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公开(公告)号：WO2006051877A1
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：PCT/JP2005/020645
申请日：2005-11-10
IPC: B05D7/24
CPC classification number: H01L21/316 , C23C18/1216 , C23C18/1225 , C23C18/127 , C23C18/1279 , C23C18/1291 , C23C18/14 , C23C18/1651 , C23C18/1662 , C23C18/1667 , C23C18/1678 , C23C18/1682 , C23C18/31 , C23C22/74 , C23C22/83 , H01L21/02186 , H01L21/02189 , H01L21/02282 , H01M8/1246 , Y02E60/525 , Y02P70/56
Abstract: 本発明は、金属酸化物膜形成用溶液を用いる安価なＷｅｔコートであって、複雑な構造部を有する基材や多孔質材料の基材等に対しても均一かつ緻密で充分な膜厚を有する金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。 本発明は、金属源として金属塩または金属錯体と、酸化剤および還元剤の少なくとも一方とが溶解した第一金属酸化物膜形成用溶液と、基材とを接触させることにより上記基材上に第一金属酸化物膜を形成する第一金属酸化物膜形成工程と、上記第一金属酸化物膜を備えた基材を金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱し、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した第二金属酸化物膜形成用溶液と接触させることにより第二金属酸化物膜を得る第二金属酸化物膜形成工程とを有する金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。
Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种形成金属氧化物膜的方法，即使在具有复杂结构的衬底或多孔衬底上也可以通过廉价的用金属氧化物膜形成溶液进行湿式涂覆，可以形成具有令人满意厚度的均匀且致密的金属氧化物膜。 目的可以通过形成金属氧化物膜的方法来实现，该方法包括使第一金属氧化物膜形成步骤使基板与由金属盐或金属络合物组成的金属源的第一金属氧化物形成溶液接触 并且溶解氧化剂和还原剂中的至少一种以在基板上形成第一金属氧化物膜，并且第二金属氧化物膜形成步骤将具有第一金属氧化物膜的基板加热至金属氧化物膜形成温度或 使所得到的基板与溶解金属盐或金属络合物的金属源的第二金属氧化物成膜溶液接触，形成第二金属氧化物膜。
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公开(公告)号：WO2006051876A1
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：PCT/JP2005/020644
申请日：2005-11-10
CPC classification number: C04B35/632 , C03C17/25 , C03C17/3411 , C03C2217/948 , C03C2218/11 , C04B35/46 , C04B35/486 , C04B35/50 , C04B2235/3227 , C04B2235/3229 , C04B2235/3286 , C04B2235/444 , C04B2235/445 , C04B2235/449 , C23C18/14 , C23C18/16 , C23C18/166 , C23C18/1667 , C23C18/1676 , C23C18/1682 , C23C18/31
Abstract: 基材表面を触媒化処理することなく、基材表面上に直接金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜の製造方法であって、基材が構造部を有する場合においても、簡便なプロセスで均一な金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。 本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が還元剤を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。
Abstract translation: 公开了直接在基材表面上生产金属氧化物膜而不催化基材表面的方法。 该方法即使在基部具有结构化部分的情况下也能够通过简单的工艺制造均匀的金属氧化物膜。 具体公开了一种金属氧化物膜的制造方法，其中金属氧化物膜是通过使金属盐或金属络合物作为金属源而溶解的金属氧化物成膜溶液与金属氧化物膜的表面 一个基地 该金属氧化物膜的制造方法的特征在于，金属氧化物成膜溶液含有还原剂。
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