MESSINGLEGIERUNG
    3.
    发明申请
    MESSINGLEGIERUNG 审中-公开
    黄铜合金

    公开(公告)号:WO2011020468A1

    公开(公告)日:2011-02-24

    申请号:PCT/DE2010/000976

    申请日:2010-08-17

    IPC分类号: C22C29/04

    CPC分类号: C22F1/08

    摘要: Die Messinglegierung besteht im wesentlichen aus Kupfer und Zink. Die Legierung weist mindestens eine zusätzliche Legierungskomponente auf. Ein Gehalt an Blei beträgt höchstens 0,1 Gewichtsprozent. Der Anteil an Zink beträgt 40,5 bis 46 Gewichtsprozent. Die Legierung weist ein Mischkristall mit Anteilen sowohl eines alpha-Gefüges als auch eines beta-Gefüges auf. Der Gewichtsanteil des beta-Gefüges beträgt mindestens 30% und höchstens 70%.

    摘要翻译: 黄铜合金基本上由铜和锌。 该合金具有至少一个附加的合金成分。 的铅含量不超过0.1重量%。 锌的比例为40.5〜46重量%。 该合金具有与两个的α-结构的比例以及一种β-结构的混晶。 重量的β结构的比例为至少30%和至多70%。

    KUPFER-KERAMIK-SUBSTRAT, KUPFERHALBZEUG ZUR HERSTELLUNG EINES KUPFER-KERAMIK-SUBSTRATS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES KUPFER-KERAMIK-SUBSTRATS
    4.
    发明申请
    KUPFER-KERAMIK-SUBSTRAT, KUPFERHALBZEUG ZUR HERSTELLUNG EINES KUPFER-KERAMIK-SUBSTRATS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES KUPFER-KERAMIK-SUBSTRATS 审中-公开
    铜基陶瓷基板,用于制造铜基板的铜制设备及制造铜基板的方法

    公开(公告)号:WO2017097758A1

    公开(公告)日:2017-06-15

    申请号:PCT/EP2016/079879

    申请日:2016-12-06

    摘要: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Kupfer-Keramik-Substrat (1) mit -einem Keramikträger (2), und -einer mit einer Oberfläche des Keramikträgers (2) verbundenen Kupferschicht (3,4), wobei -die Kupferschicht (3,4) mindestens eine erste, dem Keramikträger zugewandte Schicht (5,6) mit einer gemittelten ersten Korngröße und eine an der von dem Keramikträger (2) abgewandten Seite der Kupferschicht (3,4) angeordnete zweite Schicht (7,8) mit einer gemittelten zweiten Korngröße aufweist, wobei -die zweite Korngröße kleiner als die erste Korngröße ist. die erste Schicht (5,6) im Mittel eine Korngröße von größer als 100 μ m, bevorzugt ca. 250 bis 1000 μ m, und -die zweite Schicht (7,8) im Mittel eine Korngröße von kleiner als 100 pm, bevorzugt ca. 50 µm, aufweist, oder -die erste Schicht (5,6) im Mittel eine Korngröße von größer als 150 pm, bevorzugt ca. 250 bis 2000 µm, und -die zweite Schicht (7,8) im Mittel eine Korngröße von kleiner als 150 μ m, bevorzugt ca. 50 pm, aufweist. Vozugsweise werden Cu-ETP und Cu-OF oder Cu-OFE verwendet.

    摘要翻译:

    本发明涉及一种铜 - 陶瓷基片(1) - 这种KeramiktrÄ GER(2),以及 - 这具有Keramiktr BEAR连接热尔(2)铜层的表面BEAR枝(3 路,一个在背离所述Keramiktr BEAR(GER 2)的;,4),其特征在于,-the铜具有平均第一粒子及oUML层(3.4)的至少一个第一,Keramiktr&AUML亨特面层(5,6) 铜层(3,4)的侧面布置具有平均的第二晶粒尺寸的第二层(7,8),其中 - 第二晶粒尺寸小于第一晶粒尺寸e。 第一层(5,6)平均具有大于100μm,优选约250-1000μm的晶粒尺寸,并且第二层(7,8)的平均晶粒尺寸 小于100μm,优选约50μm,或者第一层(5,6)的平均粒度大于150μm,优选约为 250至2000μm,第二层(7,8)的平均粒度小于150μm,优选约50μm。 优选使用Cu-ETP和Cu-OF或Cu-OFE。

    KUPFER-KERAMIK-SUBSTRAT
    5.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2019179600A1

    公开(公告)日:2019-09-26

    申请号:PCT/EP2018/056957

    申请日:2018-03-20

    IPC分类号: C04B37/02 H01L23/373

    摘要: Kupfer-Keramik-Substrat (1) mit -einem Keramikträger (2), und -mindestens einer mit einer Oberfläche des Keramikträgers (2) verbundenen Kupferschicht (3,4), welche -eine freie Oberfläche zur Ausbildung einer Leiterstruktur und/oder zur Befestigung von Bonddrähten aufweist, wobei -die Kupferschicht (3,4) ein Gefüge mit einem gemittelten Korngrößendurchmesser von 200 bis 500 μm, bevorzugt von 300 bis 400 μm, aufweist.

    DRAHTELEKTRODE ZUM FUNKENEROSIVEN SCHNEIDEN VON GEGENSTÄNDEN
    6.
    发明申请
    DRAHTELEKTRODE ZUM FUNKENEROSIVEN SCHNEIDEN VON GEGENSTÄNDEN 审中-公开
    电极丝电火花机床的切割对象物

    公开(公告)号:WO2014032635A1

    公开(公告)日:2014-03-06

    申请号:PCT/DE2012/000880

    申请日:2012-08-28

    IPC分类号: B23H7/08

    CPC分类号: B23H7/08

    摘要: Um eine Drahtelektrode bereitzustellen, die kostengünstig herstellbar ist und gleichzeitig hervorragende Schneideigenschaften aufweist, wird vorgeschlagen, dass diese α-Bereiche (2) und β-Bereiche (3) aufweist, wobei die α-Bereiche (2) und die β-Bereiche (3) zueinander unterschiedliche Gefügephasen und Härtegrade aufweisen und über den gesamten Querschnitt der Drahtelektrode (1) verteilt angeordnet sind.

    摘要翻译: 为了提供一个线电极,其是廉价地制造,并在同一时间具有优良的切削性,所以建议这些阿尔法区域(2)和β-区域(3),其特征在于,所述α-区域(2)和所述β-区域(3 )具有相互不同的结构相和度硬度,并且具有线电极(1)的整个横截面分配。