中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

42 records (took 0.014 seconds)

    VERFAHREN ZUM AUFTRAGEN VON KUNSTSTOFFBESCHICHTUNGEN, VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS UND VERFAHRENSGEMÄß HERSTELLBARES BESCHICHTETES SUBSTRAT
    1.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM AUFTRAGEN VON KUNSTSTOFFBESCHICHTUNGEN, VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS UND VERFAHRENSGEMÄß HERSTELLBARES BESCHICHTETES SUBSTRAT 审中-公开
    此费用包括塑料涂料，设备用于实施并涂覆基材的方法，根据制造的

    公开(公告)号：WO2017134165A1

    公开(公告)日：2017-08-10

    申请号：PCT/EP2017/052254

    申请日：2017-02-02

    Applicant: SCHMID RHYNER AG

    Inventor： SCHLATTERBECK, Dirk

    IPC: B41J11/00 ,  B05D3/06 ,  B41M7/00 ,  B65B61/26 ,  B41J2/19 ,  C09D11/101 ,  B01D19/00

    CPC classification number: B41J11/002 ,  B01D19/0036 ,  B05D1/26 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/067 ,  B05D2252/02 ,  B41J2/19 ,  B41M7/0045 ,  B41M7/0081 ,  B65D5/00 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (10) zum Beschichten eines flächigen Substrats (12) mit einer Polymerbeschichtung (14). Die Vorrichtung (10) umfasst: - einen Tintenstrahldruckkopf (16) mit mehreren Düsen (18) und einem mit den Düsen (18) verbundenen Vorratsbehälter (20) zur Aufnahme eines polymerisierbaren oder vernetzbaren Beschichtungsfluids (11), wobei das Beschichtungsfluid (11) im Vorratsbehälter (20) entgast, insbesondere frei oder weitgehend frei von molekularem Sauerstoff ist, - eine Härtungseinrichtung (22) zur Härtung des vom Tintenstrahldruckkopf (16) auf das Substrat (12) aufgetragenen Beschichtungsfluids (11), - eine Vorschubeinrichtung (26) zum Transport des Substrats (12) relativ zum Tintenstrahldruckkopf (16) und zur Härtungseinrichtung (22) derart, dass ein Oberflächenabschnitt des Substrats (12) zuerst am Tintenstrahldruckkopf (16) entlang und danach an der Härtungseinrichtung (22) vorbei bewegt wird, - ein Gehäuse (28), in welchem die Härtungseinrichtung (22) und der Tintenstrahldruckkopf (16) angeordnet sind, und - eine Einrichtung (30) zur Zuführung eines Inertgases, welche am Gehäuse (28) angeschlossen ist, um das Gehäuse (28) mit Inertgas zu fluten, so dass sowohl das in das Gehäuse (28) eingeführte Substrat (12) in der Inertgasatmosphäre mit dem Tintenstrahldruckkopf (16) beschichtbar, als auch die aufgedruckte fluide Beschichtung mittels der Härtungseinrichtung (22) zu einer festen Polymerbeschichtung (14) durch Polymerisierung oder Vernetzung in der Inertgasatmosphäre aushärtbar ist.

    Abstract translation:

    本发明涉及一种用于涂覆FL＆AUML一个装置（10）;具有聚合物涂层（14）来讲衬底（12）。 的装置（10），包括： - 一个喷墨打印头（16），具有多个d导航使用的钱（18）和一个与相关联的钱（18）储层AUML的d导航用途;用于接收可聚合或可交联的涂料流体（11）滤波器（20），其中 涂布液（11）是储层AUML;滤波器（20）中的混合物脱气，特别是不含或基本不含分子氧， - 一个HANDS rtungseinrichtung（22），用于在基板上的喷墨打印头（16）的HANDS维护（12）施加的涂料流体 （11）， - 用于输送基片（12）相对于所述喷墨打印头（16）以及在进料装置（26）HANDS rtungseinrichtung（22），使得所述衬底（12）首先在喷墨打印头（16）的表面BEAR chenabschnitt沿着 然后在HANDS rtungseinrichtung（22）上移动， - 壳体BEAR使用（28），其中，所述HANDS rtungseinrichtung（22）和喷墨打印头（16）被设置，以及 - 一个工作单位 NG（30），用于将惰性气体，其在壳体BEAR连接使用（28）到外壳BEAR洪水喷嘴（28）用惰性气体的Zuf导航使用导轨，使两者在外壳BEAR使用（28）插入的导航使用硬度 衬底（12）在惰性气体BEAR重新与喷墨打印头（16）可被涂覆，以及所述印刷流体涂层借助于手rtungseinrichtung（22），以形成通过聚合或在惰性气体BEAR重新变硬BEAR rtbar交联的固体聚合物涂层（14） 是

    PATTERNED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND PROCESS FOR PRODUCING SUCH A PATTERNED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
    3.
    发明申请
    PATTERNED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND PROCESS FOR PRODUCING SUCH A PATTERNED TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM 审中-公开
    图案透明导电膜及其生产方法图形透明导电薄膜

    公开(公告)号：WO2016166148A1

    公开(公告)日：2016-10-20

    申请号：PCT/EP2016/058101

    申请日：2016-04-13

    Applicant: BASF SE

    Inventor： ZHANG, Rui Rachel ,  KHANARIAN, Garo ,  DIETSCH, Herve

    IPC: H01L51/00 ,  B82Y40/00 ,  H01B1/22

    CPC classification number: H01B1/22 ,  B05D1/26 ,  B05D1/28 ,  B05D3/0466 ,  B82Y30/00 ,  G06F2203/04103 ,  H01B13/0036 ,  H01L51/0023

    Abstract: The invention relates to a patterned transparent conductive film, comprising areas with higher conductivity and areas with lower conductivity, wherein in the areas with higher conductivity nanoobjects are disposed in a binder matrix such that the nanoobjects are interconnected and thereby form an area with higher conductivity and wherein in the areas with lower conductivity the nanoobjects are structurally intact and are coated with an insulating coating material. The invention further relates to a process for producing such a patterned transparent conductive film comprising areas with lower conductivity and areas with higher conductivity, comprising following steps: (a) applying an ink comprising electrically conductive nanoobjects and a binder on a substrate, forming a first layer, wherein the amount of conductive nanoobjects is such that the first layer is conductive after drying; (b) drying of the first layer; (c) applying a mixture comprising an insulating coating material or a precursor of an insulating coating material on that parts of the first layer which shall form the areas with lower conductivity, wherein the insulating coating material or the precursors form an insulating coating around the electrically conductive nanowires; (d) drying of the coated substrate.

    Abstract translation: 本发明涉及一种图案化的透明导电膜，包括具有较高导电率和较低导电率的区域的图案化透明导电膜，其中在具有较高导电性的纳米对象的区域中设置在粘合剂基质中，使得纳米对象互相连接，从而形成具有较高导电率的区域， 其中在具有较低导电性的区域中，纳米对象在结构上是完整的并且涂覆有绝缘涂层材料。 本发明还涉及一种制备这种图案化透明导电膜的方法，所述图案化的透明导电膜包括具有较低导电率的区域和具有较高导电率的区域，包括以下步骤：（a）将包含导电纳米物体和粘合剂的墨施加到基底上，形成第一 其中所述导电纳米对象的量使得所述第一层在干燥之后是导电的; （b）干燥第一层; （c）将包含绝缘涂层材料或绝缘涂层材料的前体的混合物施加在第一层的应形成较低导电率的区域的部分上，其中绝缘涂层材料或前体在电气周围形成绝缘涂层 导电纳米线; （d）干燥涂覆的基材。

    酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置
    4.
    发明申请
    酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置 审中-公开
    氧化膜沉积方法和氧化膜沉积装置

    公开(公告)号：WO2013038484A1

    公开(公告)日：2013-03-21

    申请号：PCT/JP2011/070783

    申请日：2011-09-13

    Applicant: 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  織田 容征 ,  白幡 孝洋 ,  平松 孝浩

    Inventor： 織田　容征 ,  白幡　孝洋 ,  平松　孝浩

    IPC: C01B13/34 ,  C23C16/44

    CPC classification number: B05D3/0453 ,  B05C5/00 ,  B05D3/0466 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40 ,  C23C16/4486 ,  C23C16/452

    Abstract: 　本発明は、大気の変動の影響を受けず常に酸化膜を正常に成膜でき、金属酸化膜にあっては低抵抗な膜が成膜でき、かつ成膜効率の良い、酸化膜成膜方法を提供する。そして、本発明では、大気中において、基板（１００）に対して、アルキル化合物を含む原料溶液をミスト状にして噴出させる。さらに、アルキル化合物に対して酸化作用を有する酸化剤を、ミスト状の原料溶液に対して、供給する。以上の処理により、本発明では、基板上に酸化膜を成膜する。

    Abstract translation: 本发明提供一种氧化膜沉积方法，其可以正常地稳定地沉积氧化膜而不受大气波动的影响，并且可以沉积低电阻金属氧化物膜，并且其具有令人满意的膜沉积效率。 在该方法中，将含有烷基化合物的原料溶液以空气的形式喷射到基板（100）。 此外，将具有氧化烷基化合物功能的氧化剂供给原料溶液的雾。 通过这样处理衬底，氧化膜沉积在衬底上。

    VORRICHTUNG FÜR DIE BEHANDLUNG EINES SUBSTRATS MIT UV-STRAHLUNG UND VERWENDUNG DER VORRICHTUNG
    8.
    发明申请
    VORRICHTUNG FÜR DIE BEHANDLUNG EINES SUBSTRATS MIT UV-STRAHLUNG UND VERWENDUNG DER VORRICHTUNG 审中-公开
    用UV辐射处理基片的装置和该装置的使用

    公开(公告)号：WO2017137211A1

    公开(公告)日：2017-08-17

    申请号：PCT/EP2017/050765

    申请日：2017-01-16

    Applicant: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH

    Inventor： ECKMANN, Axel ,  ROTH-FÖLSCH, Angelika ,  RÜTH, Christian ,  WINDERLICH, Jan

    IPC: B05D3/04 ,  B05D3/06 ,  H01J61/52 ,  H01J61/82 ,  F21V29/60

    CPC classification number: B05D3/067 ,  B05D3/0426 ,  B05D3/0466 ,  H01J61/523 ,  H01J61/822

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für die Behandlung eines Substrats mit UV-Strahlung, umfassend eine Reaktionskammer zur Aufnahme des zu bestrahlenden Substrats, die einen Einlass zur Einleitung eines Stickstoffstroms in die Reaktionskammer aufweist, und einen von der Reaktionskammer räumlich getrennten Kühlkanal zur Durchleitung eines Kühlfluides, und einen UV-Strahler zur Emission der UV-Strahlung auf das Substrat. Um eine Vorrichtung in kompakter Bauweise anzugeben, die mit maximaler Strahlungsausbeute arbeitet und einen effizienten Einsatz des Inertgases und des Kühlfluids ermöglicht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass der UV-Strahler eine Quecksilberdampfentladungslampe mit mindestens einem Quecksilberdepot in mindestens einem Strahler-Ende umfasst, die eine Entladungszone innerhalb der Reaktionskammer aufweist und deren Strahler-Ende mit dem Quecksilberdepot in den Kühlkanal hineinragt. Die Vorrichtung findet in einem Verfahren zur foto-induzierten Polymerisation von Silikonschichten Verwendung.

    Abstract translation:

    本发明涉及一种设备，用于导航使用R 2与UV辐射的衬底的处理，包括：一个反应室，用于接收所述材料被照射基板，其具有用于在所述反应室中引入氮气流的入口，和一个 反应室具有用于冷却流体通过的单独冷却通道和用于将UV辐射发射到衬底上的UV发射器。 为了提供一种紧凑设计的装置，该装置以最大辐射效率工作并且允许惰性气体和冷却流体的有效使用，根据本发明，本发明提供了 建议，UV灯包括与至少一种汞存款在具有反应室内的排出区域，其发射极端连接到水银储库在K导航使用的至少一个散热器端部的水银蒸汽放电灯突出hlkanal。 该装置用于硅氧烷层的光致聚合过程。

    PROGRAMMABLE DEPOSITION OF THIN FILMS OF A USER-DEFINED PROFILE WITH NANOMETER SCALE ACCURACY
    10.
    发明申请
    PROGRAMMABLE DEPOSITION OF THIN FILMS OF A USER-DEFINED PROFILE WITH NANOMETER SCALE ACCURACY 审中-公开
    具有纳米尺度精度的用户定义轮廓的薄膜的可编程沉积

    公开(公告)号：WO2015026735A1

    公开(公告)日：2015-02-26

    申请号：PCT/US2014/051526

    申请日：2014-08-18

    Applicant: BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM

    Inventor： SREENIVASAN, Sidlgata, V. ,  SINGHAL, Shrawan

    IPC: B05D3/06 ,  B05D1/42

    CPC classification number: B05D1/40 ,  B05D1/02 ,  B05D1/34 ,  B05D1/42 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/0493 ,  B05D3/067 ,  B05D3/12 ,  B05D5/00 ,  B29C35/0888 ,  B29C43/021 ,  B29C59/026 ,  B81C1/0046 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0271

    Abstract: An inkjet-based process for programmable deposition of thin films of a user-defined profile. Drops of a pre-cursor liquid organic material are dispensed at various locations on a substrate by a multi-jet. A superstrate that has been bowed due to a backside pressure is brought down such that a first contact of the drops is made by a front side of the superstrate thereby initiating a liquid front that spreads outward merging with the drops to form a contiguous film captured between the substrate and the superstrate. A non-equilibrium transient state of the superstrate, the contiguous film and the substrate then occurs after a duration of time. The contiguous film is then cured to crosslink it into a polymer. The superstrate is then separated from the polymer thereby leaving a polymer film on the substrate. In such a manner, non-uniform films can be formed without significant material wastage in an inexpensive manner.

    Abstract translation: 用于用户定义的轮廓的薄膜的可编程沉积的基于喷墨的方法。 通过多射流将预取液体有机材料的液滴分配在基板上的各个位置。 已经由于背侧压力而被鞠躬的顶板被降低，使得液滴的第一次接触由顶板的前侧制成，从而引发液面向外扩散，与液滴向外汇合形成连续的薄膜， 底物和底层。 然后在持续时间之后发生上层的非平衡瞬态，连续膜和衬底发生。 然后将连续的膜固化以将其交联成聚合物。 然后将上层与聚合物分离，从而在基材上留下聚合物膜。 以这种方式，可以以廉价的方式形成不均匀的膜，而不会显着的材料浪费。

Patent Agency Ranking