公开(公告)号：WO2023067681A1

公开(公告)日：2023-04-27

申请号：PCT/JP2021/038557

申请日：2021-10-19

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 糟谷　圭吾 ,  石川　修平 ,  谷本　憲史 ,  渡辺　俊一 ,  土肥　隆 ,  酒井　佑輔

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/065 ,  H01J37/07 ,  H01J37/073

Abstract: 冷陰極電界放出電子源が加熱されるときの温度を精密に管理することが可能な荷電粒子線装置を提供する。先端が先鋭化されたチップと、前記チップに接続されるフィラメントと、前記フィラメントを覆うとともに前記チップが突き出る開口を有する補助電極と、を有する冷陰極電界放出電子源と、前記冷陰極電界放出電子源から電子を引き出すための引出電圧が印加される引出電極と、前記冷陰極電界放出電子源から引き出された電子を加速するための加速電圧が印加される加速電極を備える荷電粒子線装置であって、前記チップと前記フィラメントが加熱されるときに、前記補助電極に、前記チップに対して正の電圧を印加することで、前記チップと前記フィラメントから放出される熱電子を前記補助電極に収集させて電流を計測することを特徴とする。

公开(公告)号：WO2018029018A1

公开(公告)日：2018-02-15

申请号：PCT/EP2017/069270

申请日：2017-07-31

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  HERMES MICROVISION, INC.

Inventor： DOU, Juying ,  FAN, Zheng ,  KUO, Tzu-Yi ,  CHEN, Zhongwei

IPC: H01J9/02 ,  H01J1/14 ,  H01J1/304 ,  H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/073

Abstract: Electron emitters and methods of fabricating the electron emitters are disclosed. According to certain embodiments, an electron emitter includes a tip with a planar region having a diameter in a range of approximately (0.05-10) micrometers. The electron emitter tip is configured to release field emission electrons. The electron emitter further includes a work-function-lowering material coated on the tip.

Abstract translation: 公开了电子发射体和制造电子发射体的方法。 根据某些实施例，电子发射器包括具有直径在大约（0.05-10）微米范围内的平面区域的尖端。 电子发射器尖端被配置为释放场致发射电子。 电子发射器还包括涂覆在尖端上的功函降低材料。

公开(公告)号：WO2017207543A1

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：PCT/EP2017/062994

申请日：2017-05-30

Applicant: ARCAM AB

Inventor： EKBERG, Christian

IPC: H01J37/305 ,  B29C64/153 ,  H01J3/02 ,  H01J37/063 ,  H01J37/065

Abstract: A method is provided for forming a three-dimensional article through successively depositing individual layers of powder material that are fused together so as to form the article, the method comprising the steps of: providing at least one electron beam source emitting an electron beam for at least one of heating or fusing the powder material, where the electron beam source comprises a cathode, an anode, and a Wehnelt cup between the cathode and anode; providing a guard ring between the Wehnelt cup and the anode and in close proximity to the Wehnelt cup, where the guard ring is having an aperture which is larger than an aperture of the Wehnelt cup; protecting the cathode and/or the Wehnelt cup against vacuum arc discharge energy currents when forming the three-dimensional article by providing the guard ring with a higher negative potential than the Wehnelt cup and cathode.

Abstract translation: 提供了一种通过连续沉积熔合在一起以形成制品的各个粉末材料层来形成三维制品的方法，所述方法包括以下步骤：提供至少一个电子 发射电子束的电子束源，用于加热或熔化粉末材料中的至少一个，其中电子束源包括阴极，阳极和在阴极和阳极之间的Wehnelt杯; 在Wehnelt杯和阳极之间提供一个保护环，并靠近Wehnelt杯，保护环的开口大于Wehnelt杯的开口; 当通过为保护环提供比Wehnelt杯和阴极更高的负电位而形成三维制品时，保护阴极和/或Wehnelt杯不受真空电弧放电能量电流的影响。

公开(公告)号：WO2016117628A1

公开(公告)日：2016-07-28

申请号：PCT/JP2016/051631

申请日：2016-01-21

Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 市村　崇 ,  伊藤　博之 ,  加藤　慎一 ,  村越　久弥 ,  藤枝　正 ,  三宅　竜也 ,  内藤　孝 ,  青柳　拓也 ,  谷本　憲史

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/065 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/15

CPC classification number: H01J37/16 ,  C23D5/02 ,  H01J9/18 ,  H01J37/065 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3178

Abstract: バナジウムガラスコートに基づく荷電粒子線装置の高性能化を実現する荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置用部材の製造方法を達成することを目的とする。内部空間が高真空に排気される金属容器と、前記金属容器の前記内部空間側の表面に形成されたコート層（１６１、１６２、１６３）とを備え、前記コート層（１６１、１６２、１６３）はバナジウムを含むガラス、つまり、非晶質であることを特徴とする真空部材を用いた荷電粒子線装置により達成する。高真空にしたい空間、例えば、電子源周辺部の壁にバナジウムガラスをコートすることで、電子源周辺部でのガス放出量を低減し、コート層でのゲッター効果により、局所排気を実施し、構造が複雑な空間でも大型の高真空ポンプを付けること無く、極高真空を達成する。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种由于使用钒玻璃涂层而表现出高性能的带电粒子束装置，并且提供了一种制造用于带电粒子束装置的部件的方法。 具体提供了一种使用真空部件的带电粒子束装置，其特征在于包括其内部空间被抽真空以形成高真空的金属容器，以及形成在内部空间的表面上的涂层（161,162,163） 的侧面，其中涂层（161,162,163）是含钒玻璃，其为无定形物质。 将钒玻璃涂覆在需要形成高真空的空间的壁上，例如电子源附近的壁，减少电子源附近的气体放电，并且涂层的吸气剂效应引起局部 排空，即使在具有复杂结构的空间中也能够形成极高的真空度，而不需要大型高真空泵。

公开(公告)号：WO2011034086A1

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：PCT/JP2010/065931

申请日：2010-09-15

Applicant: 株式会社アルバック ,  渡辺 将也 ,  楠本 淑郎

Inventor： 渡辺　将也 ,  楠本　淑郎

IPC: H01J37/063 ,  C23C14/30 ,  H01J29/48 ,  H01J37/065

CPC classification number: C23C14/30 ,  H01J37/063 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/3132

Abstract: 　本発明の電子銃は、アノード電極（２３）よりも放出口（１３）側に、アード電極（２３）に対して正電圧を印加したリペラー電極（２４）を備え、前記リペラー電極（２４）が、電子ビームと残留ガスとの衝突によって生じ中心軸線（２８）に沿ってカソード電極（２１）方向に進む正イオンを、真空槽（１８）側に押し戻すことを特徴とする。前記リペラー電極（２４）は円筒形形状であるので電子ビームの軌道を湾曲させるものではない。また、前記リペラー電極（２４）には細孔が多数形成されているため、リペラー電極（２４）内のガスは前記細孔を通過して真空排気される。これにより、正イオンがカソード電極（２１）に入射することを防ぎ、長寿命の電子銃を提供することが可能になった。

Abstract translation: 公开了一种电子枪，其具有斥极电极（24），其中正电压施加到比阳极电极（23）更靠近发光孔（13）侧的阳极电极（23），其中， 排斥电极（24）沿着由电子束与残留气体碰撞到真空室（18）侧的中心轴线（28）推回沿阴极电极（21）的方向行进的正离子。 具有圆柱形状的排斥电极（24）不能使电子束的轨迹弯曲。 此外，在排斥电极（24）中形成多个孔，使排斥电极（24）中的气体通过孔排出。 这防止正离子入射到阴极电极（21）上，使得可以提供具有长寿命的电子枪。

公开(公告)号：WO2009111149A1

公开(公告)日：2009-09-11

申请号：PCT/US2009/034000

申请日：2009-02-13

Applicant: ALIS CORPORATION ,  NOTTE IV, John V.

Inventor： NOTTE IV, John V.

IPC: H01J37/08 ,  H01J27/26 ,  H01J37/065 ,  H01J37/26 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J49/168 ,  H01J27/26 ,  H01J37/065 ,  H01J37/08 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/06341 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/28

Abstract: Coated tips, as well as related articles, systems and methods are disclosed.

Abstract translation: 披露了涂层技巧，以及相关文章，系统和方法。

公开(公告)号：WO2008102435A1

公开(公告)日：2008-08-28

申请号：PCT/JP2007/053101

申请日：2007-02-20

Applicant: 株式会社アドバンテスト ,  安田 洋 ,  原口 岳士

Inventor： 安田 洋 ,  原口 岳士

IPC: H01J37/065 ,  H01J3/02 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/02 ,  H01J29/48 ,  H01J37/063 ,  H01J37/075 ,  H01J2237/06316

Abstract: 本発明は、電子銃に関して、電子を放出する電子源の熱による昇華量を削減し、長期間安定に使用することを課題とする。 本発明の電子銃は、電子源（２０）の電子放出面と対向して配置され電子を加速する加速電極（２５）と、電子放出面と加速電極との間に配置され電子放出面に向かって光軸上に中心を持つ球状の凹面を有し当該電子放出面から電子を引き出す引き出し電極（２１）と、電子放出面の引き出し電極と反対側に配置され電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極（２４）とを有し、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して熱電界放射電子を放出させる。

Abstract translation: 在电子枪中减少由于用于发射电子的电子源的热引起的升华量，并且电子枪长时间稳定地使用。 电子枪设置有与电子源（20）的电子发射表面相对的加速电极（25），以加速电子; 布置在电子发射表面和加速电极之间的引出电极（21），具有在光轴上朝向电子发射表面的中心的球形凹入表面，以从电子发射表面提取电极; 以及用于抑制从电子源的侧面发射电子的抑制电极（24）。 将电场施加到电子发射表面，同时保持温度低至不具有电源材料的升华，并且发射热场发射电子。

公开(公告)号：WO01075949A1

公开(公告)日：2001-10-11

申请号：PCT/JP2001/002283

申请日：2001-03-22

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/065 ,  H01J37/141 ,  H01J37/305

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0635 ,  H01J2237/1205

Abstract: An electron beam exposure apparatus characterized by comprising electron guns for producing electron beam, voltage control means electrically connected to the electron guns and adapted to apply different voltages to the electron guns, and a multiaxis electron lens for independently focusing the electron beams. The voltage control means preferably applies different voltages to the electron guns according to the strength of magnetic field which is produced by the multiaxis electron lens and acts on the electron beams. The voltage control means may apply different voltages to the electron guns so that the focal points of the electron beams projected onto a wafer may be the same.

Abstract translation: 一种电子束曝光装置，其特征在于包括用于产生电子束的电子枪，与电子枪电连接并适用于向电子枪施加不同电压的电压控制装置，以及用于独立聚焦电子束的多轴电子透镜。 电压控制装置优选根据由多轴电子透镜产生的作用在电子束上的磁场的强度对电子枪施加不同的电压。 电压控制装置可以向电子枪施加不同的电压，使得投射到晶片上的电子束的焦点可以相同。

公开(公告)号：WO01075946A1

公开(公告)日：2001-10-11

申请号：PCT/JP2001/002280

申请日：2001-03-22

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/027 ,  H01J37/065 ,  H01J37/141 ,  H01J37/305

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0635 ,  H01J2237/1205

Abstract: An electron beam exposure apparatus characterized by comprising a multiaxis electron lens which has a lens portion magnetic conductive part provided with apertures and arranged generally parallel and a nonmagnetic conductive part disposed between the lens portion magnetic conductive parts and provided with through holes and in which the apertures and through holes form lens apertures through which beams pass.

Abstract translation: 一种电子束曝光装置，其特征在于包括多透镜电子透镜，该透镜部分磁导体部分设置有大致平行的孔，并且设置在透镜部分磁性导电部分之间并设置有通孔的非磁性导电部分， 并且通孔形成光束通过的透镜孔。

公开(公告)号：WO2022180381A1

公开(公告)日：2022-09-01

申请号：PCT/GB2022/050478

申请日：2022-02-22

Applicant: TWI LIMITED

Inventor： RIBTON, Colin

IPC: H01J1/13 ,  H01J1/88 ,  H01J29/02 ,  H01J29/04 ,  H01J29/48 ,  H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/075

Abstract: The present invention relates to an electron gun cathode mount adapted at one end to secure a thermionic cathode and at the other end to be connected to an attachment member, wherein the electron gun cathode mount is structured so as to be capable of, when in use, reducing heat transfer from the thermionic cathode to the attachment member, and the material forming the electron gun cathode mount has a thermal conductivity of less than 10 Wm-1K-1 at the operating temperature of the thermionic cathode in a direction from the thermionic cathode to the attachment member. The present invention also relates to an electron gun assembly having the electron gun cathode mount installed therein.