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    含フッ素重合性単量体及びそれを用いた高分子化合物
    1.
    发明申请
    含フッ素重合性単量体及びそれを用いた高分子化合物 审中-公开
    含氟聚合性单体和使用该聚合物的聚合物化合物

    公开(公告)号：WO2006043501A1

    公开(公告)日：2006-04-27

    申请号：PCT/JP2005/019024

    申请日：2005-10-17

    Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  三枝 浩 ,  成塚 智 ,  前田 一彦

    Inventor： 三枝 浩 ,  成塚 智 ,  前田 一彦

    IPC: C07C215/68 ,  C08G69/26 ,  C08G73/06

    CPC classification number: C07C215/68 ,  C08G69/26 ,  C08G73/06 ,  C08G73/1039

    Abstract: 　本発明は、式［１］ で表される含フッ素重合性単量体（式［１］中、ａは、１～４の整数を表す。）に関する。この単量体は、分子内に複数の重合性アミンを有し、かつ同時にヘキサフルオロイソプロピル基を有することで、撥水性、撥油性、低吸水性、耐熱性、耐候性、耐腐食性、透明性、感光性、低屈折率性、低誘電性などを発現できる有効な重合性単量体として使用することができ、先端高分子材料分野に供することが可能である。

    Abstract translation: 公开了下述式[1]表示的含氟聚合性单体。 （式[1]中，a表示1-4的整数。）通过在含有六氟异丙基的情况下在分子中具有多个聚合性胺，该含氟聚合性单体可以用作显示水的有效的聚合性单体 拒水性，拒油性，低吸水性，耐热性，耐候性，耐腐蚀性，透明性，光敏性，低折射率，低介电性等，因此可以应用于先进的聚合物材料领域。

    含フッ素重合性単量体及びそれを用いた高分子化合物
    2.
    发明申请
    含フッ素重合性単量体及びそれを用いた高分子化合物 审中-公开
    含氟聚合性单体和使用该聚合物的聚合物化合物

    公开(公告)号：WO2006041115A1

    公开(公告)日：2006-04-20

    申请号：PCT/JP2005/018839

    申请日：2005-10-13

    Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  三枝 浩 ,  成塚 智 ,  前田 一彦

    Inventor： 三枝 浩 ,  成塚 智 ,  前田 一彦

    IPC: C08G73/06 ,  C07C217/90

    CPC classification number: C07C217/90 ,  C08G73/1039

    Abstract: 本発明は、式［１］で表される含フッ素重合性単量体（式中、Ａは、単結合、酸素原子、硫黄原子、ＣＯ、ＣＨ 2 、ＳＯ、ＳＯ 2、 Ｃ（ＣＨ 3 ） 2 、ＮＨＣＯ、Ｃ（ＣＦ 3 ） 2 、フェニル、脂環を表し、ａとｂはそれぞれ独立に０～２の整数を表し、１≦ａ＋ｂ≦４である。）に関する。この含フッ素重合性単量体は、撥水性、撥油性、低吸水性、耐熱性、耐候性、耐腐食性、透明性、感光性、低屈折率性、低誘電性などを発現できる有効な重合性単量体として使用することができ、先端高分子材料分野に供することが可能である。

    Abstract translation: 公开了下述式[1]表示的含氟聚合性单体。 （式中，A表示单键，氧原子，硫原子，CO，CH 2，SO，SO 2，C（CH 3） 2，NCO 2，C（CF 3）2，苯基或脂环族环; a和b独立地表示 0-2的整数; 1 = a + b = 4）。这样的含氟聚合性单体可以用作具有防水性，拒油性，低吸水性，耐热性，耐候性，耐腐蚀性的有效的聚合性单体 ，透明度，光敏性，低折射率，低介电性等。 因此，含氟聚合性单体可以应用于高分子材料领域。

    新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
    3.
    发明申请
    新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 审中-公开
    新型磺酸盐及其衍生物，光致发生剂，耐光材料和图案形成方法，使用光致发生剂

    公开(公告)号：WO2009057769A1

    公开(公告)日：2009-05-07

    申请号：PCT/JP2008/069928

    申请日：2008-10-31

    Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  前田 一彦 ,  磯野 芳美 ,  成塚 智

    Inventor： 前田 一彦 ,  磯野 芳美 ,  成塚 智

    IPC: C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D207/46 ,  C08L27/12 ,  C08L45/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  C08L33/04

    CPC classification number: C07C309/59 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D207/46 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    Abstract: 　下記一般式（Ａ）で示される構造を有する含フッ素スルホン酸塩もしくは、含フッ素スルホン酸基含有化合物が開示されている。 【化１０１】 式中、ｎは１～１０の整数を示す。Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１～２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数１～２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数６～１５のアリール基又は炭素数４～１５のヘテロアリール基を示す。ａは１又は０である。前記含フッ素スルホン酸塩もしくは含フッ素スルホン酸基含有化合物を含む光酸発生剤はＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、人体蓄積性にも問題がなく、しかも発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する。

    Abstract translation: 公开了具有由通式（A）表示的结构的氟化磺酸盐或具有氟化磺酸盐基团的化合物。 （A）其中n表示1〜10的整数， R表示取代或未取代的具有1至20个碳原子的直链，支链或环状烷基，取代或未取代的具有1至20个碳原子的直链，支链或环状烯基，取代或未取代的碳原子数6〜15的芳基 ，或碳原子数为4〜15的杂芳基。 a表示1或0的数字。包含氟化磺酸盐或具有氟化磺酸盐基团的化合物的光酸产生剂对ArF准分子激光束等高度敏感，不考虑在 人体可以产生具有足够高酸度的酸（光酸），在抗蚀剂溶剂中具有高溶解度，并且与树脂高度相容。

    フッ素系環状化合物、フッ素系重合性単量体、フッ素系高分子化合物、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
    9.
    发明申请
    フッ素系環状化合物、フッ素系重合性単量体、フッ素系高分子化合物、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 审中-公开
    包含氟聚合物的环状氟化合物，可聚合的荧光体，荧光体和耐光材料以及用于图案形成的方法

    公开(公告)号：WO2005005404A1

    公开(公告)日：2005-01-20

    申请号：PCT/JP2004/009680

    申请日：2004-07-01

    Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  角田 真一 ,  小森谷 治彦 ,  前田 一彦

    Inventor： 角田 真一 ,  小森谷 治彦 ,  前田 一彦

    IPC: C07D305/14

    CPC classification number: C08F16/26 ,  C07D305/14 ,  C08F12/32 ,  C08F20/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    Abstract: The invention provides cyclic fluorine compounds represented by the general formula (1): (1) (wherein R is halogeno; and R and R are each hydrogen or a hydrocarbon group which is a straight-chain, branched, or cyclic C1-25 hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group and may contain halogen, oxygen, nitrogen, or sulfur). The invention also discloses polymerizable fluoro- monomers derived from the above compounds; fluoropolymers obtained by polymerization or copolymerization of the above compounds or fluoromonomers; resist materials containing the fluoropolymers; and a method for pattern formation by using the fluoropolymers. The invention can provide polymers suitable for resist materials (particularly, vacuum-ultraviolet resist materials) which exhibit high transparency in a wide wavelength region of from ultraviolet region to near infrared region, high tight adhesion to substrates, excellent film-forming properties, high etching resistance, and high glass transition temperatures. Further, the method for pattern formation by using the fluoropolymers is suitable for the formation of high-resolution patterns.

    Abstract translation: 本发明提供由通式（1）表示的环状氟化合物：（1）（其中R 1为卤素; R 2和R 3各自为氢或直链的烃基 ，支链或环状C 1-5烃基或芳族烃基，并且可以含有卤素，氧，氮或硫）。 本发明还公开了衍生自上述化合物的聚合性氟单体; 通过上述化合物或含氟单体的聚合或共聚获得的含氟聚合物; 含有含氟聚合物的抗蚀材料; 以及通过使用含氟聚合物形成图案的方法。 本发明可以提供适用于在紫外线区域到近红外区域的宽波长范围内具有高透明度的抗蚀剂材料（特别是真空紫外线抗蚀剂材料）的聚合物，对基片的高紧密粘合性，优异的成膜性，高蚀刻性 电阻和高玻璃化转变温度。 此外，通过使用含氟聚合物的图案形成方法适用于形成高分辨率图案。

    低分子又は中分子有機化合物からなるコーティング材料
    10.
    发明申请
    低分子又は中分子有機化合物からなるコーティング材料 审中-公开
    包含低分子或中等有机化合物的涂料

    公开(公告)号：WO2007037101A1

    公开(公告)日：2007-04-05

    申请号：PCT/JP2006/317552

    申请日：2006-09-05

    Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  宮澤 覚 ,  小林 悟 ,  前田 一彦

    Inventor： 宮澤 覚 ,  小林 悟 ,  前田 一彦

    IPC: C09D4/00 ,  C09D167/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

    CPC classification number: C09D4/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/109

    Abstract: A coating material consisting of a low- or medium-molecular organic compound represented by the general formula (1): [Chemical formula 27] (1) [wherein R 1 is a single bond, methylene, ethylene, or oxygen; and R 2 is hydrogen; a hydrocarbon group which may be substituted with hydroxy, carboxy, amino, amido, imido, glycidyl, cyano, a fluorocarbinol group, sulfo, or sulfonylamido; fluorine -containing alkyl; a cyclic group having an aromatic or aliphatic group; or a composite thereof, which may contain fluorine, oxygen, nitrogen, silicon, or sulfur, or R 2 's which are the same or different may be connected by an ester linkage, an amide linkage, an ether linkage, a thio-ether linkage, a thio-ester linkage, or a urethane linkage]. The compound can be derived from a diol compound and bicycle- [2.2.2]octane-2,3:5,6-tetracarboxylic anhydride.

    Abstract translation: 由通式（1）表示的低分子或中分子有机化合物：[化学式27]（1）[其中R 1'是单键，亚甲基，亚乙基 ，或氧气; 和R 2是氢; 可以被羟基，羧基，氨基，酰胺基，亚氨基，缩水甘油基，氰基，氟代甲醇基，磺基或磺酰胺基取代的烃基; 含氟烷基; 具有芳族或脂族基团的环状基团; 或其复合物，它们可以含有氟，氧，氮，硅或硫，或相同或不同的R 2可以通过酯键，酰胺键， 醚键，硫醚键，硫酯键或氨基甲酸酯键]。 该化合物可以衍生自二醇化合物和自行车 - [2.2.2]辛烷-2,3：5,6-四羧酸酐。

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