感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生剤
    4.
    发明申请
    感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生剤 审中-公开
    辐射敏感性树脂组合物和辐射敏感酸发生器

    公开(公告)号:WO2012096264A1

    公开(公告)日:2012-07-19

    申请号:PCT/JP2012/050290

    申请日:2012-01-10

    Inventor: 丸山 研

    Abstract:  現像後のパターン倒れに対する耐性、LWR及びMEEFが良好で、それらのバランスに優れた化学増幅型レジスト膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明の感放射線性樹脂組成物は、[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]ベース重合体を含む感放射線性樹脂組成物である。 (式(1)中、R 1 は、炭素数1~30の1価の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-NHCO-、-CONH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NH-、-S-、-SO-、-SO 2 -及び-SO 2 -O-からなる群より選択される少なくとも1種の基を有していてもよい。また、上記炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。M + は、1価のカチオンである。)

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够形成化学放大抗蚀剂膜的辐射敏感性树脂组合物,其在显影时表现出优异的图案抗塌陷性,LWR和MEEF,并且具有优异的平衡性。 该辐射敏感性树脂组合物包含[A]式(1)表示的化合物和[B]基础聚合物。 式(1)中,R 1为碳原子数为1〜30的一价烃基,条件是烃基可以具有选自-CO - , - COO - , - OCO - , - O-CO-O-,-NHCO-,-CONH - , - NH-CO-O-,-O-CO-NH-,-NH-,-S-,-SO-,-SO2-和 - -SO 2 -O-,并且烃基的一些或全部氢原子可以被取代; M +是一价阳离子。

    感放射線性組成物及びそれに用いられる低分子量化合物の製造方法
    9.
    发明申请
    感放射線性組成物及びそれに用いられる低分子量化合物の製造方法 审中-公开
    辐射敏感性组合物及其制备低分子化合物的方法

    公开(公告)号:WO2008029673A1

    公开(公告)日:2008-03-13

    申请号:PCT/JP2007/066644

    申请日:2007-08-28

    CPC classification number: G03F7/004 C07C309/12 C07C381/12 G03F7/0045

    Abstract:  (A)酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸解離性基、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生基を、一分子中にそれぞれ一以上有する、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が500~4000である低分子量化合物と、(B)溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。

    Abstract translation: 一种辐射敏感性组合物,其包含:(A)每分子具有一个或多个酸解离基团的低分子化合物,其通过酸的作用分解以增强在碱性显影溶液中的溶解度和一种或多种辐射 - 通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为500-4,000,通过光化射线或辐射照射产生酸的敏感性产酸基团; 和(B)溶剂。

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