公开(公告)号：WO2010038631A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：PCT/JP2009/066332

申请日：2009-09-18

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  生田 浩之 ,  江面 知彦 ,  鎌田 豊弘

Inventor： 生田　浩之 ,  江面　知彦 ,  鎌田　豊弘

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/541 ,  C23C14/544 ,  C23C14/56

Abstract: 　蒸着装置１０は、材料容器１１０ａとキャリアガス導入管１１０ｂとを有し、材料容器１１０ａに収納された成膜材料を気化させ、キャリアガス導入管１１０ｂから導入された第１のキャリアガスにより成膜材料の気化分子を搬送させる複数の蒸着源ユニット１００と、複数の蒸着源ユニット１００に連結され、各蒸着源ユニットを搬送した成膜材料の気化分子を搬送させる連結管２００と、連結管２００に連結され、第２のキャリアガスを連結管２００に直接導入するバイパス管３００と、連結管２００に連結された吹き出し機構４００を内蔵し、第１及び第２のキャリアガスを用いて搬送させた成膜材料の気化分子を吹き出し機構４００から吹き出させて内部にて基板を成膜する処理容器Ｃｈと、を有する。

Abstract translation: 沉积设备（10）具有：多个沉积源单元（100），每个沉积源单元具有材料容器（110a）和载气引入管（110b），使存储在材料容器（110a）中的成膜材料蒸发 ），并且通过从载气引入管（110b）引入的第一载气转移成膜材料的蒸发分子; 连接管（200），其连接到沉积源单元（100）并传送通过每个沉积源单元传送的成膜材料的气化分子; 旁通管（300），其连接到所述连接管（200）并且将第二载气直接引入所述连接管（200）中; 以及处理容器（Ch），其具有与连接管（200）连接的内置吹风机构（400），并且通过从吹送机构（400）吹送而在容器内的基板上形成膜，蒸发的 通过使用第一和第二载气转移成膜材料的分子。

公开(公告)号：WO2012026483A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/JP2011/069027

申请日：2011-08-24

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  鎌田 美子 ,  石川 拓 ,  小野 裕司 ,  林 輝幸 ,  布瀬 暁志 ,  斉藤 美佐子 ,  鎌田 豊弘 ,  大槻 志門

Inventor： 鎌田　美子 ,  石川　拓 ,  小野　裕司 ,  林　輝幸 ,  布瀬　暁志 ,  斉藤　美佐子 ,  鎌田　豊弘 ,  大槻　志門

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/228 ,  C23C14/544 ,  C23C14/545 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

Abstract: 【課題】基板に薄膜を成膜させるのと同時に、膜厚の制御を行うことが可能な蒸着処理装置を提供する。 【解決手段】蒸着によって基板に薄膜を成膜させる蒸着処理装置であって、材料ガスを供給する減圧自在な材料供給部と、前記基板に薄膜を成膜する成膜部を備え、前記成膜部は前記基板に噴射される材料ガスの蒸気濃度を測定する検知手段を有し、前記検知手段における測定結果に基づいて成膜条件を制御する制御部を設けた、蒸着処理装置が提供される。

Abstract translation: 公开了一种能够在基板上沉积薄膜的同时进行膜厚控制的气相沉积处理装置。 通过气相沉积在基板上形成薄膜的气相沉积处理装置设置有供给材料气体并且能够自由降低压力的材料供应单元，以及用于在上述薄膜上沉积薄膜的沉积单元 基质。 上述沉积单元具有用于测量喷射到上述基板上的原料气体的蒸汽浓度的检测装置，并且设置有控制单元，该控制单元基于上述检测装置中的测量结果来控制沉积条件。