公开(公告)号：WO2022172685A1

公开(公告)日：2022-08-18

申请号：PCT/JP2022/001062

申请日：2022-01-14

Applicant: ＪＳＲ株式会社

Inventor： 根本　龍一 ,  古川　剛 ,  稲見　甫 ,  岡嵜　聡司

IPC: C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07D317/70 ,  C07D317/72 ,  C07D321/06 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C08F20/10 ,  C07D493/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07D307/00

Abstract: 次世代露光技術を適用した場合でも、露光工程における感度やＬＷＲ性能、ＣＤＵ性能等において優れた性能を有するレジストパターンの形成方法及び感放射線性樹脂組成物等を提供する。　下記式（１）で表されるスルホニウム塩化合物、　（式中、　Ｒ１は、環状構造を有する１価の炭化水素基であって、炭化水素基を構成するメチレン基がエーテル結合に置き換わっていても良い。　Ｒｆ１及びＲｆ2は、それぞれ独立して、フッ素原子、又は、１価のフッ素化炭化水素基である。　ｍ１は、１～４の整数であって、ｍ１が２～４の場合には、複数のＲｆ１及びＲｆ2は、一部又は全部が同一又は異なる。　Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、１価の炭化水素基、又は、１価のフッ素化炭化水素基である。　ｍ２は、０～３の整数であって、ｍ２が２～３の場合には、複数のＲ２及びＲ３は、一部又は全部が同一又は異なる。　Ｘは、単結合、又は２価のヘテロ原子を含むリンカーである。　Ｒ４～Ｒ７は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、１価の炭化水素基、又は、エステル基である。　ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、１～３の整数であって、複数のＲ４～Ｒ７は、一部又は全部が同一又は異なる。　Ｒ８は、１価の鎖状炭化水素基、１価の脂環式炭化水素基、１価のフッ化炭化水素基、ハロゲン原子、１価の芳香族炭化水素基、又は、－Ｙ－Ｒ８'で表される１価の基である。（Ｙは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－を表し、Ｒ８'は、炭素数１～２０の１価の炭化水素基である。）　ｌは、０～５の整数であって、ｌが２～５の場合には、複数のＲ８は、一部又は全部が同一又は異なる。）　酸解離性基を有する構造単位を含む樹脂、及び、　溶剤 を含有する、感放射線性樹脂組成物。

公开(公告)号：WO2019225185A1

公开(公告)日：2019-11-28

申请号：PCT/JP2019/015390

申请日：2019-04-09

Applicant: サンアプロ株式会社

Inventor： 中尾　拓人 ,  高嶋　祐作

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/19 ,  C07C309/30 ,  C07F5/00 ,  C07F5/02 ,  C07F9/28 ,  C08F4/32 ,  C08G59/68 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: ｉ線に高い光感応性を有する新たなスルホニウム塩及びｉ線に高い光感応性を有し、かつエポキシ化合物等のカチオン重合性化合物への相溶性が高く、その配合物において貯蔵安定性の優れたスルホニウム塩を含んでなる、新たな光酸発生剤等を提供する。本発明は、下記一般式（１）で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩を含有することを特徴とする光酸発生剤等である。 ［式（１）中、Ｒはアルキル基またはアリール基を表し、置換基Ｒ１～Ｒ５は互いに独立して、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ（ポリ）アルキレンオキシ基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ６～Ｒ９は互いに独立して、アルキル基、アリール基又は水素原子を表す。ｍ１～ｍ５はそれぞれＲ１～Ｒ５の個数を表し、ｍ１及びｍ４は０～３の整数、ｍ２及びｍ５は０～４の整数、ｍ３は０～５の整数を表し、Ｘ － は一価の多原子アニオンを表す。]

公开(公告)号：WO2017142740A1

公开(公告)日：2017-08-24

申请号：PCT/US2017/016778

申请日：2017-02-07

Applicant: ZOETIS SERVICES LLC

Inventor： STUK, Timothy, Lee ,  BILLEN, Denis ,  WESTRICK, Valerie, Sue ,  GUNAWARDANA, Vageesha, Warnajith Liyana

IPC: C07D487/04 ,  A61K31/519 ,  C07C309/19 ,  C07C309/30

CPC classification number: C07D487/04 ,  C07C303/22 ,  C07C303/32 ,  C07C309/19 ,  C07C309/24 ,  C07C309/30

Abstract: Described herein are improved processes for the preparation of the 7H-pyrrolo[2,3-d]pyrimidine compound, N-methyl-1-{trans-4-[methyl(7H-pyrrolo[2, 3-d]pyrimidin-4-yl)amino]cyclohexyl}-methanesulfonamide, intermediates thereof, and veterinary acceptable salts thereof. (Formula (1))

Abstract translation: 本文描述了用于制备7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶化合物N-甲基-1- {反式-4- [甲基（7H-吡咯并[2,1- ，3-d]嘧啶-4-基）氨基]环己基} - 甲磺酰胺，其中间体和其兽医学可接受的盐。 （公式（1））

公开(公告)号：WO2016072169A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：PCT/JP2015/077038

申请日：2015-09-25

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 高橋　年哉 ,  八尾　忠輝 ,  森　弘喜 ,  川端　健志

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/64 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/64 ,  C07C381/12 ,  C08F12/24 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

Abstract: 本発明は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、この膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法、及び、この電子デバイスの製造方法により製造された電子デバイスに関する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アニオン部に少なくとも１つのフッ素原子を含み、且つ、カチオン部に少なくとも１つの窒素原子を含むオニウム塩化合物、及び、（Ｂ）少なくとも１つのフッ素原子を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、化合物（Ａ）の全質量に対する化合物（Ａ）中のフッ素原子の含有率が、化合物（Ｂ）の全質量に対する化合物（Ｂ）中のフッ素原子の含有率より大きい。

Abstract translation: 本发明涉及：主动光敏或辐射敏感树脂组合物; 使用活性光敏或辐射敏感树脂组合物的活性光敏或辐射敏感膜; 设有该膜的面罩坯料; 图案形成方法; 包括该图案形成方法的电子设备的制造方法; 以及通过该电子设备的制造方法制造的电子设备。 根据本发明的活性光敏或辐射敏感性树脂组合物含有（A）在阴离子组分中含有至少一个氟原子的鎓盐化合物，同时在阳离子组分中含有至少一个氮原子，（B） 含有至少一个氟原子并在用活性光或辐射照射时产生酸的化合物。 化合物（A）中的氟原子相对于化合物（A）的总质量的含有比率高于化合物（B）中的氟原子相对于化合物（B）的总质量的含有比例 ）。

公开(公告)号：WO2014104400A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：PCT/JP2013/085328

申请日：2013-12-25

Applicant: FUJIFILM CORPORATION

Inventor： KAWABATA, Takeshi ,  TAKIZAWA, Hiroo ,  SHIBUYA, Akinori ,  GOTO, Akiyoshi ,  KOJIMA, Masafumi ,  KATO, Keita

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/24 ,  C07C311/48 ,  C07C317/04 ,  C07D211/06 ,  C07D307/10 ,  C07J31/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/29 ,  C07C311/48 ,  C07C317/04 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D217/06 ,  C07D295/185 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/48 ,  C07D333/76 ,  C07D335/02 ,  C07J9/005 ,  C07J17/00 ,  C07J31/006 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: Provided is an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a resin (A) and any of compounds (B) of general formula (I) below. (In general formula (I), Rf represents a fluorine atom or a monovalent organic group containing at least one fluorine atom; R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent substituent containing no fluorine atom; X 1 represents a monovalent organic group having at least two carbon atoms, or a methyl group in which a substituent other than a fluorine atom is optionally introduced, provided that X 1 may be bonded to R 1 to thereby form a ring; and Z represents a moiety that when exposed to actinic rays or radiation, is converted to a sulfonic acid group, an imidic acid group or a methide acid group.)

Abstract translation: 本发明提供一种包含树脂（A）和下述通式（I）的任何化合物（B））的光化射线或辐射敏感性树脂组合物。 （通式（I）中，Rf表示氟原子或含有至少一个氟原子的一价有机基团; R1表示氢原子或不含氟原子的一价取代基; X1表示具有至少2个碳原子的1价有机基团 原子或其中任选地引入除氟原子以外的取代基的甲基，条件是X1可以与R 1键合，从而形成环; Z表示当暴露于光化射线或辐射时被转化为 磺酸基，亚氨基酸基或甲基酸基）。

公开(公告)号：WO2015141504A1

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：PCT/JP2015/056753

申请日：2015-03-06

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 齊藤　隆一 ,  生井　準人

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/19 ,  C07C309/23 ,  C07D307/00 ,  C07D333/50 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C309/19 ,  C07C309/23 ,  C07D307/33 ,  C07D317/72 ,  C07D327/04 ,  C07D333/50 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 　本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式（Ａ）で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。式（Ａ）中、Ｒ ｘ は、脂環式炭化水素基、上記脂環式炭化水素基の炭素－炭素間に－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ ２ Ｏ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＳｉＲ Ｓ ２ －を含む脂肪族複素環基、又は上記脂環式炭化水素基及び上記脂肪族複素環基が有する水素原子を－ＯＨ、－ＣＮ、炭化水素基、オキシ炭化水素基、ハロゲン原子で置換した基であり、Ｒ ｔ 及びＲ ｙ は、Ｒ ｘ の環構造上の同一炭素原子又は互いに隣接する２つの炭素原子にそれぞれ結合している。Ｍ ＋ は、感放射線性オニウムカチオンである。

Abstract translation: 本发明是含有辐射敏感性酸产生剂和具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物的辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性酸产生剂含有式（A）表示的化合物。 在式（A）中，Rx是脂环族烃基，在碳 - 碳原子上含有-O - ， - COO - ， - OOO-，-S-，-SO 2 O-，-NHCOO-或-SiR 3 2的脂族杂环基， 或由-OH，-CN，烃基，羟基烃基或卤素原子取代脂环族烃基或脂肪族杂环基的氢原子而得到的基团。 Rt和Ry各自与Rx的环结构中的相同碳原子或两个相邻的碳原子键合。 M +是辐射敏感的鎓离子。

公开(公告)号：WO2014141979A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：PCT/JP2014/055701

申请日：2014-03-05

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 仁井　啓之 ,  生井　準人 ,  池田　憲彦 ,  永井　智樹

IPC: G03F7/004 ,  C07C309/19 ,  C07D309/04 ,  C07D339/08 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C309/19 ,  C07D309/04 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 　本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が、下記式（１）で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。下記式（１）中、Ｒ １ 及びＲ ２ は、それぞれ独立して、炭素数１～２０の１価の有機基である。Ｒ ３ 、Ｒ ４ 及びＲ ５ は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～２０の１価の有機基である。これらの有機基は、互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数１～２０の環構造を表してもよい。ｎは、１～４の整数である。Ｍ ＋ は、１価の放射線分解性オニウムカチオンである。

Abstract translation: 本发明是一种辐射敏感性树脂组合物，其含有辐射敏感性酸产生剂和具有含有酸可裂解基团的结构单元的聚合物，并且其中所述辐射敏感性酸产生剂含有式（1）表示的化合物， 。 在式（1）中，R 1和R 2各自独立地表示具有1-20个碳原子的一价有机基团; R 3，R 4和R 5各自独立地表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团; 有机基团可以结合在一起形成具有1-20个碳原子的环结构以及有机基团键合的碳原子; n表示1-4的整数; M +代表一价辐射分解鎓阳离子。

公开(公告)号：WO2014034190A1

公开(公告)日：2014-03-06

申请号：PCT/JP2013/063329

申请日：2013-05-13

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 生井　準人

IPC: G03F7/004 ,  C07C303/02 ,  C07C303/22 ,  C07C309/03 ,  C07C309/04 ,  C07C309/07 ,  C07C309/08 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/15 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/71 ,  C07C381/12 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D313/06 ,  C07D327/04 ,  C07H15/04 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07D307/93 ,  C07C309/08 ,  C07C309/09 ,  C07C309/13 ,  C07C309/17 ,  C07C309/25 ,  C07C309/71 ,  C07C323/66 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/33 ,  C07D327/04 ,  C07D493/04 ,  C07D493/08 ,  C07H13/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 　本発明は、酸解離性基含有重合体、感放射線性酸発生剤、及び溶媒を含有し、上記感放射線性酸発生剤が、下記式（１）で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。下記式（１）中、Ｌは－ＣＯＯ－＊、－ＳＯ ２ Ｏ－、－ＣＯＮＲ Ａ －、－Ｏ－及び－Ｓ－からなる群より選ばれる少なくとも１種又は単結合である。＊は、Ｇとの結合部位を示す。式（１）のＬが－ＣＯＯ－＊、－ＳＯ ２ Ｏ－、－ＣＯＮＲ Ａ －、－Ｏ－及び－Ｓ－からなる群より選ばれる少なくとも１種、Ｒ Ａ が水素原子又は炭素数１～２０の１価の炭化水素基、Ｒ １ がＳＯ ３ － に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない置換又は非置換の炭素数１～１０のアルカンジイル基、Ｇが炭素数３～３０の脂環構造を含む基であることが好ましい。 Ｇ―Ｌ―Ｒ １ ―ＳＯ ３ －　 Ｍ ＋　（１）

Abstract translation: 本发明是一种辐射敏感性树脂组合物，其含有含有酸分解性基团的聚合物，辐射敏感性酸产生剂和溶剂，并且其中所述辐射敏感性酸产生剂含有由式（1）表示的化合物。 在式（1）中，L表示至少一个选自-COO- *，-SO 2 O-，-CONRA-，-O-和-S-或单键的部分; 并且*表示与G键合的结合位点。在式（1）中，优选：L表示至少一个选自-COO- *，-SO 2 O-，-CONRA-，-O - 和-S-; RA表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价烃基; R1表示具有1-10个碳原子的取代或未取代的烷二基，其中氟原子不与SO 3 - 相邻的碳原子键合; G表示含有3〜30个碳原子的脂环结构的基团。

公开(公告)号：WO2012090959A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：PCT/JP2011/080118

申请日：2011-12-26

Applicant: JSR株式会社 ,  中原 一雄 ,  丸山 研

Inventor： 中原　一雄 ,  丸山　研

IPC: G03F7/004 ,  C07C22/02 ,  C07C309/19 ,  C07C313/04 ,  C07C381/12 ,  C07D307/00 ,  C08K5/42 ,  C08L101/02 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/004 ,  C07C22/02 ,  C07C22/08 ,  C07C25/18 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/16 ,  C07C2602/42 ,  C07D307/77 ,  C08K5/07 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  C08L101/02

Abstract: 　本発明の目的は、集積回路素子等を製造する微細加工の分野におけるさらなる微細パターンの要求に応えるため、感度、解像性といった基本特性だけではなく、ＭＥＥＦ性能をも十分に満足する感放射線性樹脂組成物、及びこの感放射線性組成物に好適な化合物を提供することである。本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される化合物、及び［Ｂ］酸解離性基を有する構造単位を含む重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。また、［Ａ］化合物は、下記式（２）で表される化合物であることが好ましい。

Abstract translation: 本发明的目的是通过提供：不仅具有足够的基本特性如灵敏度和分辨率的辐射敏感性树脂组合物来满足包括制造集成电路元件在内的微细加工领域对精细图案的不断增长的需求 而且还具有足够的MEEF表现; 和适用于所述辐射敏感性树脂组合物的化合物。 本发明是一种辐射敏感性树脂组合物，其含有：满足式（1），优选满足式（2）的化合物（A） 和含有具有酸解离基团的结构单元的聚合物（B）。

公开(公告)号：WO2006121096A1

公开(公告)日：2006-11-16

申请号：PCT/JP2006/309446

申请日：2006-05-11

Applicant: JSR株式会社 ,  永井 智樹 ,  米田 英司 ,  江畑 琢磨 ,  川上 峰規 ,  杉浦 誠 ,  下川 努 ,  志水 誠

Inventor： 永井 智樹 ,  米田 英司 ,  江畑 琢磨 ,  川上 峰規 ,  杉浦 誠 ,  下川 努 ,  志水 誠

IPC: C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/02 ,  C08F220/12 ,  C08L33/04 ,  C08L41/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 　放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に高解像度でＤＯＦが広くＬＥＲに優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。新規化合物は、下記式（２）で表される。 　式（２）において、Ｒ 4 はメチル基、トリフルオロメチル基、または水素原子を表し、Ｒfの少なくとも１つはフッ素原子または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Ａは２価の有機基または単結合を表し、Ｇはフッ素原子を含有する２価の有機基または単結合を表し、Ｍ ｍ＋ は金属イオンもしくはオニウム陽イオンを表し、ｍは１～３の自然数を、ｐは１～８の自然数をそれぞれ示す。

Abstract translation: 公开了一种对辐射高度透明而对抗蚀剂的基本物理性质如灵敏度，分辨率和图案形状优异的辐射敏感性树脂组合物。 该辐射敏感性树脂组合物的分辨率特别高，DOF大，LER优异。 还公开了适用于这种组合物的聚合物和用于合成这种聚合物的新型化合物。 该新化合物由下式（2）表示。 （2）式（2）中，R 4表示甲基，三氟甲基或氢原子; Rf的至少一个表示氟原子，或具有1-10个碳原子的直链或支链全氟烷基; A表示二价有机基团或单键; G表示含有氟原子或单键的二价有机基团; M + H +表示金属离子或鎓阳离子; m表示1-3的自然数; 而p代表1-8的自然数。