公开(公告)号：WO1996029355A1

公开(公告)日：1996-09-26

申请号：PCT/US1996003415

申请日：1996-03-12

Applicant: HOECHST CELANESE CORPORATION

Inventor： HOECHST CELANESE CORPORATION ,  SOUNIK, James, R. ,  MOTT, Graham, N. ,  HILTON, Charles, B.

IPC: C08F12/24

CPC classification number: C08G61/02 ,  C07C29/145 ,  C08F12/24 ,  Y02P20/582

Abstract: The present invention provides a unique and novel way of producing polyhydroxystyrene which comprises the steps of (a) heating 4-hydroxyacetophenone under suitable hydrogenation conditions of temperature and pressure in the presence of a suitable palladium catalyst and for a sufficient period of time to form 4-hydroxyphenylmethyl-carbinol; (b) heating 4-hydroxyphenylmethyl-carbinol under suitable conditions of temperature and pressure and for a sufficient period of time to form said polyhydroxystyrene.

Abstract translation: 本发明提供了一种独特且新颖的多羟基苯乙烯生产方法，该方法包括以下步骤：（a）在合适的钯催化剂存在下，在合适的温度和压力的氢化条件下加热4-羟基苯乙酮，并持续足够的时间以形成4 -hydroxyphenylmethyl-甲醇; （b）在合适的温度和压力条件下加热4-羟基苯基甲基 - 甲醇并持续足够的时间以形成所述多羟基苯乙烯。

公开(公告)号：WO2023048163A1

公开(公告)日：2023-03-30

申请号：PCT/JP2022/035110

申请日：2022-09-21

Applicant: リンテック株式会社

Inventor： 早坂　遼平 ,  宮田　壮 ,  樫尾　幹広

IPC: C08F12/24 ,  C08G59/40 ,  C08G59/62

Abstract: 植物に由来し、炭素数１５～１７の不飽和脂肪族炭化水素基を有するフェノール化合物（Ａ）を酸化重合させてなる多官能フェノール化合物であって、２３℃で固体状又は２３℃における粘度が５０，０００ｍＰａ・ｓ超である、多官能フェノール化合物及びその製造方法に関する。

公开(公告)号：WO2021065450A1

公开(公告)日：2021-04-08

申请号：PCT/JP2020/034762

申请日：2020-09-14

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 三好　太朗 ,  米久田　康智 ,  福▲崎▼　英治 ,  高橋　年哉

IPC: C07C25/02 ,  C07C43/225 ,  C07C309/12 ,  C07C309/22 ,  C07C309/42 ,  C07C309/58 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C08F20/16 ,  C08F20/58 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: （Ａ）酸分解性樹脂、（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される化合物、及び（Ｃ）一般式（ｃ１）で表される化合物を含有し、化合物（Ｂ）の含有量に対する化合物（Ｃ）の含有量の割合が０．０１質量％以上１０質量％以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法。　Ｌは単結合又は二価の連結基を表す。Ａは酸の作用により分解する基を表す。Ｂは酸の作用により分解する基、ヒドロキシ基又はカルボキシ基を表す。ただし、少なくとも１つのＢはヒドロキシ基又はカルボキシ基を表す。ｎは１から５の整数を表す。Ｘはｎ＋１価の連結基を表す。Ｍ＋はスルホニウムイオン又はヨードニウムイオンを表す。

公开(公告)号：WO2021040384A1

公开(公告)日：2021-03-04

申请号：PCT/KR2020/011331

申请日：2020-08-25

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 최경신 ,  김원희 ,  고영수 ,  정하영 ,  카리뇨안 채리시

IPC: C08F4/52 ,  C08F2/44 ,  C08F2/38 ,  C08K5/16 ,  C08K5/06 ,  C08F12/12 ,  C08F210/10 ,  C08F210/14 ,  C08F12/24 ,  C08F236/04

Abstract: 본 발명은 옥소늄 이온계 촉매 및 첨가제를 포함하는 촉매 조성물 및 이를 이용한 탄화수소 수지의 제조방법에 관한 것이다.

公开(公告)号：WO2018155188A1

公开(公告)日：2018-08-30

申请号：PCT/JP2018/004246

申请日：2018-02-07

Applicant: 日本ゼオン株式会社

Inventor： 櫻井　隆覚

IPC: G03F7/023 ,  C08F12/24 ,  C08F20/10 ,  G03F7/004 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22

Abstract: 耐熱形状保持性に優れたポジ型レジスト膜を形成することができる感光性樹脂組成物の提供。本発明の感光性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される単量体単位を有する重合体と、ポリアミドイミドとを含む。 （一般式（Ｉ）中、Ｒ １ は、化学的な単結合、または置換基を有していてもよい炭素数１～６の２価の炭化水素基であり、Ｒ ２ は、水素原子、または置換基を有していてもよい炭素数１～６の１価の炭化水素基である。）

公开(公告)号：WO2017222978A1

公开(公告)日：2017-12-28

申请号：PCT/US2017/038123

申请日：2017-06-19

Applicant: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC ,  ROHM AND HAAS COMPANY

Inventor： CARLIN, William ,  CRAWFORD, Patricia ,  DEETZ, Martin ,  ROHANNA, John C. ,  SCHULTZ, Alfred K. ,  VERSAGLI, Lauren

IPC: C08F8/26 ,  C08F12/18 ,  C08F12/24 ,  B01J20/26 ,  C02F1/28 ,  C02F1/42 ,  C02F101/20 ,  C08F212/08 ,  C08F212/36 ,  C08F8/24 ,  C08F8/12 ,  C08F8/02

Abstract: Provided is a method of treating a vinyl aromatic resin (I) comprising (a) bringing the vinyl aromatic resin (I) into contact with an alcohol, and maintaining the contact between the vinyl aromatic resin (I) and the alcohol for 10 minutes or more, and (b) bringing the vinyl aromatic resin into contact with a base. wherein the vinyl aromatic resin (I), prior to steps (a) and (b), has benzyl chloride groups, benzyl alcohol groups, and methylene bridge groups.

Abstract translation: 提供了一种处理乙烯基芳族树脂（I）的方法，所述方法包括：（a）使乙烯基芳族树脂（I）与醇接触，并保持乙烯基芳族树脂（I ）和醇10分钟以上，（b）使乙烯基芳香族树脂与碱接触。 其中在步骤（a）和（b）之前，乙烯基芳族树脂（I）具有苄基氯基团，苯甲醇基团和亚甲基桥基团。

公开(公告)号：WO2016208313A1

公开(公告)日：2016-12-29

申请号：PCT/JP2016/065354

申请日：2016-05-24

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 椿　英明 ,  土橋　徹 ,  二橋　亘

IPC: G03F7/32 ,  C08F12/24 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F12/24 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: 高精度の微細パターンにおける、パターン倒れ性能とブリッジ性能を非常に高い次元で両立するために、感活性光線性又は感放射線性組成物から得られるレジスト膜に用いられる現像液であって、分岐アルキル基を有する、ケトン系又はエーテル系溶剤を含む現像液、この現像液を用いるパターン形成方法、及びこのパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。

Abstract translation: 本发明提供一种显影液，其特征在于，在由活性射线敏感性或辐射敏感性组合物得到的抗蚀剂膜上使用的显影液，以达到极高的图案塌陷性能和高精度精细图案的桥接性能， 包括具有支链烷基的酮基或醚类溶剂; 使用所述显影液的图案形成方法; 以及包括所述图案形成方法的电子设备制造方法。

公开(公告)号：WO2016208312A1

公开(公告)日：2016-12-29

申请号：PCT/JP2016/065353

申请日：2016-05-24

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 椿　英明 ,  土橋　徹 ,  二橋　亘

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  C08F12/24 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/405 ,  C08F12/24 ,  C11D1/72 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/322 ,  H01L21/027 ,  H01L51/0028

Abstract: 高精度の微細パターンにおける、パターン倒れ性能とブリッジ性能を非常に高い次元で両立するために、感活性光線性又は感放射線性組成物から得られるレジスト膜に用いられるリンス液であって、分岐アルキル基を有する炭化水素系溶剤を含むリンス液、このリンス液を用いるパターン形成方法、及びこのパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。

Abstract translation: 为了在高精度精细图案中实现极高的图案塌陷性能和桥接性能，提供了：用于由光化射线敏感或辐射敏感组合物获得的抗蚀剂膜的漂洗液，并含有 具有支链烷基的烃溶剂; 使用该漂洗液的图案形成方法; 以及包括该图案形成方法的电子器件制造方法。

公开(公告)号：WO2016072169A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：PCT/JP2015/077038

申请日：2015-09-25

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 高橋　年哉 ,  八尾　忠輝 ,  森　弘喜 ,  川端　健志

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/64 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/64 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

Abstract: 本発明は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、この膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法、及び、この電子デバイスの製造方法により製造された電子デバイスに関する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アニオン部に少なくとも１つのフッ素原子を含み、且つ、カチオン部に少なくとも１つの窒素原子を含むオニウム塩化合物、及び、（Ｂ）少なくとも１つのフッ素原子を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、化合物（Ａ）の全質量に対する化合物（Ａ）中のフッ素原子の含有率が、化合物（Ｂ）の全質量に対する化合物（Ｂ）中のフッ素原子の含有率より大きい。

Abstract translation: 本发明涉及：主动光敏或辐射敏感树脂组合物; 使用活性光敏或辐射敏感树脂组合物的活性光敏或辐射敏感膜; 设有该膜的面罩坯料; 图案形成方法; 包括该图案形成方法的电子设备的制造方法; 以及通过该电子设备的制造方法制造的电子设备。 根据本发明的活性光敏或辐射敏感性树脂组合物含有（A）在阴离子组分中含有至少一个氟原子的鎓盐化合物，同时在阳离子组分中含有至少一个氮原子，（B） 含有至少一个氟原子并在用活性光或辐射照射时产生酸的化合物。 化合物（A）中的氟原子相对于化合物（A）的总质量的含有比率高于化合物（B）中的氟原子相对于化合物（B）的总质量的含有比例 ）。

公开(公告)号：WO2014197041A8

公开(公告)日：2015-03-26

申请号：PCT/US2014023181

申请日：2014-03-11

Applicant: NDSU RES FOUNDATION ,  CHISHOLM BRET JA ,  ALAM SAMIM ,  KALITA HARJYOTI ,  KALITA DEEP ,  SIBI MUKUND ,  SERMADURAI SELVAKUMAR

Inventor： CHISHOLM BRET JA ,  ALAM SAMIM ,  KALITA HARJYOTI ,  KALITA DEEP ,  SIBI MUKUND ,  SERMADURAI SELVAKUMAR

IPC: C08F12/24 ,  C08F16/14

CPC classification number: C07C43/215 ,  C07C43/2055 ,  C07C67/24 ,  C07C69/007 ,  C08F14/14 ,  C08F16/08 ,  C08F16/32 ,  C08F16/38 ,  C08F24/00 ,  C08F116/08 ,  C08F116/38 ,  C08F216/08 ,  C08F216/125 ,  C08F216/38 ,  C08F2216/085 ,  C08F216/1416

Abstract: Monomers, polymers and copolymers are provided that incorporate at least one naturally occurring phenolic compound, such as a plant phenol, as well as methods for producing the monomers and polymers. Plant phenols possessing a reactive group in addition to the phenolic group, such as a double bond, aldehyde, ester, alcohol or carboxylic acid, are particularly useful. Plant phenols can be isolated from a plant material, or chemically or enzymatically synthesized.

Abstract translation: 提供了引入至少一种天然存在的酚类化合物如植物苯酚的单体，聚合物和共聚物，以及制备单体和聚合物的方法。 具有除酚基之外的反应性基团的植物酚如双键，醛，酯，醇或羧酸是特别有用的。 植物酚类可以从植物材料中分离，也可以化学或酶合成。