VERFAHREN ZUR FERNDIAGNOSTISCHEN ÜBERWACHUNG UND UNTERSTÜTZUNG VON PATIENTEN SOWIE EINRICHTUNG UND TELEMEDIZINISCHES ZENTRUM
    1.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR FERNDIAGNOSTISCHEN ÜBERWACHUNG UND UNTERSTÜTZUNG VON PATIENTEN SOWIE EINRICHTUNG UND TELEMEDIZINISCHES ZENTRUM 审中-公开
    方法远程诊断监测与患者以及设备和医疗中心TELE的支持

    公开(公告)号:WO2010066507A1

    公开(公告)日:2010-06-17

    申请号:PCT/EP2009/064353

    申请日:2009-10-30

    Inventor: HENKE, Sascha

    Abstract: Zur ferndiagnostischen Überwachung und Unterstützung von Patienten werden Vitaldaten kontinuierlich aufgenommen und/oder gemessen. Sie werden signaltechnisch interpretiert und bewertet bezüglich ihres Verlaufs und dem Kontext in dem sie aufgenommen/gemessen wurden. Es wird eine Verknüpfung der Vitaldaten zu einem Patientenprofil vorgenommen und ausgewertet anhand von Schwellwerten, um Abweichungen des Patientenzustandes von einem zuvor festgelegten Zielzustands zu erkennen. Es wird kategorisiert, ob aufgrund der Auswertung eine Interaktion mit dem Patienten sofort, in einem vorgegebenen Zeitrahmen oder nicht erforderlich ist.

    Abstract translation: 重要数据被连续记录和/或用于远程诊断监测和支持患者中测量。 它们通过信号技术解释和评价它们当然和上下文包括在它们被测量/。 它是由生物体数据的一个链接到一个患者概况和阈值的基础上评估,以从预定的目标状态检测患者的状况的偏差。 它被分类为是否与患者的相互作用,基于在预定的时间帧一次或不需要评估。

    HOCHDRUCKPUMPE FÜR EINE KRAFTSTOFFEINSPRITZEINRICHTUNG EINER BRENNKRAFTMASCHINE
    2.
    发明申请
    HOCHDRUCKPUMPE FÜR EINE KRAFTSTOFFEINSPRITZEINRICHTUNG EINER BRENNKRAFTMASCHINE 审中-公开
    高压泵用于内燃发动机的燃料喷射装置

    公开(公告)号:WO2004051083A1

    公开(公告)日:2004-06-17

    申请号:PCT/DE2003/002702

    申请日:2003-08-11

    CPC classification number: F04B1/0413 F04B1/0426 F05C2253/12

    Abstract: Die Hochdruckpumpe weist eine Antriebswelle (12) und wenigstens ein Pumpenelement (14) auf, das einen durch die Antriebswelle (12) in einer Hubbewegung angetriebenen Pumpenkolben (20) aufweist, wobei auf einem exzentrisch zu deren Drehachse (13) angeordneten Abschnitt (16) der Antriebswelle (12) ein Ring (18) drehbar gelagert ist, auf dem sich der Pumpenkolben (20) über ein Stützelement (24) abstützt. Der Ring (18) und/oder das Stützelement (24) ist zumindest in deren Kontaktbereich mit einer Beschichtung (40) aus tetraedrisch koordiniertem amorphem Kohlenstoff versehen.

    Abstract translation: 高压泵具有驱动轴(12),并且其具有在一个往复运动的泵活塞(20)驱动的通过驱动轴(12)的至少一个泵元件(14),(16)被布置在一个偏心地旋转(13)部分的轴线 驱动轴(12)可旋转地安装在其上负载经由支撑构件(24),所述泵活塞(20)的环(18)。 所述环(18)和/或所述支撑元件(24)被提供四面体配位的无定形碳,在具有涂层(40),它们的接触区域的至少。

    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR STERILISATION VON BEHÄLTNISSEN
    3.
    发明申请
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR STERILISATION VON BEHÄLTNISSEN 审中-公开
    方法和装置容器杀菌

    公开(公告)号:WO2003016143A1

    公开(公告)日:2003-02-27

    申请号:PCT/DE2002/002503

    申请日:2002-07-09

    Abstract: Es wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Sterilisation von Behältnissen (2) vorgeschlagen, bei dem in mindestens einem Verfahrensschritt in einer Kammer (5) eine Plasmabehandlung durch Anregung einer elektromagnetischen Schwingung derart durchgeführt wird, dass das Plasma (8) in einem Vakuum in der Nähe der zu sterilisierenden Bereiche des Behältnisses (2) angeregt wird. Die zu sterilisierenden Bereiche des Behältnisses (2) werden zwischen dem Einschleusen (4) und dem Ausschleusen (6) in der Kammer (5) bei Bewegung des Behältnisses (2) und/oder der schwingungserzeugenden Vorrichtung (9) für einen oder mehrere vorgegebene Zeiträume derart an die schwingungserzeugenden Vorrichtung (9) angenähert, dass in diesen Bereichen innen und/oder aussen am Behältnis ein Plasma (8) angeregt wird. In der Kammer (5) ist eine Transportvorrichtung vorhanden, die eine im wesentlichen rotierende Bewegung des Behältnisses (2) während des Transports von der Einschleusung (4) zur Ausschleusung (6) in der Kammer (5) bewirkt.

    Abstract translation: 公开了一种用于容器的灭菌的方法和设备(2),其中,在一个室中的至少一个处理步骤(5)的等离子体处理是通过电磁振荡的激励以这样的方式进行,即在真空中的等离子体(8) 附近的容器(2)的经灭菌的区域被刺激。 要在腔室(5)导入(4)和放电(6)之间的容器(2)和/或所述振动产生装置(9)的运动过程中为一个或多个预定的时间段消毒的容器(2)的区域 近似以这样一种方式到振动产生装置(9),在内侧和/或外侧这些区域中的容器上的等离子体(8)被激发。 在所述腔室(5),其使从导入(4)放电(6)在所述室(5),输送装置本的运输过程中,容器(2)的基本上旋转运动。

    PLASMAANLAGE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG
    4.
    发明申请
    PLASMAANLAGE UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG 审中-公开
    等离子系统及其制造方法的功能涂层

    公开(公告)号:WO2002062114A1

    公开(公告)日:2002-08-08

    申请号:PCT/DE2001/004564

    申请日:2001-12-05

    Abstract: Es wird eine Plasmaanlage mit einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung (26) für den Plasmastrahl (20), einer den Plasmaerzeugungsraum (27) bereichsweise umgebenden Spule (17), einer Zuführung (10) zur Zufuhr eines Gases und/oder Precursor-Materials in den Plasmaerzeugungsraum (27) und einem mit der Spule (17) in Verbindung stehenden Hochfrequenzgenerator (16) zur Zündung des Plasmas (21) und Einkoppelung einer elektrischen Leistung in das Plasma (21) vorgeschlagen. Daneben weist die Plasmastrahlquelle (5) ein elektrisches Bauteil auf, mit dem die Intensität des Plasmastrahles (20) zeitlich periodisch veränderbar ist. Weiter ein Verfahren zur Erzeugung der Funktionsbeschichtung auf einem Substrat (19) mit der Plasmaanlage vorgeschlagen.

    Abstract translation: 这是一个等离子系统,电感耦合高频等离子束源(5),其具有一个等离子体产生空间(27)与出口开口(26),用于将等离子流(20),等离子生成室(27)包围所述燃烧器主体(25)部分地围绕所述线圈(17 ),用于在电力供应的气体和/或所述前体材料到等离子体生成空间(27)和一个(与用于等离子体(21)和联接器的点火相关联的线圈17)的高频发生器(16)的供给(10) 等离子体(21)中提出。 此外,电气元件,与等离子束(20)的强度在时间上是可变的周期性上的等离子束源(5)。 此外,用于在衬底(19)上制造功能性涂层的方法,提出了与等离子体系统。

    VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG MIT EINER HF-ICP-PLASMASTRAHLQUELLE
    5.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER FUNKTIONSBESCHICHTUNG MIT EINER HF-ICP-PLASMASTRAHLQUELLE 审中-公开
    用于生产功能性涂装用RF ICP等离子体束源

    公开(公告)号:WO2002061171A1

    公开(公告)日:2002-08-08

    申请号:PCT/DE2001/004357

    申请日:2001-11-21

    CPC classification number: H01J37/321 C23C16/513 C23C16/515 C23C16/52

    Abstract: Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer Funktionsbeschichtung auf einem in einer Kammer (40) angeordneten Substrat (19) vorgeschlagen, wobei mittels einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung (26) ein Plasma (21) erzeugt wird. Dieses Plasma (21) tritt dann über die Austrittsöffnung in Form eines Plasmastrahles (20) aus der Plasmastrahlquelle (5) in die damit verbundene Kammer (40) ein, wo es auf das Substrat (19) zur Erzeugung der Funktionsbeschichtung einwirkt. Weiter ist dabei vorgesehen, dass zwischen dem Inneren der Kammer (40) und dem Plasmaerzeugungsraum (27) zumindest zeitweise ein Druckgradient erzeugt wird, der eine Beschleunigung von in dem Plasmastrahl (20) enthaltenen Teilchen auf das Substrat (19) hin bewirkt.

    Abstract translation: 它提出了一种方法,用于在一个室中产生上的功能性涂层(40),其设置基板(19),由感应耦合高频等离子束源的装置与等离子体发生室(27)的限定(5)燃烧器主体(25)(具有出口开口 26)的等离子体(21)被产生。 该等离子体(21),然后经由出口开口在从等离子束源(5)的等离子体射流(20)的形式进入相关的腔室(40),其中,它的作用在基板(19),用于制造功能性涂层上进入。 接着,它提供了时间,在腔室(40)和至少所述等离子体生成空间(27),这导致在等离子流(20)的加速度的内部之间产生的压力梯度包含在衬底(19)下放在颗粒。

    VORRICHTUNG ZUR KERAMIKARTIGEN BESCHICHTUNG EINES SUBSTRATES
    6.
    发明申请
    VORRICHTUNG ZUR KERAMIKARTIGEN BESCHICHTUNG EINES SUBSTRATES 审中-公开
    设备技术陶瓷类涂层的基

    公开(公告)号:WO2002061165A1

    公开(公告)日:2002-08-08

    申请号:PCT/DE2002/000138

    申请日:2002-01-18

    Abstract: Es wird eine Vorrichtung zur keramikartigen Beschichtung eines Substrates (2), wobei Mittel zum Aufbringen eines Werkstoffes (5, /), insbesondere mittels eines Plasmas (8), auf einer Oberfläche des Substrates (2) vorgesehen sind, vorgeschlagen, die gegenüber dem Stand der Technik eine keramische Beschichtung (3) von vergleichsweise temperaturempfindlichen Substraten (2) ermöglicht. Dies wird erfindungsgemäss ddurch erreicht, dass eine von einer Werkstoffs (5, 7) verschiedenen Energiequelle zum örtlich definierten Energieeintrag in den vor und/oder auf der Oberfläche befindlichen Werkstoff (3, 5, 7, 8) vorgesehen ist.

    Abstract translation: 它是陶瓷类涂层的基材(2),所述的装置用于(,/ 5),特别是通过(8),所述基板的表面上设置(2)的等离子体,提出比现有的装置施加材料 该技术允许相对温度敏感的基材(2)的陶瓷涂层(3)。 这是根据本发明ddurch,物质的实现(5,7)不同的能量源被提供给本地定义的能量输入到前部和/或位于所述表面材料(3,5,7,8)。

    VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER NANOSTRUKTURIERTEN FUNKTIONSBESCHICHTUNG UND DAMIT HERSTELLBARE BESCHICHTUNG
    8.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINER NANOSTRUKTURIERTEN FUNKTIONSBESCHICHTUNG UND DAMIT HERSTELLBARE BESCHICHTUNG 审中-公开
    产生纳米结构功能涂层的方法和可用的涂层

    公开(公告)号:WO2003018862A2

    公开(公告)日:2003-03-06

    申请号:PCT/DE2002/003074

    申请日:2002-08-22

    Abstract: Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer nanostrukturierten, insbesondere keramikartigen Funktionsbeschichtung (17) auf einem Substrat (16) vorgeschlagen. Dazu wird mit wenigstens einer Plasmaquelle (11, 12) ein gepulstes Plasma (13, 14) erzeugt, mit dem auf dem Substrat (16) über einen Werkstoffeintrag eine Matrixphase (30) and mindestens eine, darin eingebettete nanoskalige Einlagerungsphase (31) abgeschieden wird. Bevorzugt wird eine Mehrzahl von zeitlich korreliert oder synchronisiert zueinander gepulsten Plasmaquellen (11, 12) verwendet. Weiter wird eine nanostrukturierte, insbesondere nach diesem Verfahren herstellbare Funktionsbeschichtung (17) vorgeschlagen, die frei von Chlor und/oder Schwefel ist, und die mindestens ein Metall und/oder mindestens ein Element ausgewählt aus der Gruppe Sauerstoff, Wasserstoff, Stickstoff, Kohlenstoff, Helium, Argon oder Neon enthält.

    Abstract translation:

    提议用于制造纳米结构,在基板(16)上的特定的类陶瓷功能性涂层(17)的方法。 为此,与该基板(16)上通过材料条目生成的基质相(30)的至少一个等离子体源(11,12)的脉冲等离子体(13,14)和至少一个嵌入其中的纳米级掺入相(31) 被存放。 优选地,使用多个时间相关或同步脉冲等离子体源(11,12)。 另外,纳米结构化的,特别是可产生的由该方法中,功能性涂层(17)的建议,这是不含氯和/或硫,并且AUML至少一种金属和/或至少一种元素&的;从所述基氧HLT,氢,氮,碳 ,氦气,氩气或氖气。

    DEVICE AND METHOD FOR DISCHARGING DIELECTRIC SURFACES
    9.
    发明申请
    DEVICE AND METHOD FOR DISCHARGING DIELECTRIC SURFACES 审中-公开
    用于放电介质表面的装置和方法

    公开(公告)号:WO02067285A3

    公开(公告)日:2002-10-10

    申请号:PCT/DE0200520

    申请日:2002-02-14

    Abstract: The invention relates to a device and to a method for at least partially electrically discharging dielectric surfaces (30), especially surfaces of plastic films, paper webs or plastic threads. To this end, a plasma device (1) generates a plasma in at least one plasma region (12, 40) by means of micro-structure discharges. The dielectric surface (30) is introduced into the plasma zone (12, 40) by means of a supply device (2) and is temporarily subjected to the generated plasma for electric discharge.

    Abstract translation: 本发明涉及用于电介质表面(30)的至少部分放电的装置和方法,特别是塑料膜,纸幅或塑料线的表面。 在这种情况下,首先使用等离子体装置(1)通过至少一个等离子体区域(12,40)中的微结构放电来产生等离子体。 此外,电介质表面(30)通过供应装置(2)被引入到等离子体区域(12,40)中,同时暂时暴露于产生的等离子体以用于放电。

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