公开(公告)号：WO1995013704A1

公开(公告)日：1995-05-26

申请号：PCT/CA1994000604

申请日：1994-11-01

申请人： WESTAIM TECHNOLOGIES INC. ,  BURRELL, Robert, Edward ,  APTÉ, Prasad, Shrikrishna ,  GILL, Kashmir, Singh ,  PRECHT, Roderick, John ,  MORRIS, Larry, Roy ,  MCINTOSH, Catherine, Laurie ,  SANT, Sudhindra, Bharat

发明人： WESTAIM TECHNOLOGIES INC.

IPC分类号： A01N59/16

CPC分类号： C23C14/588 ,  A01N59/16 ,  A01N59/26 ,  A61B2018/00119 ,  A61L17/145 ,  A61L29/106 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/025 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/086 ,  C23C14/14 ,  C23C14/16 ,  A01N47/30 ,  A01N43/80 ,  A01N43/78 ,  A01N41/08 ,  A01N2300/00

摘要： Anti-microbial coatings and powders and method of forming same on medical devices are provides. The coatings are preferably formed by depositing an anti-microbial biocompatible metal by vapour deposition techniques to produce atomic disorder in the coating such that a sustained release of metal ions sufficient to produce an anti-microbial effect is achieved. Preferred deposition conditions to achieve atomic disorder include a lower than normal substrate temperature, and one or more of a higher than normal working gas pressure and a lower than normal angle of incidence of coating flux. Anti-microbial powders formed by vapour deposition or altered by mechanical working to produce atomic disorder are also provided. The anti-microbial effect of the coatings or powders may be further activated or enhanced by irradiating with a low linear energy transfer form of radiation such as gamma radiation. Novel anti-microbial silver materials are defined, characterized by having a positive rest potential, a Trec/Tm less than 0.33, and a grain size less than 200 nm. Anti-microbial fine grain or nanocrystalline materials are provided, together with methods of preparation, wherein the anti-microbial metal if deposited in a matrix with atoms or molecules of a different material such as other biocompatible metals (ex. Ta), trapped or absorbed oxygen, or compounds of anti-microbial metals or biocompatible metals (ex. Ag0 or TaO). The invention also extends to a method of producing an anti-microbial effect with silver materials that form complex silver ions other than Ag , Ag and Ag .

摘要翻译： 提供了抗微生物涂层和粉末及其在医疗设备上的形成方法。 优选通过气相沉积技术沉积抗微生物生物相容性金属以在涂层中产生原子紊乱形成涂层，从而实现足以产生抗微生物作用的金属离子的持续释放。 实现原子紊乱的优选沉积条件包括低于正常的衬底温度，以及高于正常工作气体压力和低于正常入射角的涂层焊剂的一种或多种。 还提供了通过气相沉积或通过机械加工改变以产生原子紊乱形成的抗微生物粉末。 通过用低线性能量转移形式的辐射如γ辐射照射可以进一步激活或增强涂层或粉末的抗微生物作用。 定义了新的抗微生物银材料，其特征在于具有阳性静电位，Trec / Tm小于0.33，粒度小于200nm。 提供抗微生物细晶粒或纳米晶体材料以及制备方法，其中如果将抗微生物金属沉积在具有不同材料的原子或分子的基质中，例如其它生物相容性金属（例如Ta），被捕获或吸收 氧气或抗微生物金属或生物相容性金属化合物（例如AgO或TaO）。 本发明还延伸到用除Ag +，Ag 2+和Ag <3+以外的复合银离子的银材料产生抗菌效果的方法。

公开(公告)号：WO2015160607A1

公开(公告)日：2015-10-22

申请号：PCT/US2015/025033

申请日：2015-04-09

申请人： CORNING INCORPORATED

发明人： CRIFASI, Joseph Charles ,  HART, Gary Allen ,  WALTON, Robin Merchant ,  WAMBOLDT, Leonard Gerard ,  WANG, Jue

IPC分类号： C23C14/02 ,  C23C14/16 ,  C23C14/58 ,  G02B5/08

CPC分类号： G02B5/0875 ,  C23C14/022 ,  C23C14/024 ,  C23C14/028 ,  C23C14/165 ,  C23C14/35 ,  C23C14/588 ,  G02B1/14 ,  G02B5/0808

摘要： A method for coating substrates is provided. The method includes diamond turning a substrate to a surface roughness of between about 60Å and about 100Å RMS, wherein the substrate is one of a metal and a metal alloy. The method further includes polishing the diamond turned surface of the substrate to a surface roughness of between about 10Å and about 25Å to form a polished substrate, heating the polished substrate, and ion bombarding the substrate with an inert gas. The method includes depositing a coating including at least one metallic layer on the ion bombarded surface of the substrate using low pressure magnetron sputtering, and polishing the coating to form a finished surface having a surface roughness of less than about 25Å RMS using a glycol based colloidal solution.

摘要翻译： 提供一种涂布基材的方法。 该方法包括将基底金刚石旋转至约60埃至约100埃的表面粗糙度，其中基底是金属和金属合金之一。 该方法还包括将衬底的金刚石旋转表面抛光至约10埃至约25埃的表面粗糙度以形成抛光衬底，加热抛光衬底和用惰性气体轰击衬底的离子。 该方法包括使用低压磁控溅射将包含至少一个金属层的涂层沉积在基板的离子轰击表面上，并且使用二醇基胶体对涂层进行抛光以形成表面粗糙度小于约25埃的表面粗糙度 解。

公开(公告)号：WO2013117174A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：PCT/DE2012/000505

申请日：2012-05-16

申请人： MAHLE INTERNATIONAL GMBH ,  ISSLER, Wolfgang

发明人： ISSLER, Wolfgang

IPC分类号： F16J9/14 ,  F16J9/20 ,  F16J9/26

CPC分类号： F16J9/12 ,  C23C14/046 ,  C23C14/588 ,  F02F5/00 ,  F16J9/14 ,  F16J9/20 ,  F16J9/26

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft einen Kolbenring (10) für Kolben von Verbrennungsmotoren, mit einer mit einem Beschichtungsmittel (19) beschichteten Ringlauffläche (13), einem Ringrücken (11) sowie zwei durch einen Spalt (15) beabstandeten Ringstoßenden (14), dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich mindestens eines der Ringstoßenden (14) in der Ringlauffläche (13) eine in Umfangsrichtung verlaufende Nut (16, 316) vorgesehen ist, welche bündig zur beschichteten Ringlauffläche (13) mit dem Beschichtungsmittel (19) ausgefüllt ist. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Kolbenrings (10).

摘要翻译： 本发明涉及一种活塞环（10）用于内燃机的活塞，涂有与涂布剂（19）环运行表面（13）中，环回（11）和两个由间隙（15）隔开的环对接的端部（14），其特征在于 一个沿圆周延伸的槽（16，316）在其中填充有涂布剂（19）的环运行表面（13）的环接合端部（14）中的至少一个的区域中提供的是在涂覆环圈表面（13）齐平。 本发明还涉及一种用于制造这样的活塞环（10）的方法。

公开(公告)号：WO2011029603A1

公开(公告)日：2011-03-17

申请号：PCT/EP2010/005556

申请日：2010-09-09

申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V ,  RISSE, Stefan ,  GEBHARDT, Andreas ,  PESCHEL, Thomas ,  STÖCKL, Wieland

发明人： RISSE, Stefan ,  GEBHARDT, Andreas ,  PESCHEL, Thomas ,  STÖCKL, Wieland

IPC分类号： C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/16 ,  C23C14/58

CPC分类号： G02B5/08 ,  C23C14/024 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/081 ,  C23C14/083 ,  C23C14/165 ,  C23C14/588 ,  G02B1/02 ,  G02B1/10 ,  G02B5/0891 ,  Y10T428/265

摘要： Die Erfindung betrifft ein Substrat aus einer Aluminium-Silizium-Legierung oder kristallinem Silizium mit aufgebrachter polierbarer Schicht sowie einen Metallspiegel, der dieses Substrat umfasst. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung von Metallspiegeln wie auch die Verwendung des erfindungsgemäßen Metallspiegels.

摘要翻译： 本发明涉及由铝 - 硅合金的或施加可抛光层和金属镜结晶硅的基板，包括所述衬底。 此外，本发明涉及一种用于制造金属反射镜以及使用本发明的金属镜的方法。

公开(公告)号：WO02097150A2

公开(公告)日：2002-12-05

申请号：PCT/EP0205577

申请日：2002-05-21

申请人： SIEMENS AG ,  JANSING THOMAS ,  REYMANN HELGE

发明人： JANSING THOMAS ,  REYMANN HELGE

IPC分类号： B24C11/00 ,  C23C4/02 ,  C23C14/02 ,  C23C14/58 ,  C23C

CPC分类号： C23C14/588 ,  B24C11/00 ,  C23C4/02 ,  C23C14/028

摘要： The invention pertains to a method for a mechanical treatment of a surface (7) of a metallic substrate (6) of an article of manufacture (1) comprising the step of treating the surface (7) with abrasive particles (5), which particles (5) comprise a metallic nitride, in particular aluminium nitride (A1N), titan nitride (TiN), and/or silicon nitride (Si3N4), in particular a sintered silicon nitride (SSN). The abrasive particles (5), preferably have on average a fracture toughness of between 5.5 MPa*m and 10.0 MPa.*M .

摘要翻译： 本发明涉及一种用于机械处理制品（1）的金属基底（6）的表面（7）的方法，包括用磨料颗粒（5）处理表面（7）的步骤，该颗粒 （5）包括金属氮化物，特别是氮化铝（AlN），氮化钛（TiN）和/或氮化硅（Si 3 N 4），特别是氮化硅烧结体（SSN）。 研磨颗粒（5）的平均断裂韧性优选在5.5MPa * m 1/2和10.0MPa * M 1/2之间。

公开(公告)号：WO2016167161A1

公开(公告)日：2016-10-20

申请号：PCT/JP2016/061168

申请日：2016-04-05

申请人： 株式会社iMott

发明人： 松尾　誠 ,  林田　興明 ,  飯田　明善

IPC分类号： C23C16/04 ,  B23B27/14 ,  B23B27/20 ,  C23C14/04 ,  C23C14/06 ,  C23C16/27

CPC分类号： C23C14/5813 ,  B23B27/14 ,  B23B27/20 ,  C23C14/04 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/221 ,  C23C14/34 ,  C23C14/5846 ,  C23C14/588 ,  C23C16/04 ,  C23C16/27 ,  C23C16/272 ,  C23C16/56

摘要： 本発明は、セグメント構造の保護膜において、特に溝の側面から溝の底部に繋がる構造および溝の底部の構造により、内外力の負荷変形応力により溝構造が破壊・破損するのを防止し、強度的に安定なセグメント構造の保護膜を得ることを目的とする。本発明は、基材上に膜を堆積したセグメント構造の保護膜であって、該基材に溝加工した後に該保護膜を堆積してセグメント保護膜間の間隔を形成してなり、溝側面と溝の底部が交差する部分の縦断面が下に凸の曲線で繋がり、かつ溝の底部の縦断面が下に凸の曲線、または直線である保護膜に関する。

摘要翻译： 对于具有分段结构的保护膜，本发明的目的是获得具有在强度方面稳定的分段结构的保护膜，并且防止由于载荷变形应力引起的凹槽结构的破坏或损坏 并且通过特别地将沟槽的侧面与槽的底部连接的结构和槽的底部部分的结构来实现。 本发明是一种具有分段结构的保护膜，该膜通过在基材上沉积膜形成，其中通过在基材中加工凹槽之后将保护膜沉积在基材上而获得保护膜 并且在分割的保护膜之间形成空间，并且槽侧面和槽底面相交的部分的垂直截面用相对的下凸曲线连接，并且底面的垂直截面 凹槽是向下凸曲线或直线。

公开(公告)号：WO2014170034A3

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：PCT/EP2014050473

申请日：2014-01-13

申请人： FEDERAL MOGUL BURSCHEID GMBH

发明人： HOPPE STEFFEN ,  KELLNER MARKUS

IPC分类号： C23C8/80 ,  C23C4/18 ,  C23C14/58 ,  C23C16/56

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C8/80 ,  C23C14/5873 ,  C23C14/588 ,  C23C16/56

摘要： The invention relates to a method for producing a piston ring, comprising the following steps: providing a main body made of an iron-based alloy; depositing a coating on the running surface side of the main body; and producing a structure in the coating, wherein the structure comprises at least one first row of recesses, which are distributed in a periodic pattern in the circumferential direction, and at least one second row of recesses, which are distributed in a periodic pattern in the circumferential direction, wherein the pattern of the second recesses corresponds to the pattern of the first recesses shifted by a length between 0.25 and 0.75 periods.

摘要翻译： 提供了一种制造的活塞环，其特征在于提供由一种铁基合金的基体，在基体的行驶表面侧上沉积涂层，并且生成在该涂层的图案的方法，其中至少阱的第一行的周期性图案的结构化 分布在圆周方向上，并包括至少一个第二系列，其被分布在周期性图案在圆周方向上的凹部的方法，其中的第二图案凹部的第一凹部的图案，由一个长0.25和0.75周期之间移动， 等价的。

公开(公告)号：WO2014185745A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：PCT/KR2014/004410

申请日：2014-05-16

申请人： 주식회사 엘지화학

发明人： 정상윤 ,  정한나 ,  박철희 ,  박치성 ,  김재현

IPC分类号： C01B33/113 ,  B01J19/18

CPC分类号： C01B33/113 ,  B01J19/18 ,  C01B33/182 ,  C23C14/24 ,  C23C14/56 ,  C23C14/562 ,  C23C14/5873 ,  C23C14/588

摘要： 본 발명은 SiO를 연속적으로 제조할 수 있는 SiO 제조 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 SiO 제조 장치는, SiO 제조용 원료를 공급받고, 공급된 원료를 가열에 의해 반응시켜 SiO 가스를 생성하는 반응부; 및 내부 온도가 상기 반응부의 내부 온도보다 낮은 온도로 유지되고, 회전 부재를 내부 공간에 구비하며, 적어도 일측에 형성된 유입구를 통해 상기 반응부에서 생성된 SiO 가스를 유입시켜, 유입된 SiO 가스가 상기 회전 부재의 표면에 증착되도록 함으로써 SiO 증착물을 수거하는 수거부를 포함한다.

摘要翻译： 本发明涉及可以连续生产SiO的制备SiO的装置和方法。 本发明的SiO的制造装置包括：接收用于制造SiO的原料的反应单元，通过加热供给的原料来生成SiO气体，引发反应; 内部温度保持低于反应单元的内部温度的收集单元，在其内部空间内设置有旋转构件，并且通过使产生的SiO气体流入而收集SiO沉积物 所述反应单元通过所述收集单元的一侧或多侧上的入口，以使被吸入的SiO气体沉积在所述旋转构件的表面上。

公开(公告)号：WO2008026499A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：PCT/JP2007/066347

申请日：2007-08-23

申请人： パイオニア株式会社 ,  宮寺 敏之 ,  大下 勇 ,  藤村 奏

发明人： 宮寺 敏之 ,  大下 勇 ,  藤村 奏

IPC分类号： B32B3/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/04

CPC分类号： C23C16/56 ,  B32B5/02 ,  B32B5/24 ,  B32B15/04 ,  B32B15/18 ,  B32B27/06 ,  B32B27/285 ,  B32B27/286 ,  B32B27/288 ,  B32B27/304 ,  B32B27/32 ,  B32B27/322 ,  B32B27/36 ,  B32B27/365 ,  B32B2255/02 ,  B32B2255/06 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/20 ,  B32B2255/205 ,  B32B2255/28 ,  B32B2260/021 ,  B32B2260/046 ,  B32B2262/0269 ,  B32B2262/101 ,  B32B2262/106 ,  B32B2307/50 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2307/7246 ,  B32B2457/20 ,  C23C14/588 ,  H01L51/5253 ,  Y10T428/24612

摘要： 　ガスや水分などの透過を防止できるガスバリアフィルムを提供する。 【解決手段】ガスバリアフィルムは、基材と、基材の少なくともその一方の主表面に成膜されかつ凹部を有するガスバリア膜と、からなるガスバリアフィルムであって、凹部に充填された充填材料からなる埋め込み部を有する。凹部を有するガスバリア膜上に充填材料からなる埋め込み膜を成膜し、埋め込み膜への払拭部材の接触により埋め込み膜を延伸、除去しつつ、ガスバリア膜の凹部に充填材料を堆積させて埋め込み部を形成する。

摘要翻译： 提供了能够防止气体，水等通过的阻气膜。 阻气膜由基材和阻气膜构成，阻气膜形成在基材的至少一个主面上并具有凹部。 阻气膜具有由施加在凹部中的填充材料构成的嵌入部。 嵌入部分通过在具有凹部的阻气膜上形成由填充材料构成的嵌入膜，并且通过将填充材料沉积在阻气膜的凹部中，同时通过将 擦拭构件与嵌入膜接触。

公开(公告)号：WO02020868A1

公开(公告)日：2002-03-14

申请号：PCT/DE2001/003435

申请日：2001-09-08

IPC分类号： B24B29/00 ,  B24B37/00 ,  C23C14/06 ,  C23C14/58 ,  H01J9/22

CPC分类号： C23C14/588 ,  C23C14/0694 ,  H01J9/221

摘要： The invention relates to a method for producing a coating of fluorescent material, comprising the following steps: a) depositing the fluorescent material from the vapor phase on a substrate in such a manner that at least 30 % by weight of the fluorescent material used are deposited on the substrate, and b) abrading the fluorescent coating to a predetermined even layer thickness by means of a polishing agent.

摘要翻译： 一种制备荧光体层本发明的方法涉及一种方法，用于生产包括以下步骤的荧光体层：a）在基材上分离从气相磷光体，使得所述释放个磷光体中的至少30重量％的沉积在基材上，和b）研磨去除。 通过抛光剂的装置上的预手均匀的层厚度荧光体层。