公开(公告)号：WO2007122203A2

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：PCT/EP2007/053912

申请日：2007-04-20

Applicant: SHELL ERNEUERBARE ENERGIEN GMBH ,  PROBST, Volker ,  STETTER, Walter

Inventor： PROBST, Volker ,  STETTER, Walter

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/24

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  C23C14/28

Abstract: Thermal evaporation apparatus for depositing of a material on a substrate, comprising material storage means; heating means to generate a vapour of the material in the material storage means; vapour outlet means comprising a vapour receiving pipe having vapour outlet passages, and emission reducing means arranged such that an external surface of the vapour outlet means directed to said substrate exhibits low emission, and wherein the apparatus further comprises pipe heating means in the interior of said vapour outlet means, wherein at least the surfaces of the material storage means, heating means, and emission reducing means and pipe heating means arranged to come into contact with the material vapour are of a corrosion-resistant material. Further a thermal evaporation apparatus for depositing a material on a substrate comprising a vapour outlet means arranged to receive in its interior the vapour of the material heated in a material storage means and having vapour outlet passages, wherein said vapour outlet means basically consist of a corrosion-resistant material and are gastight to such an extent that sufficient dynamic pressure of said material vapour is achievable for homogenous deposition of said material on said substrate. Also the use of the apparatus, and a method of depositing a material onto a substrate by thermal evaporation.

Abstract translation: 用于在基板上沉积材料的热蒸发装置，包括材料储存装置; 在所述材料存储装置中产生所述材料的蒸气的加热装置; 蒸气出口装置包括具有蒸汽出口通道的蒸气接收管，以及排放减少装置，其布置成使得引导到所述基板的蒸气出口装置的外表面表现出低排放，并且其中该装置还包括在所述内部的管加热装置 蒸气出口装置，其中至少材料储存装置，加热装置和排放减少装置的表面和布置成与材料蒸汽接触的管道加热装置是耐腐蚀材料。 另外，一种用于在基材上沉积材料的热蒸发装置，包括蒸气出口装置，其布置成在其内部容纳在材料储存装置中加热并具有蒸汽出口通道的材料的蒸汽，其中所述蒸汽出口装置基本上由腐蚀 并且气密到达可以实现所述材料蒸汽的足够动态压力以使所述材料均匀沉积在所述基底上的程度。 还可以使用该装置，以及通过热蒸发将材料沉积到衬底上的方法。

公开(公告)号：WO0109961A3

公开(公告)日：2002-09-19

申请号：PCT/DE0002523

申请日：2000-07-31

Applicant: SIEMENS AG ,  PROBST VOLKER

Inventor： PROBST VOLKER

IPC: H01L31/04 ,  H01L31/032 ,  H01L31/0336 ,  H01L31/18

CPC classification number: H01L31/032 ,  B32B38/0036 ,  B32B2310/0806 ,  H01L31/0749 ,  H01L31/18 ,  Y02E10/541

Abstract: The invention relates to a method of annealing a large-surface multi-layer body by adding an energy amount with an annealing rate of at least 1 DEG C/s. The aim of the invention is to prevent inhomogeneous temperatures from occurring during the annealing process. To this end, different partial amounts of the energy amount are supplied to the layers of the multi-layer body at different sites and times. The multi-layer body is annealed in a container that has a glass ceramics bottom and lid. The inventive method is used to produce thin-film solar modules.

Abstract translation: 公开了一种用于通过与至少1℃/ s的Temperierrate供给的能量的量回火大面积的多层体的方法。 用于回火的层叠体的层中的不均匀性的温度的抑制与能量的量的局部和时间分辨率不同的子集提供。 的多层体在具有底部和由玻璃陶瓷制成的盖的容器进行加热。 该方法应用于用于制造薄膜太阳能电池模块。

公开(公告)号：WO1997036334A1

公开(公告)日：1997-10-02

申请号：PCT/EP1997001451

申请日：1997-03-21

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  SIEMENS SOLAR GMBH ,  STETTER, Walter ,  PROBST, Volker ,  CALWER, Hermann

Inventor： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  SIEMENS SOLAR GMBH

IPC: H01L31/048

CPC classification number: H01L31/046 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/048 ,  Y02E10/50

Abstract: The invention concerns a laminated structure which is encapsulated such that it is stable with respect to climate and corrosion, the structure having at least one corrosion- and/or moisture-sensitive layer, for example a solar cell, over which a barrier layer is disposed. Thin layers of titanium or molybdenum nitride, aluminium oxide, silicon nitride and silicon oxide nitride are proposed for this purpose. The barrier layer can be combined with an additional laminated structure generally used in solar cells.

Abstract translation: 对于气候和腐蚀和/或湿气敏感的层，中的至少一种的层结构的腐蚀稳定性的封装，诸如太阳能电池，阻挡层被放置在该层之上。 对于钛或氮化钼，氧化铝的该薄膜，氮化硅和氮氧化硅提出。 阻挡层可以与附加的已知太阳能电池层压板结构相结合。

公开(公告)号：WO1995009441A1

公开(公告)日：1995-04-06

申请号：PCT/DE1994001125

申请日：1994-09-28

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  PROBST, Volker ,  KARG, Franz

Inventor： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT

IPC: H01L31/0336

CPC classification number: H01L31/0749 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/0322 ,  Y02E10/541

Abstract: A solar cell has a chalcopyrite absorber layer applied on the substrate by means of an adhesive layer made of chromium, titanium, tantalum or titanium nitride.

Abstract translation: 公开的是具有Chalkopyritabsorberschicht其是在衬底侧施加在其选自铬，钛，钽，和氮化钛中选择的粘合促进层的太阳能电池。

公开(公告)号：WO2009153059A1

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：PCT/EP2009/004459

申请日：2009-06-19

Applicant: PROBST, Volker

Inventor： PROBST, Volker

IPC: F27B7/00 ,  F27B5/04 ,  F27B5/14 ,  F27B5/16 ,  F27D7/04 ,  C23C16/455 ,  H01L31/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C14/5866 ,  C23C16/4411 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/67005 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67098 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/20 ,  Y02E10/541 ,  Y02P70/521

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Prozessvorrichtung zum Prozessieren von, insbesondere gestapelten, Prozessgütern, insbesondere in Form flächiger Substrate für die Herstellung von Dünnschichten, insbesondere leitenden, halbleitenden oder isolierenden Dünnschichten, enthaltend eine evakuierbare Prozesskammer zur Aufnahme eines Prozessgases, umfassend mindestens eine Temperiereinrichtung, insbesondere zumindest abschnittsweise in und/oder in thermischer Wirkverbindung mit mindestens einer Wand, insbesondere sämtlicher Wände der Prozesskammer, eingerichtet und geeignet, um zumindest einen Teilbereich der Wand, insbesondere im Wesentlichen die gesamte Prozesskammerwand, der Prozesskammer auf einer vorgegebenen Temperatur zu halten, insbesondere bei einer ersten Temperatur während zumindest eines Teils des Prozessierens der gestapelten Prozessgüter zu halten, die nicht unterhalb der Raumtemperatur als der zweiten Temperatur liegt und die unterhalb einer dritten, oberhalb der Raumtemperatur liegenden Temperatur liegt, welche in der Prozesskammer erzeugbar ist; mindestens eine Gasfordereinrichtung zum Erzeugen eines Gasströmungskreislaufes, insbesondere einer erzwungenen Konvektion, in der Prozesskammer; mindestens eine in dem von der Gasfordereinrichtung erzeugten Gasströmungskreislauf angeordneten oder anordbaren Heizeinrichtung zum Aufheizen des Gases; mindestens eine Gasleiteinrichtung, die zur Aufnahme des Prozessgutstapels ausgebildet und in der Prozesskammer derart angeordnet oder anordbar ist, dass mindestens ein Teil des erzeugten bzw. erzeugbaren Gasströmungskreislaufes durch die Gasleiteinrichtung hindurch verläuft; gegebenenfalls mindestens eine, insbesondere mit einer ersten gas- und/oder vakuumdichten Verschließeinrichtung, verschließbare Beladungsöffnung, durch die der Prozessgutstapel in die Gasleiteinrichtung einbringbar ist; und gegebenenfalls mindestens eine Gaseinlasseinrichtung zum Einleiten des Prozessgases in den Gasströmungskreislauf. Ferner betrifft die Erfindung eine Prozessanlage zum Prozessieren von gestapelten Prozessgütern, umfassend mindestens eine erfindungsgemäße Prozessvorrichtung, mindestens eine Abkühleinrichtung und/oder mindestens Einschleuseinrichtung. Schließlich betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Prozessieren von insbesondere gestapelten und/oder flächigen, Prozessgütern, insbesondere zur Herstellung von Dünnschichten, insbesondere leitenden, halbleitenden oder isolierenden Dünnschichten, unter Verwendung einer erfindungsgemäßen Prozessvorrichtung oder einer erfindungsgemäßen Prozessanlage, wobei mittels der Temperiereinrichtung zumindest ein Teilbereich der Wand der Prozesskammer, insbesondere während zumindest eines Teils des Prozessierens der gestapelten Prozessgüter, auf einer vorgegebenen Temperatur gehalten wird, insbesondere bei einer ersten Temperatur gehalten wird, die nicht unterhalb der Raumtemperatur als der zweiten Temperatur liegt und die unterhalb einer dritten, oberhalb der Raumtemperatur liegenden Temperatur liegt, welche in der Prozesskammer während des Prozessierens wenigstens phasenweise erzeugt wird.

Abstract translation: 本发明涉及用于处理的处理装置，特别是层叠，处理产品，特别是在用于生产薄的层的平面衬底的形式，特别是导电的，半导电，或至少部分的绝缘薄膜，其包括可抽真空的处理室，用于接收包括至少一个温度调节装置的工艺气体，尤其是 在和/或与至少一个壁热操作性通信，特别是在处理室的所有壁的，在第一温度下布置并适于基本上维持至少所述壁的一部分，尤其是所有工艺室壁，在预定温度下的处理室的，特别是 同时保持至少处理所述堆叠的货物过程不位于室内温度作为第二温度和第三，高于室温以下的下方的一部分 TUR温度是躺在，这是在处理室中产生; 至少一个Gasfordereinrichtung用于产生气体流动回路，在处理室尤其是强制对流; 至少一个布置在由Gasfordereinrichtung循环产生的或可以被布置加热气体流动装置，用于加热气体; 至少一个气体传导，其适于接收所述Prozessgutstapels和设置在所述处理腔室可以被布置在这样的方式或在气体流动回路的至少一部分产生的或可产生的经过气体传导装置通过其中的装置; 任选的至少一种，特别是与第一气体和/或真空密封的闭合装置，通过该Prozessgutstapel被引入到气体传导装置可关闭装载开口; 和任选的至少一个气体入口装置，用于将所述处理气体引入所述气体流动回路。 此外，本发明涉及一种用于处理过程堆叠产品的处理系统，其包括根据本发明，至少一个冷却装置和/或至少Einschleuseinrichtung至少一个工艺设备。 最后，本发明涉及用于处理的方法，特别是其中通过回火至少的一部分的手段堆叠和/或片材，处理产品，特别是用于生产薄的层，特别是导体，半导体或绝缘薄膜，使用本发明或根据本发明的一过程工厂中，执行装置 处理所述堆叠的过程产品的至少一部分期间处理室，特别是壁被保持在预定温度下，特别是在第一温度下被保持，这是不低于室温的第二温度和低于三分之一，高于室温 温度在处理室中相至少在加工过程中产生的。

公开(公告)号：WO0129902A3

公开(公告)日：2002-11-07

申请号：PCT/DE0003720

申请日：2000-10-20

Applicant: SIEMENS AG ,  PROBST VOLKER

Inventor： PROBST VOLKER

IPC: F27B5/04 ,  C21D1/34 ,  C21D1/74 ,  C21D9/00 ,  F27B5/14 ,  F27B5/16 ,  H01L21/324 ,  H01L31/18 ,  H01L21/477

CPC classification number: H01L21/324 ,  C21D1/34 ,  C21D1/74 ,  C21D9/00 ,  H01L31/1864 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

Abstract: The invention relates to a device for simultaneously tempering and processing several process goods by means of electromagnetic radiation. The device is a batch-type furnace. The process goods and the energy sources are arranged adjacent to each other in such a way that a process good is situated between two energy sources and an energy source is situated between two process goods. The device is especially useful for tempering the process goods in the presence of a process gas. A variable heating and cooling profile having variable processing parameters (e.g. gas pressure, heating rate, cooling rate) can be obtained using the inventive device. It is especially possible to securely temper a process good in the form of a large-surface multilayer body comprising layers of different physical characteristics (thermal conductivity coefficient, temperature expansion coefficient, absorption and emission capacity, etc.). According to the inventive method and device, a toxic and/or corrosive process gas can be used for processing the process good. The device and the method are useful for producing thin film solar modules for instance.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于同时回火和处理多个Prozessiergüter用电磁辐射的帮助的装置。 该装置是一个间歇式炉中，Prozessiergüter和功率源被布置成彼此成使得提供两个功率源和两个Prozessiergütern一个电源之间的Prozessiergut之间。 该装置特别适合于在处理气体的存在下回火Prozessiergüter。 与该装置的可变的加热和冷却曲线与可变Prozessierparametern（例如，气体压力，加热速度，冷却速度）是可能的。 特别地，在安全的大面积的多层体的形式回火Prozessierguts可以具有不同的物理性质（热传导系数，热膨胀系数，吸收和发射率等）的层。 随着设备和方法，它能够采用毒性和/或腐蚀性处理气体用于处理Prozessierguts。 合适的是该装置或方法，例如，用于生产薄膜太阳能电池组件。

公开(公告)号：WO2018041957A1

公开(公告)日：2018-03-08

申请号：PCT/EP2017/071884

申请日：2017-08-31

Applicant: PROBST, Volker

Inventor： PROBST, Volker

IPC: G09F9/33 ,  G09F27/00 ,  G09F13/22 ,  G09F19/22 ,  G09F13/04

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Display-Einheit (1), umfassend eine transparente oder transluzente Schicht mit einer Displayseite (6) und einer rückwärtigen Seite, enthaltend eine auf der Displayseite vorliegende Schicht (2), enthaltend eine Vielzahl an Blendenöffnungen (4), eine Vielzahl an Leuchtkörpern (10), die an oder beabstandet von der rückwärtigen Seite der transparenten oder transluzenten Schicht zumindest teilweise eingebettet in die Schicht vorliegen, wobei mindestens ein Leuchtkörper jeweils im Wesentlichen hinter einer der Blendenöffnungen vorliegt, jeweils eingerichtet und ausgelegt, um Licht auszustrahlen in Richtung dieser Blendenöffnung und durch diese Blendenöffnung, eine transparente oder transluzente Laminierlage anliegend an die opake oder semitransparente Schicht und die Vielzahl an Blendenöffnungen überdeckend und eine transparente oder transluzente Schutzschicht anliegend an diese Laminierlage. Ferner betrifft die Erfindung eine Display-Vorrichtung mit einer Vorder- und einer Rückseite, enthaltend mindestens eine erfindungsgemäße Display-Einheit, sowie ein Verkehrsleitsystem, umfassend eine erfindungsgemäße Display-Einheit. Die Erfindung stellt auch ab auf die Verwendung der erfindungsgemäßen Display-Einheit als Media-Energie-Fassade oder als Tageslicht-Display.

Abstract translation:

本发明涉及一种显示装置（1），其包括具有显示侧（6）的透明或半透明层和A R导航用途CHC＆AUML;含有存在于所述显示层的侧rtigen页面（2） 含有多个孔＆oUML的;开口（4），多个Leuchtk＆oUML的; rpern（10）间隔开，以或从R导航用途CHC＆AUML;透明或半透明的层至少部分地嵌入所述层的rtigen侧都存在，其中至少一个 Leuchtk＆oUML;体均基本上后面膜片＆oUML之一;本开口，每个布置为和适合于该孔与oUML的方向上发射光;开口和通过该孔与oUML;开口，相邻的透明或半透明的层压层的不透明或半透明的层，并且所述多个 重叠的边框开口以及与该层压层相邻的透明或半透明保护层 ， 此外，本发明涉及具有前部和A R导航使用的下侧的显示装置，包含至少一种本发明AUML;道路显示单元和包含本发明＆AUML一种交通控制系统;道路显示单元。 本发明还基于根据本发明的显示单元作为媒体能量门面或作为日光显示器的使用。

公开(公告)号：WO2009050146A2

公开(公告)日：2009-04-23

申请号：PCT/EP2008/063746

申请日：2008-10-13

Applicant: AVANCIS GmbH & Co. KG ,  PROBST, Volker ,  KUSTER, Hans-Werner ,  MAURER, Marc ,  CALWER, Hermann

Inventor： PROBST, Volker ,  KUSTER, Hans-Werner ,  MAURER, Marc ,  CALWER, Hermann

IPC: H01L31/048 ,  H01L31/18 ,  H01L31/02 ,  H01L31/042

CPC classification number: H01L31/048 ,  Y02E10/50

Abstract: Procédé d'étanchéification d'un élément capable de collecter de la lumière, ledit élément comportant un premier substrat à fonction verrière (1) et un second substrat (1'), lesdits substrats emprisonnant à l'aide d'un intercalaire de feuilletage (8) un empilement (7) actif de couches comprenant des couches conductrices formant électrodes et au moins une couche fonctionnelle à base d'un matériau absorbeur permettant une conversion énergétique de la lumière en énergie électrique, ledit empilement étant déposé sur au moins une portion de surface de l'un au moins des substrats (1,1') de manière à délimiter en périphérie et après feuilletage une gorge (9) adaptée pour recevoir au moins un moyen d'étanchéification (10,11) dudit module, se caractérise en ce qu'on dépose le moyen d'étanchéification (10,11) avant la phase d'autoclave.

Abstract translation:

处理程序; 用于密封光收集元件，所述元件具有第一基板; 光学功能（1）和第二衬底（1'），所述衬底捕获和加工; 使用层压中间层（8）形成包括电极形成导电层和至少一个功能层的层的有源叠层（7） 基于允许光能量转换成电能的吸收器材料，所述堆叠被去构造; 在至少一个基板（1,1'）的至少一部分表面上 可以在层压之后将适于接收至少一个用于密封的装置（10,11）的凹槽（9）限制在所述层压体中， 隔离装置（10,11）在高压灭菌器阶段之前断开连接。

公开(公告)号：WO2007122203A3

公开(公告)日：2008-04-03

申请号：PCT/EP2007053912

申请日：2007-04-20

Applicant: SHELL ERNEUERBARE EN GMBH ,  PROBST VOLKER ,  STETTER WALTER

Inventor： PROBST VOLKER ,  STETTER WALTER

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  C23C14/28

Abstract: Thermal evaporation apparatus for depositing of a material on a substrate, comprising material storage means; heating means to generate a vapour of the material in the material storage means; vapour outlet means comprising a vapour receiving pipe having vapour outlet passages, and emission reducing means arranged such that an external surface of the vapour outlet means directed to said substrate exhibits low emission, and wherein the apparatus further comprises pipe heating means in the interior of said vapour outlet means, wherein at least the surfaces of the material storage means, heating means, and emission reducing means and pipe heating means arranged to come into contact with the material vapour are of a corrosion-resistant material. Further a thermal evaporation apparatus for depositing a material on a substrate comprising a vapour outlet means arranged to receive in its interior the vapour of the material heated in a material storage means and having vapour outlet passages, wherein said vapour outlet means basically consist of a corrosion-resistant material and are gastight to such an extent that sufficient dynamic pressure of said material vapour is achievable for homogenous deposition of said material on said substrate. Also the use of the apparatus, and a method of depositing a material onto a substrate by thermal evaporation.

Abstract translation: 用于在基板上沉积材料的热蒸发装置，包括材料储存装置; 在所述材料存储装置中产生所述材料的蒸气的加热装置; 蒸气出口装置包括具有蒸汽出口通道的蒸气接收管，以及排放减少装置，其布置成使得引导到所述基板的蒸气出口装置的外表面表现出低排放，并且其中该装置还包括在所述内部的管加热装置 蒸气出口装置，其中至少材料储存装置，加热装置和排放减少装置的表面和布置成与材料蒸汽接触的管道加热装置是耐腐蚀材料。 另外，一种用于在基材上沉积材料的热蒸发装置，包括蒸气出口装置，其布置成在其内部容纳在材料储存装置中加热并具有蒸汽出口通道的材料的蒸汽，其中所述蒸汽出口装置基本上由腐蚀 并且气密到达可以实现所述材料蒸汽的足够动态压力以使所述材料均匀沉积在所述基底上的程度。 还可以使用该装置，以及通过热蒸发将材料沉积到衬底上的方法。

公开(公告)号：WO2007071703A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：PCT/EP2006/069965

申请日：2006-12-20

Applicant: SHELL ERNEUERBARE ENERGIEN GMBH ,  CALWER, Hermann ,  PROBST, Volker ,  WIETING, Robert D

Inventor： CALWER, Hermann ,  PROBST, Volker ,  WIETING, Robert D

IPC: H01L31/048

CPC classification number: B32B17/10036 ,  B32B17/10302 ,  H01L31/046 ,  H01L31/048 ,  H01L31/0749 ,  Y02E10/541

Abstract: A photovoltaic device comprising a photovoltaic layer between a substrate and a cover plate, which cover plate is transparent in an area above the photovoltaic layer, wherein the cover plate overlaps the photovoltaic layer, and wherein the cover, in an area adjacent to the photovoltaic layer, is opaque; a method of encapsulating a photovoltaic device with such a cover plate, and the use of such a cover plate for encapsulating a photovoltaic device, for protecting polymeric sealant material present adjacent the photovoltaic layer from light induced degradation and/or for protecting the encapsulated photovoltaic device from thermal stress during due to light irradiation.

Abstract translation: 一种光伏器件，包括在基板和盖板之间的光伏层，所述盖板在所述光伏层上方的区域是透明的，其中所述盖板与所述光伏层重叠，并且其中所述盖在与所述光伏层相邻的区域中 ，是不透明的 封装具有这种盖板的光伏器件的方法，以及使用这种用于封装光伏器件的盖板，用于保护邻近光伏层的聚合物密封剂材料免受光诱导的降解和/或用于保护封装的光伏器件 由于光照射引起的热应力。