Abstract:
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Regelung der Konzentrationen eines Mehrstoffgemisches am Ausgang einer Destillationskolonne, bei dem im Verstärkungsteil der Destillationskolonne eine Temperatur T1 und im Abtriebsteil der Destillationskolonne eine Temperatur T2 gemessen werden, wobei die Temperaturdifferenz ΔΤ=Τ2-Τ1 als Ersatzregelgröße für wenigstens eine Konzentration benutzt wird, wobei der Ist-Wert der Temperaturdifferenz ΔΤ mit einem vorgegebenen Sollwert verglichen wird.
Abstract:
본 발명은 테트라클로로실란으로부터 트리클로로실란을 효율적으로 제조할 수 있는 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 장치는, 액상의 테트라클로로실란에 분산된 금속실리콘 분말을 포함하는 반응원료 유입구; 기상의 반응원료 공급구; 트리클로로실란을 포함하는 반응생성물 유출구; 상기 유입구로 유입된 반응원료가 이송되면서 반응하는 관형 반응기; 및 상기 관형반응기는 반응원료들이 이송되는 과정에서 유체 충돌을 야기하기 위한 유체흐름방해 수단을 구비한다.
Abstract:
A method of preparing a hydridohalosilane compound comprises treating a preformed metal silicide with a mixture comprising hydrogen gas and a silicon tetrahalide to prepare the hydridohalosilane compound.
Abstract:
A process that includes combining hydrogen chloride, metallurgical grade silicon and a third gas, e.g., tetrachlorosilane, in a reactor, under reaction conditions that include a temperature of 250-400C and a pressure of 2-33 barg, for a time sufficient to convert metallurgical grade silicon to an exit gas that includes trichlorosilane.
Abstract:
Embodiments of a method for reducing iron silicide and/or iron phosphide fouling and/or corrosion in a hydrochlorosilane production plant are disclosed. Sufficient trichlorosilane is included in a silicon tetrachloride process stream to minimize hydrogen chloride formation, thereby inhibiting iron (II) chloride formation and reducing iron silicide and/or iron phosphide fouling, superheater corrosion, or a combination thereof.
Abstract:
Embodiments of a system and process for the production of ultra-high purity silane and hydrohalosilanes of the general formula H y SiX 4-y (y = 1, 2, or 3) by a reactive distillation method are disclosed.
Abstract:
A catalytic process for converting silicon tetrachloride (STC) into trichlorosilane (TCS) utilizes a metal catalyst such as metal silicide at a low temperature such as 500C, where the STC is reacted with hydrogen gas in the presence of catalyst and under non-thermal equilibrium conditions, to provide for a product gas stream that includes TCS at levels exceeding those obtained at thermal equilibrium, as well as optionally including HCl and unreacted STC.
Abstract:
Gegenstand der Erfindung ist die Verwendung einer bestimmten Brennerbauart zur Beheizung von Reaktoren zur Umsetzung von Chlorsilanen, wobei der Brenner ein Strahlrohr aufweist und das Strahlrohr die Flamme und das Flammrohr gasdicht umgibt, wodurch sowohl die Verbrennungsluft als auch die gasförmigen und/oder flüssigen Brennstoffe als auch die Rauchgase nicht in den Raum des Reaktionsofens gelangen können. Der Vorteil ist die völlige Trennung des Rauchgases vom eigentlichen Innenraum des Reaktionsofens, was kritische Wechselwirkungen zwischen Rauchgasfeuchte und Chlorsilanen im Falle eines Bruchs der die Chlorsilane beherbergenden Anordnung unmöglich macht. Dies wiederum macht die Verwendung von gasförmigen oder flüssigen Brennstoffen zur Beheizung eines solchen Reaktionsofens möglich. Ein übermäßiger lokaler Einträg von Wärme durch direkten Flammenkontakt wird verhindert, der Wärmeeintrag ist vergleichmäßigt.
Abstract:
Verfahren zur Hydrierung von Chlorsilanen in einem Reaktor, wobei mindestens zwei Eduktgasströme getrennt voneinander in eine Reaktionszone eingebracht werden, wobei der erste Eduktgasstrom beinhaltend Siliciumtetrachlorid durch eine erste Wärmetauschereinheit geführt wird, in der er aufgeheizt wird, und dann über eine Heizeinheit geführt wird und dabei auf eine erste Temperatur aufgeheizt wird bevor der erste Eduktgasstrom die Reaktionszone erreicht, und wobei der zweite Eduktgasstrom beinhaltend Wasserstoff durch eine zweite Wärmetauschereinheit auf eine zweite Temperatur aufgeheizt wird, wobei die erste Temperatur größer ist als die zweite Temperatur, und dann in die Reaktionszone eingebracht wird, so dass die Mischtemperatur beider Eduktgasströme in der Reaktionszone zwischen 850°C und 1300°C liegt und zu Produktgasen, umfassend Trichlorsilan und Chlorwasserstoff, reagieren, wobei die bei der Reaktion erzeugten Produktgase durch die besagten wenigstens zwei Wärmetauschereinheiten geführt werden und nach dem Gegenstromprinzip die Eduktgasströme der Reaktion vorheizen, wobei zunächst die erste Wärmetauschereinheit und danach die zweite Wärmetauschereinheit durchströmt wird. Reaktor zur Hydrierung von Chlorsilanen, umfassend zwei Gaseinlassvorrichtungen, durch die Eduktgase getrennt voneinander in den Reaktor eingebracht werden können, und wenigstens eine Gasauslassvorrichtung, durch die ein Produktgasstrom geführt werden kann, wenigstens zwei Wärmetauschereinheiten, die miteinander verbunden sind und die geeignet sind, Eduktgase durch die durch die Wärmetauschereinheiten geführten Produktgase getrennt voneinander aufzuheizen sowie eine Heizzone, die zwischen einer ersten Wärmetauschereinheit und einer Reaktionszone angeordnet ist und in der sich wenigstens ein Heizelement befindet.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung monomerer und/oder dimerer Halogen und/oder Wasserstoff enthaltenden Siliciumverbindungen aus oligomeren anorganischen Silanen mit mindestens drei unmittelbar kovalent verbundenen Siliciumatomen, deren Substituenten gewählt sind aus Halogen, Wasserstoff und/oder Sauerstoff, indem das oligomere Silan in Gegenwart von Halogenwasserstoff an einem Stickstoff enthaltenden Katalysator umgesetzt wird.