公开(公告)号：WO2002085808A1

公开(公告)日：2002-10-31

申请号：PCT/JP2002/003951

申请日：2002-04-19

Applicant: 株式会社ニコン ,  小峰 典男 ,  吉田 明子 ,  神保 宏樹 ,  藤原 誠志

Inventor： 小峰 典男 ,  吉田 明子 ,  神保 宏樹 ,  藤原 誠志

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

Abstract: A quartz glass member, wherein when the composition thereof is represented by SiOx, x takes a value of 1.85 to 1.95, the concentration of hydrogen molecules contained therein is 1 X 10 molecules/cm to 5 X 10 molecules/cm , and the value of (A-B) is 0.002 cm or less, where A represents the absorption coefficient observed immediately before the termination of irradiation when the irradiation of ArF excimer laser light is carried out in 1 X 10 pulses at one pulse energy density of 2 mJ/cm and B represents a second absorption coefficient observed 600 seconds after the stop of the above ArF excimer laser light irradiation. The use of the quartz glass member in optical systems for illumination and projection in a projection aligner allows the reduction of variation in the illuminance in an exposure region on a reticle plane or a wafer, which leads to a uniform exposure.

Abstract translation: 石英玻璃构件，当其组成由SiO x表示时，x取1.85〜1.95的值，其中所含的氢分子的浓度为1×10 16分子/ cm 3〜5×10 18 >分子/ cm 3，（AB）的值为0.002cm -1以下，其中A表示在ArF准分子激光的照射下进行照射结束之前观察到的吸收系数 1×10 4脉冲，脉冲能量密度为2mJ / cm 2，B表示在停止上述ArF准分子激光照射后600秒观察到的第二吸收系数。 在投影对准器中用于照明和投影的光学系统中使用石英玻璃构件允许减少在掩模版平面或晶片上的曝光区域中的照度的变化，这导致均匀的曝光。