公开(公告)号：WO2017013384A1

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：PCT/GB2016/051861

申请日：2016-06-22

申请人： EDWARDS LIMITED

发明人： RADIAR, Alageswaren Reddi Balsamy

IPC分类号： F23D14/62 ,  B01D53/68 ,  F23C99/00 ,  F23D14/16 ,  F23G7/06

CPC分类号： F23G7/065 ,  B01D53/68 ,  B01D53/76 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2257/204 ,  B01D2257/406 ,  B01D2257/55 ,  B01D2258/0216 ,  F23C99/006 ,  F23G2209/142

摘要： An inlet assembly for a burner and a method are disclosed. The inlet assembly is for an abatement burner and comprises: an inlet conduit operable to convey an effluent gas stream to be treated from an inlet aperture via a bore to an outlet aperture for treatment; and a lance conduit operable to convey a fuel gas from a gas inlet aperture via a gas bore to a gas outlet aperture positioned within the bore for mixing with the effluent gas stream, a cross-sectional area of the gas bore increasing towards the gas outlet aperture. In this way, the expansion caused by the increasing cross-sectional area of the gas bore enhances the mixing of the fuel gas with the effluent gas stream which provides for improved destruction and removal efficiencies (DRE), which enables the inlet assembly to be operated with reduced quantities of fuel gas, while still maintaining required levels of DRE.

摘要翻译： 公开了一种用于燃烧器的入口组件和方法。 入口组件用于减排燃烧器，并且包括：入口导管，可操作以将待处理的流出气体流经入口孔经由孔传送到出口孔进行处理; 以及喷枪导管，可操作以将来自气体入口孔的燃料气体经由气孔传送到位于所述孔内的气体出口孔，用于与所述流出气体流混合，所述气孔的横截面面积朝向所述气体出口 光圈。 以这种方式，由气孔的横截面积增加引起的膨胀增加了燃料气体与流出气流的混合，其提供改进的破坏和去除效率（DRE），其使得入口组件能够被操作 燃料气体减少，同时仍然保持DRE所需的水平。

公开(公告)号：WO2010029718A1

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：PCT/JP2009/004403

申请日：2009-09-07

申请人： 積水化学工業株式会社 ,  真弓聡 ,  功刀俊介 ,  佐藤崇 ,  梅岡尚

发明人： 真弓聡 ,  功刀俊介 ,  佐藤崇 ,  梅岡尚

IPC分类号： B01J19/08 ,  B01D53/22 ,  H01L21/3065

CPC分类号： B01D53/229 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2258/0216 ,  H01L21/32137

摘要： 　大気圧プラズマ処理において、フッ素原料の回収率又は回収濃度の変動を抑制し、処理の安定性を確保する。 　大気圧プラズマ処理部２から排出ライン３０に出された排出ガスを、分離部４の分離膜４１で回収ライン５０への回収ガスと放出ライン６０への放出ガスに分離する。回収ガスをプロセスガスの少なくとも一部に充てる。上記分離に際し、フッ素系原料の回収率及び回収濃度のうち何れか一方又は両方が所望になるよう、回収ガス、放出ガス、排出ガスのうち少なくとも２つのガスの上記分離に係る物理量（好ましくは圧力）をプロセスガスの流量に応じて調節する。

摘要翻译： 提供了一种用于等离子体处理的方法和装置，其中在大气压等离子体处理中抑制氟原料的回收率或回收浓度的变化，以确保处理的稳定性。 从大气压等离子体处理部（2）向排气管（30）排出的排气，通过分离膜（102）将回收气体分离回到回收管路（50），排出气体通过分离膜（60） 41）分离部分（4）。 回收气体被施加至至少一部分处理气体。 在分离时，根据处理气体的流量调节与分离回收气体，排放气体和排气中的至少两种有关的物理量（优选地，压力），使得 氟化原料的回收率或/和回收浓度中的一种或两种变得需要一种。

公开(公告)号：WO2009036215A2

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：PCT/US2008/076077

申请日：2008-09-11

申请人： QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. ,  YAN, Xiaoming ,  HO, Chok ,  HEALD, David ,  GOUSEV, Evgeni ,  HERTZLER, Benjamin, W. ,  FLOYD, Philip ,  SASAGAWA, Teruo ,  LONDERGAN, Ana ,  BITA, Ion ,  ZION, Todd

发明人： YAN, Xiaoming ,  HO, Chok ,  HEALD, David ,  GOUSEV, Evgeni ,  HERTZLER, Benjamin, W. ,  FLOYD, Philip ,  SASAGAWA, Teruo ,  LONDERGAN, Ana ,  BITA, Ion ,  ZION, Todd

IPC分类号： H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  B01D53/68

CPC分类号： H01L21/32135 ,  B01D53/002 ,  B01D2257/11 ,  B01D2257/2027 ,  H01L21/31116

摘要： The efficiency of an etching process may be increased in various ways, and the cost of an etching process may be decreased. Unused etchant may be isolated and recirculated during the etching process. Etching byproducts may be collected and removed from the etching system during the etching process. Components of the etchant may be isolated and used to general additional etchant. Either or both of the etchant or the layers being etched may also be optimized for a particular etching process.

摘要翻译： 可以以各种方式增加蚀刻工艺的效率，并且可以降低蚀刻工艺的成本。 未蚀刻的蚀刻剂可以在蚀刻过程中被隔离并再循环。 蚀刻副产物可以在蚀刻过程中从蚀刻系统中收集和去除。 蚀刻剂的组分可以被分离并用于一般的另外的蚀刻剂。 蚀刻剂或被蚀刻的层中的任一个或两者也可以针对特定的蚀刻工艺进行优化。

公开(公告)号：WO2007142192A1

公开(公告)日：2007-12-13

申请号：PCT/JP2007/061295

申请日：2007-06-04

申请人： 国立大学法人東北大学 ,  大陽日酸株式会社 ,  宇部マテリアルズ株式会社 ,  大見 忠弘 ,  石原 良夫 ,  鈴木 克昌 ,  迫田 薫 ,  三隅 修 ,  渡辺 高行

发明人： 大見 忠弘 ,  石原 良夫 ,  鈴木 克昌 ,  迫田 薫 ,  三隅 修 ,  渡辺 高行

IPC分类号： C01F11/02 ,  B01D53/28 ,  B01D53/86 ,  B01J20/04

CPC分类号： C01F11/02 ,  B01D53/685 ,  B01D2251/602 ,  B01D2251/604 ,  B01D2257/2027 ,  B01J20/041 ,  B01J20/28057 ,  B01J20/28069 ,  B01J20/28078 ,  B01J20/28092 ,  C01F11/04 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/16 ,  Y10T428/2982

摘要： Disclosed are particulates of calcium oxide and calcium hydroxide which are suitably used for filling a gas fixing unit (32) of a fixation device (3) for a halide gas. Particularly disclosed are those particulates highly reactive with a halide gas or a decomposition product thereof. Specifically disclosed is a porous calcium oxide particulate composed of spherical porous calcium oxide particles, which has a BET specific surface area of not less than 50 m 2 /g. The total pore volume of pores having a diameter of 2-100 nm contained in all the porous particles is within the range of 0.40-0.70 mL/g. Also specifically disclosed is a porous calcium hydroxide particulate composed of spherical porous calcium hydroxide particles, which has a BET specific surface area of not less than 20 m 2 /g. The total pore volume of pores having a diameter of 2-100 nm contained in all the porous particles is within the range of 0.25-0.40 mL/g.

摘要翻译： 公开了适合用于填充用于卤化物气体的固定装置（3）的气体固定单元（32）的氧化钙和氢氧化钙的颗粒。 特别公开的是那些与卤化物气体或其分解产物高度反应的颗粒。 具体公开的是由球形多孔氧化钙颗粒构成的多孔氧化钙颗粒，其BET比表面积不小于50m 2 / g。 包含在所有多孔颗粒中的直径为2-100nm的孔的总孔体积在0.40-0.70mL / g的范围内。 还具体公开了一种由球形多孔氢氧化钙颗粒构成的多孔氢氧化钙颗粒，其BET比表面积不小于20m 2 / g。 包含在所有多孔颗粒中的直径为2-100nm的孔的总孔体积在0.25-0.40mL / g的范围内。

公开(公告)号：WO0183069A3

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：PCT/US0114074

申请日：2001-05-01

申请人： TECHARMONIC INC

发明人： HERTZLER CHRISTOPHER ,  LATAM CHRISTOPHER ,  KORN DAVID

IPC分类号： B01D53/34 ,  B01D53/68 ,  B01D53/75 ,  B01D53/78

CPC分类号： B01D53/75 ,  B01D53/68 ,  B01D53/77 ,  B01D53/78 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2257/2047

摘要： A system for controlling emissions of hazardous, toxic or otherwise undesirable components in a waste gas stream, while maintaining uptime through decreased maintenance and repair, is provided. The system oxidizes the waste gas stream at high temperatures with a thermal oxidizer (110), effectively removes particulates in the waste gas stream as well as moderate levels of acid gas through a cyclone scrubber (120), and removes the remainder of the acid gas content in the waste gas stream through he use of a packed column (130). Finally, a condenser (140) lowers the moisture content of the waste gas stream before leaving the system by way of a blower (150), reducing the chance of condensation and corrosion in the facility ductwork. As a result, the system can run for sustained periods of time, reducing downtime in semiconductor operations and associated loss of revenue.

摘要翻译： 提供了一种用于控制废气流中危险，有毒或其他不良成分排放的系统，同时通过减少维护和修理维持正常运行时间。 该系统在高温下用热氧化剂（110）氧化废气流，通过旋风除尘器（120）有效地去除废气流中的微粒以及中等水平的酸性气体，并除去剩余的酸性气体 通过使用填充塔（130），废气流中的含量。 最后，冷凝器（140）在通过鼓风机（150）离开系统之前降低废气流的水分含量，减少了设备管道系统中冷凝和腐蚀的可能性。 因此，该系统可以持续运行，减少半导体业务的停机时间和相关的收入损失。

公开(公告)号：WO2015075840A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：PCT/JP2013/081651

申请日：2013-11-25

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 鈴木　夏志 ,  若林　理 ,  對馬　弘朗

IPC分类号： B01J4/00 ,  F17C5/00 ,  H01S3/03

CPC分类号： H01S3/036 ,  B01D53/0446 ,  B01D53/346 ,  B01D53/685 ,  B01D53/82 ,  B01D53/86 ,  B01D2251/404 ,  B01D2251/602 ,  B01D2253/108 ,  B01D2255/20753 ,  B01D2255/20761 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2258/0216 ,  B01D2259/40003 ,  H01S3/104 ,  H01S3/225

摘要： 　ガス精製システムは、ガスに含まれる不純物を除去することで精製ガスを提供するように構成された精製カラム、前記精製ガスを含有するように構成された第一のタンク、前記精製ガスを含有するように構成された第二のタンク、前記第一のタンクから前記第二のタンクへ前記精製ガスを送るように構成されたポンプ、前記第一のタンクに含有された前記精製ガスの圧力を測定するように構成された第一の圧力センサ、前記第二のタンクに含有された前記精製ガスの圧力を測定するように構成された第二の圧力センサ、前記第二のタンクに含有された前記精製ガスの外部への放出を制御するように構成された精製ガス制御バルブ、及び、前記第一の圧力センサによって測定された前記精製ガスの圧力に基づいて前記ポンプを動作させると共に前記第二の圧力センサによって測定された前記精製ガスの圧力に基づいて前記精製ガス制御バルブを制御するように構成された制御部を含む、ガス精製システムであってもよい。

摘要翻译： 一种气体净化系统，包括：净化塔，其被构造成通过除去所述气体中所含的杂质来提供净化气体; 构造成容纳净化气体的第一罐; 构造成容纳净化气体的第二罐; 泵，其构造成将所述净化气体从所述第一罐输送到所述第二罐; 第一压力传感器，被配置为测量包含在第一罐中的净化气体的压力; 第二压力传感器，被配置为测量包含在所述第二罐中的净化气体的压力; 净化气体控制阀，其构造成控制包含在第二罐中的净化气体向外部的释放; 以及控制单元，其被配置为基于由第一压力传感器测量的净化气体的压力来操作泵，并且基于由第二压力传感器测量的净化气体的压力来控制净化气体控制阀 。

公开(公告)号：WO2013024247A1

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：PCT/GB2012/051630

申请日：2012-07-11

申请人： EDWARDS LIMITED ,  VORONIN, Sergey Alexandrovich ,  CLEMENTS, Christopher James Philip ,  BIDDER, John Leslie

发明人： VORONIN, Sergey Alexandrovich ,  CLEMENTS, Christopher James Philip ,  BIDDER, John Leslie

IPC分类号： B01D53/32 ,  B03C3/78 ,  B03C3/82

CPC分类号： C23C16/45508 ,  B01D53/32 ,  B01D2252/103 ,  B01D2257/106 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2257/2047 ,  B01D2257/402 ,  B01D2257/406 ,  B01D2257/553 ,  B01D2258/0216 ,  B01D2259/818 ,  B03C3/78 ,  B03C3/82 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/513 ,  H05H1/341 ,  Y02C20/10

摘要： The present invention relates to apparatus (10) for treating a gas stream (12). A plasma generator (14) generates a plasma flare (16). A first inlet (18) conveys the gas stream into the apparatus. A reaction chamber (20) is located downstream of the plasma generator in which gas is treated. A second inlet (22) receives a liquid (32) into the apparatus for establishing a liquid weir (24) over an interior surface (26) of the reaction chamber for resisting accumulation of solid deposits on the interior surface. A weir guide (28) has an outer annular surface (30) for directing liquid over the interior surface and an inner annular surface (34) in flow communication with the outer surface so that liquid flows form the outer surface to the inner surface to resist depositing on the inner surface.

摘要翻译： 本发明涉及用于处理气流（12）的设备（10）。 等离子体发生器（14）产生等离子体火炬（16）。 第一入口（18）将气流输送到设备中。 反应室（20）位于处理气体的等离子体发生器的下游。 第二入口（22）将液体（32）接收到设备中，用于在反应室的内表面（26）上建立液体堰（24），用于抵抗内表面上的固体沉积物的积聚。 堰引导件（28）具有用于将液体引导到内表面上的外环形表面（30）和与外表面流动连通的内环形表面（34），使得液流从外表面到内表面抵抗 沉积在内表面上。

公开(公告)号：WO2011090967A1

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：PCT/US2011/021623

申请日：2011-01-19

申请人： RUTGERS, THE STATE UNIVERSITY OF NEW JERSEY ,  RIMAN, Richard, E. ,  LI, Qinghua

发明人： RIMAN, Richard, E. ,  LI, Qinghua

IPC分类号： B01D53/46

CPC分类号： B01D53/1456 ,  B01D53/1425 ,  B01D53/50 ,  B01D53/52 ,  B01D53/62 ,  B01D53/68 ,  B01D2252/102 ,  B01D2252/2041 ,  B01D2252/20415 ,  B01D2252/20442 ,  B01D2252/20447 ,  B01D2252/20484 ,  B01D2252/20489 ,  B01D2252/20494 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2257/2047 ,  B01D2257/302 ,  B01D2257/304 ,  B01D2257/504 ,  B01D2258/0283

摘要： A method of sequestering a multi-element gas emitted by an industrial plant is described herein, the method comprising: contacting a solution, including a first reactant comprising a multi-element gas emitted by an industrial plant and at least one gas absorber comprising nitrogen, for example ammonia or an amine, with a solid, including a second reactant, under conditions that promote a reaction between the first reactant and the second reactant to provide a first product, which incorporates one or more elements of the multi-element gas, thereby sequestering the multi-element gas.

摘要翻译： 本文描述了隔离由工业设备发出的多元素气体的方法，所述方法包括：使包含由工业设备发射的多元素气体的第一反应物和至少一种包含氮气的吸收剂的溶液接触， 在促进第一反应物和第二反应物之间的反应以提供包含多元素气体的一种或多种元素的第一产物的条件下，在包括第二反应物的固体（例如氨或胺）中， 隔离多元素气体。

公开(公告)号：WO2009036215A3

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：PCT/US2008076077

申请日：2008-09-11

申请人： QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES INC ,  YAN XIAOMING ,  HO CHOK ,  HEALD DAVID ,  GOUSEV EVGENI ,  HERTZLER BENJAMIN W ,  FLOYD PHILIP ,  SASAGAWA TERUO ,  LONDERGAN ANA ,  BITA ION ,  ZION TODD

发明人： YAN XIAOMING ,  HO CHOK ,  HEALD DAVID ,  GOUSEV EVGENI ,  HERTZLER BENJAMIN W ,  FLOYD PHILIP ,  SASAGAWA TERUO ,  LONDERGAN ANA ,  BITA ION ,  ZION TODD

IPC分类号： H01L21/311 ,  B01D53/68 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/32135 ,  B01D53/002 ,  B01D2257/11 ,  B01D2257/2027 ,  H01L21/31116

摘要： A method of fabricating an electonic device which comprises a step of etching a sacrificial layer with an etchant comprising a noble gas fluoride, e.g. Xenon Fluoride (Xe F2). The efficiency of the etching process may be increased in various ways, and the cost of an etching process may be decreased. Unused etchant may be isolated and recirculated during the etching process. Etching byproducts may be collected and removed from the etching system during the etching process. Components of the etchant may be isolated and used to general additional etchant. Either or both of the etchant or the layers being etched may also be optimized for a particular etching process.

摘要翻译： 一种制造电子器件的方法，其包括用包含惰性气体氟化物的蚀刻剂蚀刻牺牲层的步骤，例如， 氟化氙（Xe F2）。 可以以各种方式提高蚀刻工艺的效率，并且可以降低蚀刻工艺的成本。 未蚀刻的蚀刻剂可以在蚀刻过程中被隔离并再循环。 蚀刻副产物可以在蚀刻过程中从蚀刻系统中收集和去除。 蚀刻剂的组分可以被分离并用于一般的另外的蚀刻剂。 蚀刻剂或被蚀刻的层中的任一个或两者也可以针对特定的蚀刻工艺进行优化。

公开(公告)号：WO2005072482A2

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：PCT/US2005/000598

申请日：2005-01-10

申请人： THE BOC GROUP, INC.

发明人： JANGBARWALA, Juzer

IPC分类号： B01D53/68 ,  B01D53/73 ,  B01D53/96 ,  B01J41/04 ,  B01J47/00 ,  B01J49/00

CPC分类号： B01D53/68 ,  B01D53/73 ,  B01D53/96 ,  B01D2257/2027 ,  B01J41/05 ,  B01J41/07 ,  B01J47/016 ,  B01J49/50 ,  Y02C20/30

摘要： A method for removing fluorine gas from a selected environment comprises contacting the fluorine gas with water to generate a solution of hydrofluoric acid and contacting the solution of hydrofluoric acid with an ion exchange resin having an active state operative to exchange selected ions therein for fluoride ions in the solution. The apparatus (200) may include a dual resin setup (222, 223) such that one of the ion-exchange resin can be in the service cycle while the other of the ion-exchange resins undergoes the regeneration and rinse/refill cycles.

摘要翻译： 从所选择的环境中除去氟气的方法包括使氟气与水接触以产生氢氟酸溶液，并使氢氟酸溶液与具有活性状态的离子交换树脂接触，以在其中交换选定的离子以进行氟离子 解决方案。 装置（200）可以包括双重树脂装置（222,223），使得一个离子交换树脂可以处于使用循环中，而另一个离子交换树脂经历再生和冲洗/再填充循环。