子体的情况下将预游离子分子引入等离子体室，以在水层上移植一层反应的前体分子。

公开(公告)号：WO2012163491A8

公开(公告)日：2013-11-14

申请号：PCT/EP2012002185

申请日：2012-05-23

申请人： EISENMANN AG ,  ALBRECHT MARKUS ,  TIETZE FRANK

发明人： ALBRECHT MARKUS ,  TIETZE FRANK

IPC分类号： B05D3/12 ,  B05D3/04 ,  B05D7/14 ,  B24C1/00 ,  B24C1/08

CPC分类号： B05B15/0258 ,  B05B15/025 ,  B05B15/1288 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/12 ,  B05D7/14 ,  B24C1/003 ,  B24C3/08

摘要： The invention relates to a system for coating articles (4) which in known manner comprises a coating booth (1), a conveyor system (5), which guides the articles (4) to be coated through the coating booth (2), and at least one application unit (8, 9), which is carried and guided by a handling device (6, 7). A central supply unit (14) comprises a tank (14b) for storing CO2 in liquid or solid form and conveying means, which are able to remove CO2 from the tank (14b) and supply it at a suitable pressure to a collecting line (13). Said collecting line (13) is connected to at least one cleaning apparatus (10, 11), which in turn comprises at least one nozzle of suitable design for delivering CO2 for cleaning purposes. Under program control a relative movement between the nozzle and the application unit (8, 9) is induced, such that all surfaces of the application unit (8, 9) to be cleaned can be reached by CO2. In this manner a complete automation of the cleaning of the outer surfaces of the application unit (8, 9) and optionally adjacent regions of the handling device (6, 7) is possible.

摘要翻译： 它是用于涂覆的物体的系统（4）描述了一种涂敷室以已知的方式（1），一个传送系统（5），其引导通过涂敷室（2）被涂覆（4）的对象，以及至少一个应用单元（ 8，9），其（从一个操纵装置6，被支撑7）和引导。 中央供应单元（14）包括一个罐（14B），用于CO 2的以液体或固体形式的存储以及传送装置，其能够从罐中去除CO 2（14B）和与歧管（13）的合适的印刷提供。 此歧管（13）与至少一个清洁装置（10，11），这反过来又具有用于以合适的形式用于清洁目的分配CO2的至少一个喷嘴。 所述喷嘴和所述施加单元（8,9）之间的相对运动被编程来完成，使得所有表面将被清洁的应用单元的（8,9）可以通过CO 2来实现。 以这种方式，应用程序单元（8,9）和所述机械手的可能的相邻区域的外表面的清洁的完整的自动化（6,7）是可能的。

公开(公告)号：WO2013162909A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：PCT/US2013/036233

申请日：2013-04-11

申请人： APPLIED MATERIALS, INC. ,  SUN, Jennifer, Y. ,  KANUNGO, Biraja, P. ,  DUAN, Ren-guan

发明人： SUN, Jennifer, Y. ,  KANUNGO, Biraja, P. ,  DUAN, Ren-guan

IPC分类号： C23C4/08 ,  B05D3/04

CPC分类号： C04B35/505 ,  C04B35/62884 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3244 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C24/04 ,  H01J37/32082 ,  Y10T428/24997

摘要： In an optimized method to apply a plasma sprayed coating of a yttrium containing oxide onto an article, a plasma power of between about 89 - 91 kW is selected for a plasma spraying system. Gas is flowed through the plasma spraying system at a selected gas flow rate of about 115 - 130 L/min. Ceramic powder comprising a yttrium containing oxide is fed into the plasma spraying system at a selected powder feed rate of about 10 - 30 g/min. A yttrium dominant ceramic coating is then formed on the article based on the selected power, the selected gas flow rate and the selected powder feed rate.

摘要翻译： 在将含有钇的氧化物的等离子喷涂涂层施加到制品上的优化方法中，等离子体喷涂系统选择约89kW至91kW的等离子体功率。 气体以约115-130L / min的选定气体流速流过等离子喷涂系统。 包含含钇氧化物的陶瓷粉末以约10-30g / min的选定的粉末进料速率进料到等离子喷涂系统中。 然后基于所选择的功率，所选择的气体流速和所选的粉末进料速率在制品上形成钇优势陶瓷涂层。

公开(公告)号：WO2012163854A1

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：PCT/EP2012/059900

申请日：2012-05-25

申请人： KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE ,  WÖLL, Christof ,  SHEKHAH, Osama ,  FRANZREB, Matthias ,  ARSLAN, Hasan ,  WOHLGEMUTH, Jonas ,  FISCHER, Roland

发明人： WÖLL, Christof ,  SHEKHAH, Osama ,  FRANZREB, Matthias ,  ARSLAN, Hasan ,  WOHLGEMUTH, Jonas ,  FISCHER, Roland

IPC分类号： B05D1/02 ,  B05D1/38 ,  H01L21/67 ,  B05D3/04

CPC分类号： B05D1/38 ,  B01D67/0072 ,  B01D71/00 ,  B01D2323/42 ,  B05B7/2489 ,  B05D1/02 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/107 ,  B05D7/56 ,  B05D2203/30 ,  B05D2401/10 ,  H01L21/6715 ,  Y10T428/249953

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung, deren Verwendung und ein Verfahren zur Herstellung von hoch porösen, kristallinen Oberflächenbeschichtungen mit wenigstens zwei in sequenzieller Abfolge arbeitenden Sprühvorrichtungen zum Auftragen von Beschichtungsmitteln aus den Vorratsgefäßen (3, 4) auf ein auf einem Probenhalter (1) angeordnetes Material und wenigstens einer Spülvorrichtung (5, 13, 16) zur Entfernung ungebundener Moleküle von der beschichteten Oberfläche.

摘要翻译： 本发明涉及一种设备，其使用和用于制造具有至少两个以顺序次序喷射装置工作用于施加涂层时从该储存容器装置高度多孔的结晶表面涂料的方法，（3，4）设置在上一个样品保持器（1）材料 和至少一个冲洗装置（5，13，16），以从涂布表面除去未结合的分子。

公开(公告)号：WO2012038561A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：PCT/ES2011/000242

申请日：2011-07-28

申请人： LIFITEC, S.L.U. ,  PELAEZ AGIRRE, Joseba Koldo ,  PEREZ ZABALA, Gorka

发明人： PELAEZ AGIRRE, Joseba Koldo ,  PEREZ ZABALA, Gorka

IPC分类号： B05D3/04 ,  B05D3/06

CPC分类号： B05C9/12 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/067

摘要： Aparato para permitir el curado del recubrimiento de una pieza (1), el cual comprende al menos una cuba (2) con gas inerte más pesado que el aire y en la cual se introduce la pieza (1), y al menos una fuente de radiación UV (3) que genera radiaciones que inciden sobre la pieza (1) para producir el curado. El aparato comprende además una zona de extracción (4), un circuito de recirculación (5) y una zona de inserción (6), por donde respectivamente se extrae gas inerte de la cuba (2), se recircula dicho gas inerte y se introduce nuevamente en la cuba (2). En el circuito de recirculación (5) se localiza al menos un elemento de refrigeración (7) del gas inerte. De este modo se consigue evitar el sobrecalentamiento del gas inerte del interior de la cuba (2) y reducir el riesgo de inestabilidades en la atmósfera de gas inerte.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于使得部件（1）的涂层固化的装置，所述装置包括至少一个容纳惰性气体的罐（2），所述惰性气体比空气重，并且所述部件（1）被引入其中 以及至少一个UV辐射源（3），其产生入射在所述部分（1）上的辐射以产生固化。 该设备还包括提取区域（4），再循环回路（5）和插入区域（6），惰性气体通过该区域从罐（2）中分别提取，再循环并重新引入罐（2） 。 用于冷却（7）惰性气体的至少一个元件位于再循环回路中。 以这种方式，防止了罐（2）内的惰性气体的过热，并且降低了惰性气体气氛中的不稳定性的风险。

公开(公告)号：WO2011157603A1

公开(公告)日：2011-12-22

申请号：PCT/EP2011/059462

申请日：2011-06-08

申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE ,  TSCHURL, Thomas ,  GÜLDNER, Dominic ,  SCHMIDT, Sebastian

发明人： TSCHURL, Thomas ,  GÜLDNER, Dominic ,  SCHMIDT, Sebastian

IPC分类号： B05D1/30 ,  B05D3/04 ,  B05D7/00 ,  B05D7/02 ,  B05C11/06

CPC分类号： B05D3/0406 ,  B05D1/30 ,  B05D3/0413 ,  B05D3/042 ,  B05D7/02 ,  B05D7/54

摘要： Verfahren zur Flutbeschichtung eines polymeren Werkstoffes, wobei mindestens a. ein Bauteil (1) mit einem Winkel von 25° bis 90° zum Boden (5) in eine Halterung (2) eingelegt wird, b. das Bauteil (1) von einer oberen Kante (1a) an mit einem Lack (3) beschichtet wird und der Lack (3) währenddessen und/oder anschließend innerhalb eines Bereiches von 30 % der an die obere Kante (1a) angrenzenden Oberfläche des Bauteils (1) mit einem Luftstrom (4) beaufschlagt wird.

摘要翻译： 一种用于聚合物材料的洪水涂层的方法，其中至少一个。 一个部件（1）与在支架（2）的25°〜90°的底部（5）的角度插入，B。 从上边缘（1a）的与清漆（3）涂覆并在此期间，该部件的漆（3）和/或随后的范围的顶边的30％内的相邻（1a）的表面上的部件（1） （1）在与空气流（4）被加载。

公开(公告)号：WO2011116882A1

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：PCT/EP2011/001139

申请日：2011-03-09

申请人： EISENMANN AG ,  SLUKA, Daniel

发明人： SLUKA, Daniel

IPC分类号： B05D3/04 ,  B05D3/06

CPC分类号： B05D3/067 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/0486 ,  F26B3/28 ,  F26B2210/12

摘要： Eine Vorrichtung zum Aushärten einer Beschichtung, insbesondere eines UV-Lacks, auf einem Gegenstand, insbesondere auf einer Fahrzeugkarosserie, mit elektromagnetischer Strahlung, umfasst einen von einem Gehäuse (30) begrenzten Belichtungsraum (46), in welchen der Gegenstand (26) hinein und aus welchem der Gegenstand (26) wieder heraus förderbar ist und welchem mittels einer Inertgaseinrichtung (69) Inertgas zuführbar ist. Mit Strahlungsmitteln (86) ist elektromagnetische Strahlung erzeugbar. Das Gehäuse (30) umfasst einen Innenmantel (32), welcher den Belichtungsraum (46) zumindest teilweise begrenzt, und einen Außenmantel (34), welcher den Innenmantel (32) zumindest teilweise umgibt, wobei zwischen dem Innenmantel (32) und dem Außenmantel (34) ein Arbeitsraum (36) ausgebildet ist. Strahlungsmittel (86) sind derart in dem Arbeitsraum (36) angeordnet, dass Strahlung durch den Innenmantel (32) hindurch dringen muss, um in den Belichtungsraum (46) und auf die zu belichtende Beschichtung zu gelangen.

摘要翻译： 用于在物品上固化涂料，特别是UV-清漆，特别是在车体上，用电磁辐射的装置，包括一个壳体的一个（30）有限的接触空间（46），其中，所述对象（26）进入和离开的 其中所述制品（26）可以被再次输送出来，其通过Inertgaseinrichtung的装置（69）的惰性气体可以被供给。 被电磁辐射所产生的辐射的装置（86）。 所述壳体（30）包括一个内包层（32）包围该曝光室（46）至少部分地限定，以及围绕所述内部壳体（32）的外护套（34）至少部分地，其中，所述内壳（32）和所述外护套之间（ 34）一个工作腔（36）形成。 辐射装置（86）被布置在所述工作空间（36），该辐射必须穿过内壳穿透（32）穿过其中到达曝光室（46）和要被曝光的涂层。

公开(公告)号：WO2010140337A1

公开(公告)日：2010-12-09

申请号：PCT/JP2010/003635

申请日：2010-05-31

申请人： 三菱電機株式会社 ,  山本義則 ,  吉田育弘 ,  熊田輝彦 ,  森岡怜司 ,  日比孝明

发明人： 山本義則 ,  吉田育弘 ,  熊田輝彦 ,  森岡怜司 ,  日比孝明

IPC分类号： B05D3/12 ,  B05D3/04 ,  B05D5/06 ,  F28F1/32 ,  F28F13/18

CPC分类号： B05D3/042 ,  B05D3/10 ,  B05D5/083 ,  F28F1/32 ,  F28F13/18 ,  F28F19/04 ,  F28F2245/04

摘要： 　複雑な形状を有する機器において、簡易な構成により十分な液切を行いムラのない均一なコーティング膜を形成できるコーティング方法を提供する。　機器のコーティング方法において、機器を洗浄液に浸漬させる洗浄工程と、上記機器をリンス液に浸漬させるリンス工程と、水性媒体中に疎水性の樹脂粒子が分散されたコーティング液を上記機器に塗布するコーティング工程と、上記コーティング液が塗布された上記機器の上方および下方の少なくとも２方向に設けられた気体噴出口から、上記機器の所定位置に上記２方向の気体を衝突させて噴きつける気体噴きつけ工程と、上記コーティング液を乾燥させる乾燥工程とを備える。

摘要翻译： 提供一种涂布方法，其中可以使用简单的构造通过充分除去多余的流体，在具有复杂形状的仪器上形成均匀的涂膜。 用于涂布仪器的方法包括清洁步骤，其中将仪器浸入洗涤剂中，冲洗步骤，其中将仪器浸入冲洗液中;涂布步骤，其中包含水性介质的涂布液和疏水性树脂颗粒分散 在其中施加气体吹送步骤，其中气体从设置在涂覆有涂覆液体的仪器上方和下方的至少两个方向上的气体喷射口吹送到仪器的给定区域，同时使气流从 两个方向彼此撞击，并且干燥步骤，其中涂布液被干燥。

公开(公告)号：WO2009102564A3

公开(公告)日：2009-11-26

申请号：PCT/US2009032807

申请日：2009-02-02

申请人： BOSTON SCIENT SCIMED INC

发明人： FENG JAMES A ,  GENOVESE FRANK ,  SHIPPY JAMES LEE

IPC分类号： B05D1/02 ,  B05D3/04

CPC分类号： B05D1/02 ,  B01L3/502707 ,  B05B7/066 ,  B05B15/02 ,  B05B15/025 ,  B05C5/001 ,  B05D3/0486

摘要： An apparatus for depositing coating onto a substrate including a housing having a nozzle including a nozzle orifice, a fluid source configured to deliver coating fluid to the nozzle, and a solvent vapor emitter. The solvent vapor emitter can be located proximate to the nozzle, for example, such as behind the nozzle orifice and/or in a direction substantially parallel to a central axis of the housing. During coating, coating fluid may exit the nozzle and is deposited onto the substrate while the solvent vapor emitter emits solvent vapor proximate to the nozzle orifice.

摘要翻译： 一种用于在基底上沉积涂层的设备，该设备包括具有喷嘴的壳体，所述喷嘴包括喷嘴孔，构造成将涂覆流体输送到喷嘴的流体源和溶剂蒸气发射器。 溶剂蒸气发射器可以位于喷嘴附近，例如位于喷嘴孔后面和/或在基本上平行于壳体中心轴线的方向上。 在涂布过程中，涂布液可以离开喷嘴并沉积在基材上，同时溶剂蒸汽发射器靠近喷嘴孔喷射溶剂蒸汽。