SUPER HARD COMPONENTS AND POWDER METALLURGY METHODS OF MAKING THE SAME
    2.
    发明申请
    SUPER HARD COMPONENTS AND POWDER METALLURGY METHODS OF MAKING THE SAME 审中-公开
    超硬组分和粉末冶金方法

    公开(公告)号:WO2016107924A1

    公开(公告)日:2016-07-07

    申请号:PCT/EP2015/081462

    申请日:2015-12-30

    Inventor: WANG, Dong

    Abstract: A method of forming a super hard polycrystalline construction comprises forming a liquid suspension of graphene and grains of super hard material, dispersing the graphene and super hard grains in the liquid suspension to form a substantially homogeneous suspension which is dried and from which a pre-sinter assembly is formed and then treated to create a sintered body of polycrystalline super hard material comprising a first fraction of super hard grains and a second fraction of diamond grains,the graphene being at least partially converted to diamond during the sintering stage to form the second fraction. The super hard grains in the first fraction are bonded along at least a portion of the peripheral surface to at least a portion of a plurality of diamond grains in the second fraction, and have a greater average grain size than that of the grains in the second fraction which isbetween 60nm to 1 micron.

    Abstract translation: 形成超硬多晶结构的方法包括形成石墨烯的液体悬浮液和超硬材料颗粒,将石墨烯和超硬晶粒分散在液体悬浮液中以形成基本上均匀的悬浮液,其被干燥并从其中预烧结 组装形成然后处理以产生包含超硬晶粒的第一部分和金刚石晶粒的第二部分的多晶超硬材料的烧结体,所述石墨烯在烧结阶段期间至少部分地转化为金刚石以形成第二部分 。 第一级分中的超硬晶粒沿着外周表面的至少一部分粘结到第二级分中的多个金刚石晶粒的至少一部分,并且具有比第二级分中的晶粒更大的平均晶粒尺寸 在60nm至1微米之间的分数。

    スパッタリング用ターゲット材とその製造方法
    4.
    发明申请
    スパッタリング用ターゲット材とその製造方法 审中-公开
    用于喷射的目标材料及其制造方法

    公开(公告)号:WO2016002633A1

    公开(公告)日:2016-01-07

    申请号:PCT/JP2015/068383

    申请日:2015-06-25

    Abstract: 【課題】アーキングやノジュールの発生がきわめて少ない、スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】酸化物焼結体からなる材料を加工して、平板状または円筒形ターゲット材(3、13)を得る。この際、前記材料のうちのスパッタリング面(5、15)となる面に対して、所定の番手の砥石を用い、該砥石の番手に応じて、1回以上の粗研削を施し、その後、1回以上のゼロ研削を施して、スパッタリング面(5、15)の表面粗さを、算術平均粗さRaで0.9μm以上、最大高さRzで10.0μm以下、かつ、Rz JIS で7.0μm以下とする。得られたターゲット材(3、13)を、接合層(4、14)を介して、バッキング本体(2、12)に接合することにより、スパッタリングターゲット(1、11)を得る。

    Abstract translation: [问题]提供:具有极低的电弧或结节发生的溅射靶; 以及这种溅射靶的制造方法。 [解决方案]通过加工由氧化烧结体制成的材料获得板状或圆柱形目标材料(3,13)。 在这样做时,将在成为溅射表面的材料的表面上使用规定级别的研磨石(5,15),根据研磨石的等级进行粗磨,一次或多次, 然后进行一次或多次的零磨以实现在算术平均粗糙度(Ra),最大高度(Rz)为10.0μm以下的溅射表面(5,15)的表面粗糙度为至少0.9μm的表面粗糙度, RzJIS为7.0μm以下。 将获取的目标材料(3,13)与插入有接合层(4,14)的背衬主体(2,12)接合以获得溅射靶(1,11)。

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