公开(公告)号：WO2009120410A3

公开(公告)日：2010-01-07

申请号：PCT/US2009033459

申请日：2009-02-06

Applicant: NITTO DENKO CORP ,  KATHAPERUMAL MOHANALINGAM ,  WANG SHUANGXI ,  TILLEMA JOSHUA ,  LIN WEIPING ,  YAMAMOTO MICHIHARU

Inventor： KATHAPERUMAL MOHANALINGAM ,  WANG SHUANGXI ,  TILLEMA JOSHUA ,  LIN WEIPING ,  YAMAMOTO MICHIHARU

IPC: G03F7/00 ,  C07F7/18 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C03C1/008 ,  C03C17/009 ,  C03C2217/26 ,  C03C2217/40 ,  G03F7/0005

Abstract: Described herein are sol-gel compositions, sol-gel composition precursors, and methods of fabricating photo-patterned structures on a substrate. The sol-gel compositions possess a combination of high refractive index and low optical loss, even without incorporating metal oxides or metal alkoxides. The sol-gel compositions are further useful in waveguide fabrication applications, especially at the telecommunication wavelength range of 1300-1600 nm. Furthermore, the fabrication of patterned structures using the sol-gel compositions described herein can be achieved in a variety of substrates, including, for example, silicon-on-silica substrates and molybdenum-on-glass substrates.

Abstract translation: 本文描述的是溶胶 - 凝胶组合物，溶胶 - 凝胶组合物前体和在基底上制造光图案结构的方法。 溶胶 - 凝胶组合物具有高折射率和低光损耗的组合，即使不加入金属氧化物或金属醇盐也是如此。 溶胶 - 凝胶组合物还可用于波导制造应用，特别是在1300-1600nm的电信波长范围。 此外，使用本文所述的溶胶 - 凝胶组合物的图案化结构的制造可以在各种基材中实现，包括例如硅二氧化硅基板和钼 - 玻璃基板。

公开(公告)号：WO2009114572A3

公开(公告)日：2009-11-05

申请号：PCT/US2009036725

申请日：2009-03-11

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES CO ,  QIU ZAI-MING ,  HULTEEN JOHN C ,  FALL DOUGLAS C

Inventor： QIU ZAI-MING ,  HULTEEN JOHN C ,  FALL DOUGLAS C

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F1/48 ,  G03F1/54 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/2014 ,  H05K3/0002

Abstract: A phototool comprises an optically transparent substrate having designed pattern and a protective layer on the substrate. The protective layer comprises a cured hardcoat composition. The hardcoat composition comprises (i) one or more epoxy silane compounds (ii) one or more fluorochemical additives selected from the group consisting of perfluoropolyether-urethane silanes and silane-functionalized perfluoropolyether acrylate oligomers, and (iii) photo-acid generator.

Abstract translation: 照相工具包括具有设计图案的光学透明基底和在基底上的保护层。 保护层包含固化的硬涂层组合物。 硬涂层组合物包含（i）一种或多种环氧硅烷化合物（ii）一种或多种选自全氟聚醚 - 氨基甲酸酯硅烷和硅烷官能化的全氟聚醚丙烯酸酯低聚物的氟化学添加剂，和（iii）光酸产生剂。

公开(公告)号：WO2009075217A1

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：PCT/JP2008/072022

申请日：2008-12-04

Applicant: 新日鐵化学株式会社 ,  芳野 英明 ,  徳久 極 ,  中村 幸二

Inventor： 芳野 英明 ,  徳久 極 ,  中村 幸二

IPC: G03F7/075 ,  C08F290/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038

CPC classification number: C08F290/06 ,  C08F283/12 ,  C08F290/068 ,  C08F290/14 ,  C08F290/148 ,  C08K5/5313 ,  C09D183/10 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/0757 ,  H05K1/0393 ,  H05K3/287 ,  C08L83/10

Abstract: 　硬化物に可とう性を与える感光性樹脂組成物と、室温での保存安定性に優れ、硬化又は加工の際に高温処理を必要としない難燃性絶縁皮膜を開示する。 　この難燃性感光性樹脂組成物は、（A）エチレン性不飽和結合を有するシロキサン含有ポリアミド酸樹脂、（B）有機ホスフィン酸の金属塩、（C）常温で固体の芳香族リン酸縮合エステル、フタル酸エステル及び脂肪族エステルから選択される少なくとも１種のエステル化合物、並びに（D）光重合開始剤を必須成分として含有し、（A）成分は、芳香族テトラカルボン酸二無水物の酸無水物成分と、シロキサンジアミン及びエチレン性不飽和結合を有する芳香族ジアミンを含むジアミン成分とを反応させて得られるシロキサン含有ポリアミド酸樹脂であり、（A）成分１００重量部に対し、（B）成分を２０～３５重量部、（C）成分を５～２０重量部含有する。

Abstract translation: 公开了可以固化成具有柔软性的材料的感光性树脂组合物。 还公开了一种在室温下具有优异的储存稳定性并且可以固化或加工而不需要进行任何高温处理的耐火绝缘涂膜。 具体公开了一种阻燃光敏树脂组合物，其基本上包括：（A）具有烯属不饱和键的含硅氧烷的聚酰胺酸树脂; （B）有机次膦酸的金属盐; （C）至少一种在环境温度下具有固体形式并且选自芳族磷酸缩合物酯，邻苯二甲酸酯和脂族酯的酯化合物; 和（D）光聚合引发剂，其中组分（A）是通过使包含芳族四羧酸二酐的酸酐组分和包含硅氧烷二胺和芳族二胺的二胺组分使含有硅氧烷的聚酰胺酸树脂 烯键式不饱和键，其中相对于100重量份组分（A），组分（B）和（C）的含量分别为20至35重量份和5至20重量份。

公开(公告)号：WO2009054487A1

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：PCT/JP2008/069315

申请日：2008-10-24

Applicant: 旭化成株式会社 ,  早川 隆志 ,  清水 建樹 ,  小笠原 華菜子 ,  高橋 秀明

Inventor： 早川 隆志 ,  清水 建樹 ,  小笠原 華菜子 ,  高橋 秀明

IPC: C08G73/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G73/1075 ,  C08G73/1042 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/106 ,  C08G73/1082 ,  C08L79/08 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0757 ,  H05K3/287 ,  H05K2201/0154

Abstract: 　本発明のポリイミド前駆体は、下記一般式（１）で表されるポリイミド構造及び下記一般式（２）で表されるポリアミド酸構造を構成単位として有することを特徴とする。 　【化１】 　【化２】 （式中、Ｒ １ 、Ｒ ６ は炭素数１～５０の４価の有機基、Ｒ ２ は炭素数１～３０の２価の有機基、Ｒ ５ は炭素数１～８０の２価の有機基、Ｒ ３ は炭素数１～３０の１価の有機基、ｎは１以上３０以下の整数を表す。）

Abstract translation: 公开了一种聚酰亚胺前体，其特征在于具有下述通式（1）表示的聚酰亚胺结构和下述通式（2）表示的聚酰胺酸结构。 [化学式1] [化学式2]（式中，R 1和R 6各自表示碳原子数为1〜50的四价有机基团，R 2表示碳原子数为1〜30的2价有机基团，R 5表示二价有机基团 具有1-80个碳原子; R 3表示具有1-30个碳原子的一价有机基团; n表示不小于1但不大于30的整数）。

公开(公告)号：WO2008123563A1

公开(公告)日：2008-10-16

申请号：PCT/JP2008/056626

申请日：2008-03-27

Applicant: FUJIFILM Corporation ,  TAKITA, Satoshi

Inventor： TAKITA, Satoshi

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/40

Abstract: A positive photosensitive resin composition, includes: (A) a resin containing an acid-dissociable group having a specific acetal structure as defined in the specification, which is alkali-insoluble or sparingly alkali-soluble and becomes alkali-soluble when the acid-dissociable group is dissociated; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a crosslinking agent; and (D) an adhesion aid, and a cured film forming method uses the same.

Abstract translation: 正型感光性树脂组合物包含：（A）含有本说明书中规定的具有特定缩醛结构的酸解离性基团的树脂，其在酸解离时为碱不溶性或微溶碱性且变得碱溶性 群体分离; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）交联剂; 和（D）粘合助剂，并且固化膜形成方法使用它。

公开(公告)号：WO2008123224A1

公开(公告)日：2008-10-16

申请号：PCT/JP2008/055518

申请日：2008-03-25

Applicant: 旭化成エレクトロニクス株式会社 ,  頼末 友裕

Inventor： 頼末 友裕

IPC: G03F7/075 ,  C08F290/08 ,  C08G77/20 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F290/08 ,  C08F283/12 ,  C08F290/00 ,  C08G77/20 ,  C08G77/58 ,  C08L83/06 ,  C09D183/14 ,  G03F7/0757 ,  Y10T428/24612

Abstract: 特定の感光性置換基を有する、特定の分子量の感光性シリコーン化合物及び光重合開始剤を特定の割合で含有する感光性樹脂組成物を用いる。すると、ＬＳＩチップのバッファコート材料や再配線層として好適な、キュア前後の膜減りが少なく、露光する前の材料のべたつきが改善された感光性シリコーン化合物を含む樹脂組成物、及びそれを用いた樹脂絶縁膜を得ることができる。

Abstract translation: 一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有任意规定的光敏性取代基的特定分子量的感光性硅氧烷化合物和任意规定比例的光聚合引发剂。 因此，可以得到含有光敏性硅酮化合物的树脂组合物，该树脂组合物提供适合于LSI芯片的再布线层或缓冲涂层材料的材料，固化前后的薄膜损耗少，预曝光粘度提高 阶段。 此外，可以获得利用该树脂组合物的树脂绝缘膜。

公开(公告)号：WO2008111251A1

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：PCT/JP2007/069052

申请日：2007-09-28

Applicant: 富士通株式会社 ,  小澤 美和 ,  野崎 耕司

Inventor： 小澤 美和 ,  野崎 耕司

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/31144 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/76802

Abstract: 　液浸露光技術において、前記液浸媒体への溶出を抑制し、性能低下がなく、微細なレジストパターンを形成可能なレジスト組成物、それを用いたレジストパターンの形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 　本発明のレジスト組成物は、液浸露光用であって、置換基で置換されていてもよいアルカリ可溶性基を少なくとも有するケイ素化合物と、酸脱離基で置換されていてもよいアルカリ可溶性基を有する樹脂と、を少なくとも含む。

Abstract translation: 在液浸曝光技术中抑制浸液介质中的浸出，没有性能劣化并形成精细抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物; 以及形成抗蚀剂图案的方法，以及使用该抗蚀剂组合物制造电子器件的方法。 抗蚀剂组合物用于液浸曝光，并且至少包含至少具有任选被取代基取代的碱溶性基团的硅化合物和具有任选被酸可消除基团取代的碱溶性基团的树脂。

公开(公告)号：WO2008047817A1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：PCT/JP2007/070219

申请日：2007-10-10

Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  ITO, Toshiki

Inventor： ITO, Toshiki

IPC: C07F7/12 ,  C07F7/18 ,  G03F7/075 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/265 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0755

Abstract: A pattern forming method includes a step of forming a photosensitive organic material layer by providing, on a substrate, a photosensitive organic material which is protected by a hydrophobic photodegradable group and is capable of generating a hydrophilic group selected from the group consisting of amino group, hydroxyl group, carboxyl group, and sulfo group by light irradiation; a step of selectively exposing the photosensitive organic material layer to light in a pattern to generate the hydrophilic group at an exposed portion; a step of providing a block polymer having a hydrophilic segment and a hydrophobic segment, on the photosensitive organic material layer after the exposure, to separate segments of the block polymer into the hydrophilic segment at a portion where the hydrophilic group generated by the exposure is present and the hydrophobic segment at a portion where the hydrophilic group is not present; and a step of removing one of the separated segments to form a pattern of the other segment.

Abstract translation: 图案形成方法包括通过在基板上设置受疏水性光降解性基团保护的感光性有机材料并且能够产生选自氨基， 羟基，羧基和磺基; 将感光有机材料层选择性地暴露于图案中的光以在暴露部分产生亲水基团的步骤; 在曝光后的光敏有机材料层上提供具有亲水性链段和疏水链段的嵌段聚合物的步骤，在存在通过曝光产生的亲水基团的部分将嵌段聚合物的片段分离成亲水链段 和亲水基团不存在的部分的疏水链段; 以及去除分离的片段之一以形成另一片段的图案的步骤。

公开(公告)号：WO2008038550A1

公开(公告)日：2008-04-03

申请号：PCT/JP2007/068143

申请日：2007-09-19

Applicant: 日立化成工業株式会社 ,  阿部 浩一 ,  粕谷 圭 ,  丸山 鋼志 ,  青木 陽介 ,  小島 恭子 ,  龍崎 大介

Inventor： 阿部 浩一 ,  粕谷 圭 ,  丸山 鋼志 ,  青木 陽介 ,  小島 恭子 ,  龍崎 大介

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/022 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0757 ,  Y10T428/24802

Abstract: 　（ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：キノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する感光性樹脂組成物。 ［式（１）中、Ｒ １ は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］

Abstract translation: 一种感光性树脂组合物，其特征在于，包含：（a）通过水解和缩合含有下述通式（1）表示的化合物的硅烷化合物而得到的硅氧烷树脂的成分。 （b）组分（a）可溶于其中的溶剂组分; 和（c）作为醌二叠氮化物磺酸酯的成分：（1）其中R 1表示有机基团; A表示二价有机基团; 并且X表示可水解基团，条件是单个分子中的多个X可以相同或不同。

公开(公告)号：WO0122162A3

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：PCT/US0022141

申请日：2000-08-11

Applicant: ARCH SPEC CHEM INC

Inventor： FOSTER PATRICK ,  BIAFORE JOHN JOSEPH ,  SLATER SIDNEY GEORGE ,  STEINHAUSLER THOMAS

IPC: G03F7/004 ,  C08F120/10 ,  C08F130/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/0758 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

Abstract: Radiation sensitive resins for use as a top layer resist in a bilayer system for use in deep UV photolithography comprises derivatized copolymers having structural units (1), (2), (3) and (4) wherein n is 1 to 5, R is an alkyl group, R 1 a methyl or trimethylsiloxy, R 3 is hydrogen or methyl and R 2 and R 4 are each tert-butyl groups.

Abstract translation: 用于深紫外光刻的双层体系中用作顶层抗蚀剂的辐射敏感树脂包括具有结构单元（1），（2），（3）和（4）的衍生化共聚物，其中n为1至5，R为 烷基，R 1，甲基或三甲基甲硅烷氧基，R 3是氢或甲基，R 2和R 4 >各为叔丁基。