公开(公告)号：WO2015014717A1

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：PCT/EP2014/065950

申请日：2014-07-24

申请人： CARL ZEISS SMT GMBH

发明人： EVA, Eric

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/02

CPC分类号： C03B19/066 ,  C03B19/09 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G02B13/16 ,  G03F7/70958

摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beladen eines Rohlings aus Quarzglas mit Wasserstoff, wobei das Beladen zwei Schritte umfasst, wobei in dem ersten Schritt der Rohling bei einer ersten Temperatur (T 1 ) und einem ersten Wasserstoff-Partialdruck (p 1 ) und in dem zweiten Schritt bei einer zweiten, von der ersten verschiedenen Temperatur (T 2 ) und einem zweiten, vom ersten verschiedenen Wasserstoff-Partialdruck (p 2 ) beladen wird, wobei die erste und zweite Temperatur (Τ 1 , T 2 ) kleiner als eine Grenztemperatur (T L ) sind, bei der eine thermische Bildung von Silan in dem Quarzglas des Rohlings einsetzt. Die Erfindung betrifft auch ein Linsenelement, welches aus einem solchen Rohling hergestellt ist, sowie ein Projektionsobjektiv mit mindestens einem solchen Linsenelement.

摘要翻译： 本发明涉及一种方法，用于加载与氢的石英玻璃，其特征在于，所述装载包括两个步骤，锭，其中，在所述坯件的在第一温度（T1）和第一氢分压（P1）的第一步骤和在第二步骤中 第二，从第一温度（T2）和第二，从第一氢分压（P2）不同的不同被加载，其特征在于，所述第一和第二温度（.tau.1，T2）小于阈值温度（TL）是在 采用硅烷在所述坯件的石英玻璃的热形成。 本发明还涉及一种从这样的空白，投射物镜具有至少一个这样的透镜元件制成的透镜元件。

公开(公告)号：WO2014128148A3

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/EP2014053199

申请日：2014-02-19

申请人： HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

发明人： KUEHN BODO

IPC分类号： C03C4/00 ,  C03B19/01 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

摘要： The invention relates to an optical component made of synthetic quartz glass for use in an ArF excimer laser lithography process with an applied wavelength of 193 nm, comprising a glass structure substantially free of oxygen defect sites, a hydrogen content ranging from 0.1 x 1016 molecules/cm3 to 1.0 x 1018 molecules/cm3, an SiH group content of less than 2 x 1017 molecules/cm3, and a hydroxyl group content ranging from 0.1 to 100 wt. ppm, said glass structure having a fictive temperature of less than 1070 °C. The aim of the invention is to allow a reliable prediction of the compacting behavior when using UV laser radiation with the applied wavelength on the basis of a measurement of the compacting behavior using a measured wavelength of 633 nm. This is achieved by an optical component design in which the component undergoes a laser-induced change in the refractive index in response to irradiation by means of a radiation with a wavelength of 193 nm using 5x109 pulses with a pulse width of 125 ns and a respective energy density of 500 µJ/cm2 at a pulse repetition frequency of 2000 Hz, said change totaling a first measured value M193nm when measured using the applied wavelength of 193 nm and totaling a second measured value M633nm when measured using a measured wavelength of 633 nm, wherein M193nm/M633nm

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用具有193nm的波长使用的光合成的石英玻璃部件，用玻璃结构基本没有氧缺陷，在0.1×1016分子/立方厘米至1的范围内的氢含量 0×1018分子/厘米3，SiH基团的含量小于2×1017摩尔/厘米3，并且具有羟基的0.1重量和100ppm之间的范围内，其中所述玻璃结构的含量为少的假想温度 具有1070℃ 为了在633测量波长为使得能够与所使用的波长的紫外激光辐射使用时，压实行为的可靠预测从Kompaktierungsverhaltens的测量开始，该光学装置的结构，提出了，这是对照射的193纳米与5×10 9的波长的辐射 用的125毫微秒的脉冲宽度和各500μJ/ cm 2的能量密度和2000Hz的与折射率的激光诱导的变化的脉冲重复频率的脉冲进行反应，所述量在测量用的193nm的第一测量值M193nm和测量与633nm的测定波长使用波长 第二测量值M633nm的产率，其中：M193nm / M633nm <1.7。

公开(公告)号：WO2009106134A1

公开(公告)日：2009-09-03

申请号：PCT/EP2008/052370

申请日：2008-02-27

申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  TROMMER, Martin ,  OCHS, Stefan ,  ZWARG, Steffen ,  KUEHN, BODO

发明人： TROMMER, Martin ,  OCHS, Stefan ,  ZWARG, Steffen ,  KUEHN, BODO

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  Y02P40/57

摘要： To provide a method for the reproducible and reliable production of synthetic, UV- radiation resistant quartz glass which has a predetermined hydroxyl group content and containshardly any chlorine and oxygen defect centers, if possible, the present invention suggests a method which comprises the following steps: (a) producing an SiO 2 soot body, (b) drying the soot body such that a mean hydroxyl group content of less than 60 wtppm is obtained, and (c) vitrifying the soot body with formation of a cylindrical quartz glass blank which is further processed into the optical component, wherein prior to vitrification according to method step (c) the soot body is subjected to a conditioning treatment which comprises a treatment with a nitrogen containing gas, preferably a nitrogen oxide,or a sequence of treatments with ammonia and an oxidizing agent.

摘要翻译： 为了提供一种可重复且可靠地生产具有预定羟基含量并且包含任何氯和氧缺陷中心的合成耐紫外线辐射石英玻璃的方法，如果可能，本发明提出了一种方法，包括以下步骤： （a）生产SiO2烟灰体，（b）干燥烟灰体，使得得到小于60重量ppm的平均羟基含量，和（c）使形成圆柱形石英玻璃坯料的烟灰体玻璃化，其进一步 加工成光学部件，其中根据方法步骤（c）在玻璃化之前，对烟灰体进行调理处理，其包括用含氮气体，优选氮氧化物的处理，或用氨和 氧化剂。

公开(公告)号：WO2006071936A2

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：PCT/US2005047257

申请日：2005-12-28

申请人： CORNING INC ,  BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH E ,  TANDON PUSHKAR ,  BLEAKING DANIEL J ,  MAXON JOHN E ,  WILBERT KIMBERLY A

发明人： BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH E ,  TANDON PUSHKAR ,  BLEAKING DANIEL J ,  MAXON JOHN E ,  WILBERT KIMBERLY A

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23

摘要： Disclosed are high purity synthetic silica glass material having a high OH concentration homogeneity in a plane perpendicular to the optical axis, and process of making the same. The glass has high refractive index homogeneity. The glass can have high internal transmission of at least 99.65%/cm at 193 nm. The process does not require a post-sintering homogenization step. The controlling factors for high compositional homogeneity, thus high refractive index homogeneity, include high initial local soot density uniformity in the soot preform and slow sintering, notably isothermal treatment during consolidation.

摘要翻译： 公开了在垂直于光轴的平面内具有高OH浓度均匀性的高纯度合成石英玻璃材料及其制造方法。 玻璃具有高折射率均匀性。 该玻璃在193nm下可以具有至少99.65％/ cm的高内部透射率。 该方法不需要烧结后均化步骤。 高成分均匀性因此高折射率均匀性的控制因素包括在烟灰预制棒中的初始局部烟灰密度均匀性和慢速烧结，特别是在固结期间的等温处理。

公开(公告)号：WO2004065315A1

公开(公告)日：2004-08-05

申请号：PCT/JP2004/000467

申请日：2004-01-21

申请人： 株式会社ニコン ,  神保 宏樹 ,  藤原 誠志 ,  小峯 典男

发明人： 神保 宏樹 ,  藤原 誠志 ,  小峯 典男

IPC分类号： C03B20/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/36 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23

摘要： 　合成石英ガラス部材は、ＯＨ基濃度が１ｐｐｂ～１０ｐｐｍであり、Ｓｉに結合しているＦ濃度が０．５ｗｔ％～３．０ｗｔ％であり、水素分子濃度が１×１０ １６ 個／ｃｍ ３ ～５×１０ １７ 個／ｃｍ ３ である。高い紫外光透過率及び耐紫外線特性を有するとともに、緩和率が小さく、しかも面内分布に優れる。１９０ｎｍ以下の波長領域の紫外線に使用することが好適である。

摘要翻译： OH基浓度为1ppb〜10ppm的合成石英玻璃光学构件，与Si结合的F的浓度为0.5〜3.0重量％，氢分子浓度为1×10 16分子〜5× 10 17分子/ cm 3。 光学构件对于紫外线具有增强的透射率和改善的抗紫外线，并且还可以表现出降低的松弛率和在平面内的优异分布，因此可以适用于波长为190的紫外线 nm以下。

公开(公告)号：WO2003076912A1

公开(公告)日：2003-09-18

申请号：PCT/US2003/006810

申请日：2003-03-04

申请人： CORNING INCORPORATED

发明人： BORRELLI, Nicholas, F. ,  HESLIN, Michael, R. ,  LINDER, Michael, W. ,  MOLL, Johannes ,  SMITH, Charlene, M.

IPC分类号： G01N21/59

CPC分类号： G01N21/33 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/70 ,  G02B26/06

摘要： Optical members, methods of manufacturing optical members and predicting the performance of optical members in optical systems using excimer lasers are disclosed. The methods can be used in designing optical systems using excimer lasers. The methods include measuring the wavefront change of samples of glass at the operating wavelength of the optical system.

摘要翻译： 公开了光学构件，制造光学构件的方法以及使用准分子激光器预测在光学系统中的光学构件的性能。 该方法可用于设计使用准分子激光器的光学系统。 这些方法包括测量在光学系统的工作波长下的玻璃样品的波前变化。

公开(公告)号：WO2002069054A1

公开(公告)日：2002-09-06

申请号：PCT/US2001/044547

申请日：2001-11-28

申请人： CORNING INCORPORATED

发明人： MOORE, Lisa, A. ,  SMITH, Charlene, M.

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

摘要： High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

摘要翻译： 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：WO2014122111A3

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：PCT/EP2014052106

申请日：2014-02-04

申请人： HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

发明人： THOMAS STEPHAN ,  BECKER KLAUS ,  OCHS STEFAN

IPC分类号： G03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B25/02 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958

摘要： To provide a blank of TiO2-SiO2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography, in which the need for adaptation to optimize the progression of the coefficient of thermal expansion, and consequently also the progression of the zero crossing temperature Tzc, is low, the TiO2-SiO2 glass has at a mean value of the fictive temperature Tf in the range between 920°C and 970°C a dependence of its zero crossing temperature Tzc on the fictive temperature Tf which, expressed as the differential quotient dTzc/dTf, is less than 0.3.

摘要翻译： 为了提供用于镜基板制成的TiO 2 -SiO 2玻璃的在EUV光刻中使用的空白，其中需要进行调整，以优化的热膨胀系数的过程中和过零点温度因而也过程TZC小，TiO2-SiO2的 与假想温度Tf的在920℃，970℃，其过零点温度假想温度Tf，它表示为一个微商dTzc / DTF的TZC的函数之间的范围内的平均值为小于0.3的玻璃。

公开(公告)号：WO2011104257A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：PCT/EP2011/052650

申请日：2011-02-23

申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan

发明人： KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  G02B5/0891

摘要： Es ist bekannt zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das Ti-dotierte Kieselglas mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen zu erzeugen und anschließend in dem Ti-dotierten Kieselglas einen vorgegebenen Wasserstoffgehalt einzustellen. Um hiervon ausgehend eine möglichst weitgehende Unempfindlichkeit der Oberfläche gegenüber Verwerfungen und Verformungen bei Bestrahlung mit EUV- Laserstrahlung zu erreichen, wird erfindungsgemäß ein Verfahrensweise vorgeschlagen, bei dem durch Flammenhydrolyse ein Sootkörper aus mit Titan dotiertem SiO 2 erzeugt wird, der Sootkörper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150 °C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkörper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert wird, und das Ti-dotierte Kieselglas mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 x 10 16 Molekülen/cm 3 einstellt.

摘要翻译： 它是在将Ti掺杂的二氧化硅玻璃已知的用于生产含钛原料和用于在EUV光刻中使用的镜基板以产生由硅和火焰水解的Ti掺杂的石英玻璃制成的掺杂钛的高二氧化硅玻璃的坯料然后一个 调整预定的氢含量。 向该基础实现表面相反在用EUV激光辐射照射失真和变形的最大可能的免疫力，提出一种方法，与其中通过加热由掺杂钛的SiO 2，烟灰体的微粉体的火焰水解产生的的温度下，本发明 至少1150℃在真空下干燥，从而使小于150质量ppm的平均羟基含量，将干燥的烟炱体烧结以形成钛 - 掺杂的二氧化硅玻璃的预成型体，并在Ti掺杂的二氧化硅玻璃中装入氢 使得至少1×10 16的平均氢含量调整分子/立方厘米。

公开(公告)号：WO2011045888A1

公开(公告)日：2011-04-21

申请号：PCT/JP2010/005375

申请日：2010-09-01

申请人： 信越石英株式会社 ,  山形 茂 ,  笛吹 友美

发明人： 山形　茂 ,  笛吹　友美

IPC分类号： C03B20/00 ,  C01B33/18 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06

CPC分类号： C03B19/095 ,  C01B33/12 ,  C01P2004/61 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/54 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/2982

摘要： 　本発明は、回転対称性を有し、シリカを主成分とし、少なくとも外周部分に気泡を含有する基体と、該基体の内表面上に形成された、透明シリカガラスからなる内層とを具備するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、前記内層を形成するための原料粉として、粒径が１０～１０００μｍであり、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを５０～５０００ｗｔ．ｐｐｍの合計濃度で含有し、真空下にて１０００℃に加熱したときの水素分子の放出量が３×１０ １６ ～３×１０ １９ 分子／ｇであるシリカ粉を準備し、該内層形成用原料粉であるシリカ粉から、前記内層を形成するシリカ容器の製造方法である。これにより、高寸法精度であり、内壁が実質的に気泡を含まない肉厚の透明シリカガラス層であるとともに、高温でも高い耐久性を有するシリカ容器を低コストで製造できるシリカ容器及びその製造方法、並びにそのようなシリカ容器を製造するためのシリカ粉及びその製造方法が提供される。

摘要翻译： 本发明提供一种具有旋转对称性的二氧化硅容器的制造方法，以二氧化硅为主要成分，至少在外周部具有气泡，形成在本体内表面的内层 ，并且包括透明石英玻璃。 粒径为10〜1000μm的二氧化硅粉末，含有总浓度为50〜5000重量ppm的Ca，Sr，Ba，氢分子的排出量为3×1016〜3×1019分子/克 作为形成内层的原料动力，在真空中在1000℃下加热时，内层由作为形成内层的原料粉末的二氧化硅粉末形成。 因此，提供了即使在高温下也具有高尺寸精度和高耐久性，其内壁是具有基本上不含气泡的厚度的透明石英玻璃层的二氧化硅容器。 还提供了用于生产所述二氧化硅容器的低成本方法，用于生产这种二氧化硅容器的二氧化硅粉末以及所述二氧化硅粉末的制备方法。