ステレオX線発生装置
    71.
    发明申请
    ステレオX線発生装置 审中-公开
    立体X射线发生装置

    公开(公告)号:WO2013018712A1

    公开(公告)日:2013-02-07

    申请号:PCT/JP2012/069186

    申请日:2012-07-27

    Abstract:  小型で取り扱いが簡単なステレオX線放射装置を提供することを目的とし、エミッタとして機能する1つのカソードと、ターゲットとして機能する2つのアノードが1つの直管状の真空容器内に配置したものであって、カソードは、冷陰極であって、かつ、容器の中央部に1つ配置され、各アノードは容器の両端部にそれぞれ配置されているとともに、容器の両端部に配置された各アノードとカソードとの間が、容器の軸線に沿って互いに接近又は離反可能に構成されていることを特徴とする。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种小型的立体X射线辐射装置,其处理简单。 用作发射极的一个阴极和用作目标的两个阳极设置在单个直管状的真空容器中。 立体X射线产生装置的特征在于,阴极是设置在容器的中心部分的冷阴极,阳极设置在容器的端部,并且阳极设置在容器的两端的空间 容器和阴极被构造成使得其能沿着容器的轴线移动得更近或分开。

    X線発生装置とそれを用いた検査装置
    74.
    发明申请
    X線発生装置とそれを用いた検査装置 审中-公开
    X射线发生装置和使用它的检查装置

    公开(公告)号:WO2010109909A1

    公开(公告)日:2010-09-30

    申请号:PCT/JP2010/002201

    申请日:2010-03-26

    CPC classification number: H01J35/08 H01J2235/081 H01J2235/086

    Abstract:  数μm程度の微小幅の縞状X線(マルチライン状X線)を形成するX線発生装置と、それを用いた検査装置を提供する。  内部が真空可能な管本体1と、管本体内において電子ビームを発生する電子源2と、管本体内に設けられ、前記電子源から出射される電子ビームが照射されてX線を発生するターゲット3と、発生したX線を管本体の外部に取り出すX線取り出し窓34を備えたX線発生装置であって、前記ターゲットを構成する部材31の表面には、複数の微小幅の溝11…が繰り返し形成されており、前記電子源からの電子ビームを溝の延長方向に対して垂直な方向から、所定の角度(α)で傾斜して、溝の複数を跨ぐように照射すると。これにより、溝の間に形成される複数のライン状のターゲットからのマルチライン状X線を、取り出し角度(β)から、取り出し窓34を通して出射する。また、検査装置は、前記したマルチライン状X線を出射するX線発生装置と、X線発生装置から出射されたマルチライン状X線を検査対象に照射して得られたX線像を検出するX線検出手段とを備える。

    Abstract translation: 公开了一种用于形成具有约几微米的宽度的条纹X射线(多线X射线)的X射线产生装置和使用该X射线产生装置的检查装置。 X射线产生装置设置有能够将其内部被抽真空的管体(1),用于在管体内产生电子束的电子源(2),设置在 并且当从电子源发射的电子束照射时产生X射线,以及用于将所产生的X射线输出到管体外部的X射线输出窗口(34)。 在构成靶的构件(31)的表面上重复形成具有小宽度的槽(11,...)。 从电子源发射的电子束从垂直于凹槽以预定角度(a)倾斜延伸的方向的方向施加到一些凹槽的范围。 因此,通过输出窗口(34)以输出角(β)输出来自形成在沟槽之间的多线目标的多线X射线。 检查装置设置有用于输出多线X射线的上述X射线产生装置和用于检测通过用多线X射线照射待检查对象而产生的X射线图像的X射线检测装置 从X射线产生装置输出。

    ARRANGEMENT FOR GENERATION OF X-RAY RADIATION HAVING A LARGE REAL FOCUS AND A VIRTUAL FOCUS ADJUSTED ACCORDING TO REQUIREMENTS
    77.
    发明申请
    ARRANGEMENT FOR GENERATION OF X-RAY RADIATION HAVING A LARGE REAL FOCUS AND A VIRTUAL FOCUS ADJUSTED ACCORDING TO REQUIREMENTS 审中-公开
    根据要求调整大型真实聚焦和虚拟聚焦的X射线辐射的生成布置

    公开(公告)号:WO2008136749A1

    公开(公告)日:2008-11-13

    申请号:PCT/SE2008/050502

    申请日:2008-05-05

    Applicant: LANTTO, Lars

    Inventor: LANTTO, Lars

    Abstract: An arrangement for generating X-ray radiation comprising an anode (9) formed as a part of a sphere. The arrangement further comprises at least one virtual focus element (4) which is adapted to emit generated photons to create the useful beam field. An arrangement according to the invention has a real focus which is larger than the previously known X-ray tubes and arrangements for generating X-ray with an inclined anode surface. Accordingly, an increased radiation amount per unit of time compared to previously known X-ray tubes is achieved by the arrangement according to the invention, provided that the acceleration voltage and the electron density for each anode surface unit are equal for both arrangements. The virtual focus element (4) can be adapted to a specific field of application. Time-and geometry-related imaging errors maybe avoided due to the high photon densityand a focus which can be adapted to the requirements.When generating usefulradiation using the arrangement according to the present invention, the photons are equally distributed in respect of mass and energy in the beam field, which makesit possible to achieve equivalent imaging conditions in theentire usefulbeam field.

    Abstract translation: 一种用于产生X射线辐射的装置,包括形成为球体的一部分的阳极(9)。 该装置还包括至少一个虚拟聚焦元件(4),其适于发射产生的光子以产生有用的光束场。 根据本发明的布置具有比先前已知的X射线管和用于产生具有倾斜阳极表面的X射线的布置的实际焦点。 因此,与先前已知的X射线管相比,每单位时间的增加的辐射量通过根据本发明的装置实现,只要每个阳极表面单元的加速电压和电子密度对于两种布置是相等的。 虚拟焦点元素(4)可以适应特定的应用领域。 由于高光子密度和可以适应要求的焦点,可能避免了时间和几何相关的成像误差。当使用根据本发明的装置产生有用辐射时,光子在质量和能量方面均匀分布 光束场,这使得有可能在本实用的光束场中实现等效的成像条件。

    LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PRE-PULSE
    78.
    发明申请
    LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PRE-PULSE 审中-公开
    激光生产等离子体光源与预脉冲

    公开(公告)号:WO2006091948A3

    公开(公告)日:2008-01-24

    申请号:PCT/US2006006947

    申请日:2006-02-24

    CPC classification number: H05G2/003 H05G2/005 H05G2/008

    Abstract: A method for generating EUV light is disclosed which may include the acts / steps of providing a source material; generating a plurality of source material droplets; simultaneously irradiating a plurality of source material droplets with a first light pulse to create irradiated source material; and thereafter exposing the irradiated source material to a second light pulse to generate EUV light, e.g. by generating a plasma of the source material. In another aspect, an EUV light source may include a droplet generator delivering a plurality of source material droplets to a target volume; a source of a first light pulse for simultaneously irradiating a plurality of droplets in the target volume to produce an irradiated source material; and a source of a second light pulse for exposing the irradiated source material to generate EUV light. The droplet generator may comprise a non-modulating droplet generator and may comprise a multi-orifice nozzle.

    Abstract translation: 公开了一种用于产生EUV光的方法,其可以包括提供源材料的动作/步骤; 产生多个源材料液滴; 同时用第一光脉冲照射多个源材料液滴以产生辐射源材料; 然后将照射的源材料暴露于第二光脉冲以产生EUV光,例如, 通过产生源材料的等离子体。 在另一方面,EUV光源可以包括将多个源材料液滴输送到目标体积的液滴发生器; 用于同时照射目标体积中的多个液滴的第一光脉冲源,以产生照射的源材料; 以及第二光脉冲源,用于曝光照射的源材料以产生EUV光。 液滴发生器可以包括非调节液滴发生器,并且可以包括多孔喷嘴。

    FLÜSSIGKEITSGEKÜHLTES TARGET ZUR ERZEUGUNG VON ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG
    79.
    发明申请
    FLÜSSIGKEITSGEKÜHLTES TARGET ZUR ERZEUGUNG VON ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG 审中-公开
    液体冷却的目标产生电磁辐射

    公开(公告)号:WO2008006552A1

    公开(公告)日:2008-01-17

    申请号:PCT/EP2007/006120

    申请日:2007-07-10

    Inventor: ERLER, Marco

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Anordnung (31) zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung, insbesondere von Röntgenstrahlung oder extremer Ultraviolett-Strahlung, mit einem Target (5), in dem beim Betrieb der Anordnung durch auftreffende Teilchen die Strahlung erzeugt wird, einer Basis (7), wobei die Basis (7) an einer ersten Seite der Basis mit dem Target (5) verbunden ist, einer Leitung für Kühlflüssigkeit, um beim Betrieb der Anordnung das Target (5) zu kühlen, wobei die Leitung einen Basis-Leitungsabschnitt aufweist, der sich entlang einer der ersten Seite der Basis (7) gegenüberliegenden zweiten Seite der Basis (7) erstreckt.

    Abstract translation: 本发明通过撞击粒子涉及用于产生电磁辐射,尤其是X射线或极紫外辐射,与目标(5),其中由所述装置的操作所产生的辐射的装置(31),底座(7), 其中,所述基部(7)在基座的第一侧到所述目标(5)被连接到一导管,用于冷却液体以冷却所述目标(5)的装置的操作过程中,具有基线部分的导管延伸 沿着所述基部(7)的底座(7)的所述第二侧相对的第一侧中的一个。

    DEBRIS REDUCTION IN ELECTRON-IMPACT X-RAY SOURCES
    80.
    发明申请
    DEBRIS REDUCTION IN ELECTRON-IMPACT X-RAY SOURCES 审中-公开
    电子冲击X射线源的减少损耗

    公开(公告)号:WO2007133144A1

    公开(公告)日:2007-11-22

    申请号:PCT/SE2007/000448

    申请日:2007-05-08

    CPC classification number: H01J35/08 G21K2207/005 H01J2235/082 H05G2/005

    Abstract: A method for generating x-ray radiation, comprising the steps of forming a target jet by urging a liquid substance under pressure through an outlet opening, the target jet propagating through an area of interaction; and directing at least one electron beam onto the target jet in the area of interaction such that the electron beam interacts with the target jet to generate x-ray radiation; wherein the full width at half maximum of the electron beam in the transverse direction of the target jet is about 50% or less of the target jet transverse dimension. A system for carrying out the method is also disclosed.

    Abstract translation: 一种用于产生x射线辐射的方法,包括以下步骤:通过在压力下通过出口开启液体物质形成目标射流,所述目标射流通过相互作用区域传播; 并且在相互作用的区域中将至少一个电子束引导到目标射流上,使得电子束与目标射流相互作用以产生x射线辐射; 其中电子束在目标射流的横向方向上的半个最大宽度为靶射流横向尺寸的约50%或更小。 还公开了一种用于执行该方法的系统。

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