公开(公告)号：WO2014104528A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：PCT/KR2013/007377

申请日：2013-08-16

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 윤희찬 ,  곽택수 ,  김미영 ,  임상학 ,  한권우 ,  김고은 ,  김봉환 ,  김상균 ,  나융희 ,  박은수 ,  배진희 ,  송현지 ,  이한송 ,  홍승희

IPC: H01B3/46 ,  C08L83/08

CPC classification number: C09D1/00 ,  B05D3/02 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0433 ,  C08G77/62 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  H01B3/02 ,  H01B3/303 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02214 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02219 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02326 ,  H01L21/02337

Abstract: 수소화폴리실라잔 또는 수소화폴리실록사잔을 포함하며, 중량 평균 분자량 400 이하의 환형 화합물의 농도가 1200ppm 이하인 실리카계 절연층　형성용 조성물을 제공한다.　상기 실리카계 절연층　형성용 조성물은 실리카계 절연층 형성　시 두께 산포를 감소시킬 수 있으며, 이로써 반도체 제조 공정시 화학적 연마(CMP) 공정 후 막 결함을 줄일 수 있다.

Abstract translation: 提供一种用于形成包含氢化聚硅氮烷或氢化聚硅氧氮烷的二氧化硅基绝缘层的组合物，其浓度为1200ppm以下的重均分子量为400以下的环状化合物。 用于形成二氧化硅基绝缘层的组合物可以在形成二氧化硅基绝缘层期间减小厚度分布，从而在半导体制造过程中化学机械抛光（CMP）工艺之后降低层中的缺陷。

公开(公告)号：WO2014171766A1

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：PCT/KR2014/003367

申请日：2014-04-17

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 최정민 ,  노조하루키 ,  박용순 ,  유용식 ,  강동헌 ,  김고은 ,  김태완

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/31058 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K3/1472

Abstract: 본 발명은 극성 용매, 비극성 용매 중 하나 이상; 및 금속산화물 연마제를 포함하고, 산성이고, 탄소 함량이 약 50 내지 95atom%인 유기막을 연마하기 위한 유기막 CMP 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마 방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于研磨包括极性溶剂或非极性溶剂和金属氧化物磨料中的至少一种的有机膜的有机膜CMP浆料组合物，其为酸性，并且碳含量为约50〜 95atm％，以及使用其的抛光方法。

公开(公告)号：WO2014104510A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：PCT/KR2013/006291

申请日：2013-07-15

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 송현지 ,  박은수 ,  임상학 ,  곽택수 ,  김고은 ,  김미영 ,  김보선 ,  김봉환 ,  나융희 ,  배진희 ,  서진우 ,  윤희찬 ,  이한송 ,  전종대 ,  한권우 ,  홍승희 ,  황병규

IPC: C08G77/38 ,  C08G77/26 ,  C08L83/08 ,  H01B3/46

CPC classification number: C08G77/54 ,  C08G77/60 ,  C08G77/62 ,  C09D183/02 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  H01B3/02 ,  H01B3/303 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/0229 ,  H01L21/02326

Abstract: 수소화 폴리실록사잔에 폴리실란, 폴리사이클로실란 및 실란 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 실란 화합물을 반응시켜 제조되는 개질 수소화 폴리실록사잔을 제공한다. 상기 개질 수소화 폴리실록사잔은, 실리콘 원자에 대한 질소 원자의 몰비가 작기 때문에 실리카계 절연층 형성용 조성물에 적용되어 실리카계 절연층 형성시 막 수축률을 현저히 감소시킬 수 있다.

Abstract translation: 提供了通过氢化聚硅氧氮烷与选自聚硅烷，聚环硅烷和硅烷低聚物的硅烷化合物反应制备的改性氢化聚硅氧氮烷。 改性氢化聚硅氧氮烷的配置使得氮原子与硅原子的摩尔比小，因此，可以将改性氢化聚硅氧氮烷用于形成二氧化硅系绝缘层的组合物，以显着降低膜收缩率 形成二氧化硅基绝缘层。