公开(公告)号：WO2016202530A1

公开(公告)日：2016-12-22

申请号：PCT/EP2016/061565

申请日：2016-05-23

Applicant: AIRBUS DEFENCE AND SPACE GMBH

Inventor： ENGEL, Franz ,  NICK, Andreas ,  REHM, Wolfgang ,  WEIMER, Christian

IPC: B22F3/105 ,  B29C67/00 ,  G01J3/44 ,  G01N21/65

CPC classification number: B29C64/393 ,  B22F3/1055 ,  B22F2003/1056 ,  B22F2003/1057 ,  B23K26/032 ,  B23K26/034 ,  B23K26/123 ,  B23K26/342 ,  B29C64/153 ,  B29C64/371 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02 ,  G01J3/4412 ,  G01K11/125 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/65 ,  G01N2021/8411 ,  Y02P10/295

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (10, 100, 150, 200, 250, 300), insbesondere zur schichtweise-additiven Herstellung eines komplexen dreidimensionalen Bauteils (12), mit einer Messeinrichtung (30, 202, 252, 302) zur kontinuierlichen Überwachung von Qualitätskennzahlen, insbesondere der Temperatur und/oder einer chemischen Zusammensetzung einer Schutzgasatmosphäre (24), während der Herstellung des Bauteils (12), wobei die Messeinrichtung (30, 202, 252, 302) und ein Bett (14) mit einem Materialpulver (16) zumindest bereichsweise von einer mit einer Schutzgasatmosphäre (24) befüllten Bearbeitungszelle (22) umgeben sind und das Materialpulver (16) einer obersten Schicht (18) mittels mindestens eines Lasers (32, 204, 254, 304) in einer Schmelzzone (42) örtlich begrenzt auf-schmelzbar ist. Erfindungsgemäß ist die Messeinrichtung (30, 202, 252, 302) den mindestens einen Laser (32, 204, 254, 314) und mindestens einen optischen Sensor (34, 206, 218, 256, 306, 308) zur vorrangigen Erfassung der Qualitätskennzahlen im Bereich der Schmelzzone (42), insbesondere mittels einer Raman-Spektroskopie, aufweist. Infolgedessen lassen sich etwaige Aufbaufehler im Bauteil (12) unverzüglich erkennen, bewerten und ggfls. ressourcensparend korrigieren.

Abstract translation: 本发明涉及一种装置（10，100，150，200，250，300），特别是用于层状添加剂生产复杂的三维部件（12），具有用于连续监测的质量指标的测量装置（30，202，252，302） ，特别是生产的部件（12）的过程中保护气体气氛（24）中，温度和/或化学组合物，其中所述测量装置（30，202，252，302）和一个床（14），具有至少一个材料粉末（16） 部分地由具有顶部层（18）的保护气体气氛（24）的加工单元（22）包围，并且所述材料粉末（16）由至少一个激光器（32，204，254，304）的装置在熔化区（42）局部地局限于填充 是-schmelzbar。 根据本发明的用于在质量指标优先级检测的测量装置（30，202，252，302）的至少一个激光器（32，204，254，314）和至少一个光传感器（34，206，218，256，306，308） 熔化区（42），特别是由拉曼光谱的装置的区域具有。 在部件（12）的任何布局误差可以结果，立即识别，评估和如果必要的话。 正确的资源节约。

公开(公告)号：WO2015061179A1

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：PCT/US2014/061197

申请日：2014-10-17

Applicant: PHONONIC DEVICES, INC.

Inventor： WELLENIUS, Ian Patrick ,  CANTU, Pablo ,  GRAY, Allen L.

IPC: G01N25/18 ,  G01N27/02 ,  G01N21/17 ,  G01K11/12

CPC classification number: G01K11/125 ,  G01N21/1717 ,  G01N25/18 ,  G01N27/02 ,  G01N2021/1731

Abstract: Systems and methods for characterizing one or more properties of a material are disclosed. In some embodiments, the one or more properties include one or more thermal properties of the material, one or more thermoelectric properties of the material, such as the Seebeck or Peltier coefficient, and/or one or more thermomagnetic properties of the material, such as the Lorenz number. In some embodiments, a method of characterizing one or more properties of a sample material (20) comprises heating the sample material (20) and, while heating the sample material, obtaining one or more temperature measurements for at least one surface (18, 24) of the sample material via one or more thermoreflectance probes (30) and obtaining one or more electric measurements for the sample material that correspond in time to the one or more temperature measurements. The method further comprises computing one or more parameters that characterize one or more properties of the sample material based on the measurements.

Abstract translation: 公开了用于表征材料的一种或多种性质的系统和方法。 在一些实施方案中，一个或多个性质包括材料的一种或多种热性质，材料的一种或多种热电性质，例如塞贝克或珀耳帖系数，和/或材料的一种或多种热磁性质，例如 洛伦兹号。 在一些实施例中，表征样品材料（20）的一个或多个性质的方法包括加热样品材料（20），并且在加热样品材料的同时，获得至少一个表面（18,24）的一个或多个温度测量值 ）通过一个或多个热电反应探针（30）获得样品材料，并且获得对于一次或多次温度测量在时间上对应的样品材料的一个或多个电测量。 该方法还包括基于测量来计算表征样品材料的一个或多个特性的一个或多个参数。

公开(公告)号：WO2010096936A1

公开(公告)日：2010-09-02

申请号：PCT/CA2010/000293

申请日：2010-02-25

Applicant: OPALUX INCORPORATED ,  ARSENAULT, Andre

Inventor： ARSENAULT, Andre

IPC: G01K11/00 ,  G01K11/12

CPC classification number: G01K3/04 ,  G01K11/125

Abstract: A temperature-responsive photonic crystal device comprising having a temperature- responsive photonic crystal material, whereby exposure of the device to a temperature above a predetermined threshold temperature is indicated by a detectable change in the device.

Abstract translation: 一种温度响应光子晶体器件，包括具有温度响应的光子晶体材料，由此器件暴露于高于预定阈值温度的温度由器件中可检测的变化表示。

公开(公告)号：WO2009044303A3

公开(公告)日：2009-08-06

申请号：PCT/IB2008053613

申请日：2008-09-05

Applicant: MATTSON TECH INC ,  SCHANZ ROLAND ,  MERKL CHRISTOPHER ,  MUELLER STEFFEN

Inventor： SCHANZ ROLAND ,  MERKL CHRISTOPHER ,  MUELLER STEFFEN

IPC: G01K11/12 ,  G01J5/00 ,  G01K15/00

CPC classification number: G01K11/125 ,  G01J5/0003 ,  G01J5/0007 ,  G01J5/522 ,  G01K15/00 ,  H01L21/67248

Abstract: A system and method is disclosed that reliably determines the transmissivity of a substrate. By determining the transmissivity of a calibration substrate, for instance, a temperature measuring device can be calibrated. The method and system are particularly well suited for use in thermal processing chambers in which semiconductor wafers are manufactured to give integrated circuit chips.

Abstract translation: 本发明涉及一种圆盘状基板用于在装置校准Temperarumessvorrichtung为Halbleiterwaf仁的热处理，其中，所述衬底至少部分地由这改变其温度的传输行为，其特征在于在所述至少一个通道开口的功能的第一材料的 第一材料，其形成至少在一部分区域用于光学Srtahlung的自由通道通过所述基板。

公开(公告)号：WO2006092672A1

公开(公告)日：2006-09-08

申请号：PCT/IB2005/050812

申请日：2005-03-04

Applicant: UNIVERSITÀ DEGLI STUDI DI ROMA "TOR VERGATA" ,  REGOLIOSI, Pietro ,  LUGLI, Paolo ,  DI CARLO, Aldo ,  REALE, Andrea ,  MENCHERINI, Paolo

Inventor： REGOLIOSI, Pietro ,  LUGLI, Paolo ,  DI CARLO, Aldo ,  REALE, Andrea ,  MENCHERINI, Paolo

IPC: G01N21/17

CPC classification number: G01R31/2891 ,  G01K11/125 ,  G01K2213/00

Abstract: A spectroscopic system (1) for the detection of the spectal characteristics of the absorption coefficient of an object (50), in particular for the detection of temperature changes in a semiconductor, includes a light source (2) suitable for illumination of the object through an incident light beam and means (20) for the detection of a photocurrent induced by the said illumination. This system includes also an optical subsystem (18) for conveying the light beam on the said object (50), through a micrometrical regulation system (60) of the direction of the incident light beam, so reaching an high spatial resolution.

Abstract translation: 用于检测物体（50）的吸收系数的光谱特性的光谱系统（1），特别是用于检测半导体中的温度变化的光谱系统（1）包括适于对物体照明的光源（2），通过 入射光束和用于检测由所述照明引起的光电流的装置（20）。 该系统还包括用于通过入射光束的方向的微调制系统（60）将光束传送到所述物体（50）上的光学子系统（18），从而达到高的空间分辨率。

公开(公告)号：WO1996004535A2

公开(公告)日：1996-02-15

申请号：PCT/CA1995000466

申请日：1995-08-03

Applicant: McGILL UNIVERSITY ,  UNIVERSITE LAVAL ,  BURNS, David, Hugh ,  SERIES, Frederic

Inventor： McGILL UNIVERSITY ,  UNIVERSITE LAVAL

IPC: G01J05/58

CPC classification number: G01N21/49 ,  A61B1/24 ,  A61B1/2676 ,  A61B1/307 ,  A61B5/01 ,  A61B5/20 ,  A61B5/42 ,  G01J3/42 ,  G01J2003/2866 ,  G01K11/125 ,  G01N21/359

Abstract: The temperature of an infrared radiation scattering medium which contains water, for example, biological tissue and paper, cement and clay substrates, is determined by exposing the medium to infrared radiation, measuring the reflected radiation scattered by the medium, comparing the reflected radiation with calibrated values, and evaluating the temperature of the medium from the comparison; the technique provides a means of non-invasive determination of temperature in biological tissue which has utility in medical diagnosis.

Abstract translation: 通过将介质暴露于红外辐射，测量由介质散射的反射辐射，将反射辐射与经校准的辐射进行比较来确定包含水的红外辐射散射介质的温度，例如生物组织和纸，水泥和粘土基底 值，并从比较中评估介质的温度; 该技术提供了在医学诊断中具有实用性的生物组织中非侵入性测定温度的方法。

公开(公告)号：WO2015116428A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/US2015/011970

申请日：2015-01-20

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： NGUYEN, Andrew ,  LI, Jiping ,  HUNTER, Aaron

IPC: G01J5/08 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67248 ,  G01K11/125

Abstract: Temperature measurement of a silicon wafer is described using the interference between reflections off surfaces of the wafer. In one example, the invention includes a silicon processing chamber, a wafer holder within the chamber to hold a silicon substrate for processing, and a laser directed to a surface of the substrate. A photodetector receives light from the laser that is reflected off the surface directly and through the substrate and a processor determines a temperature of the silicon substrate based on the received reflected light.

Abstract translation: 使用晶片表面之间的反射之间的干涉来描述硅晶片的温度测量。 在一个示例中，本发明包括硅处理室，用于保持用于处理的硅衬底的室内的晶片保持器，以及指向衬底表面的激光。 光电检测器接收来自激光器的光，该光从该表面直接反射并通过基板，并且处理器基于所接收的反射光来确定硅衬底的温度。

公开(公告)号：WO2014096693A2

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：PCT/FR2013/053151

申请日：2013-12-18

Applicant: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE - CNRS - ,  ECOLE NATIONALE SUPERIEURE D'ARTS ET METIERS (ENSAM)

Inventor： PRADERE, Christophe ,  CAUMES, Jean-Pascal ,  BEN KHEMIS, Sabri

CPC classification number: G01J5/0255 ,  G01J5/0896 ,  G01J5/10 ,  G01K11/006 ,  G01K11/125

Abstract: L'objet de la présente invention concerne un procédé de mesure optique d'une variation de température d'un objet (O) comportant : une étape d'émission (S1) consistant à 10 émettre en direction dudit objet (O) une première onde électromagnétique incidente (W1_inc) du type Téra hertz, et une étape de mesure (S2) comprenant la mesure (S2_3) à l'aide d'un capteur sensible au rayonnement Téra hertz(20) d'une variation d'amplitude du rayonnement électromagnétique d'une seconde onde électromagnétique (W2_réf, W2_tra) pour déterminer la variation de température dudit objet (O). 15

Abstract translation: 本发明的主题涉及一种用于测量物体（O）的温度变化的光学方法，包括：发射步骤（S1），包括在所述物体（O）的方向上发射第一次事件 太赫兹电磁波（W1_inc）和测量步骤（S2），包括使用对太赫兹辐射（20）敏感的传感器测量（S2_3）第二电磁波（W2_ref，W2_tra）的电磁辐射的振幅的变化， 以便确定所述物体（O）的温度变化。

公开(公告)号：WO2009003449A1

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：PCT/DE2008/001053

申请日：2008-06-27

Applicant: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH ,  SCHULZ, Joachim

Inventor： SCHULZ, Joachim

IPC: G01K11/12 ,  G02B7/18

CPC classification number: G01K11/125 ,  G02B7/008

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (26) zum Überwachen der Temperatur und/oder einer temperaturabhängigen Kenngröße, insbesondere des Brechungsindex oder der Wärmeleitfähigkeit, eines im Strahlengang eines Laserstrahls angeordneten, für Strahlung bei einer Laserwellenlänge λ L bevorzugt im Infrarot-Bereich transmissiven oder teiltransmissiven optischen Elements (9), umfassend: mindestens eine Messlichtquelle (28, 34) zum Erzeugen und Aussenden von Messstrahlung (29) auf das optische Element (9), mindestens einen Detektor (31, 36) zum Detektieren zumindest eines Teils der durch das optische Element (9, 20) hindurch getretenen Messstrahlung (29), sowie eine mit dem Detektor (31, 36) in Verbindung stehende Auswerteeinrichtung (33), welche die der Intensität der detektierten Messstrahlung (29) zugeordnete Temperatur und/oder temperaturabhängige Kenngröße in einem Durchtrittsbereich (37) der Messstrahlung (29) anhand einer vorgegebenen Beziehung zwischen der Intensität der detektierten Messstrahlung (29) und der Temperatur und/oder der temperaturabhängigen Kenngröße in dem Durchtrittsbereich (37) überwacht.

Abstract translation: 本发明涉及一种装置（26），用于折射率或热导率中的一个激光波长λL优选透射式的或在红外范围内部分透射光学元件被布置在辐射的激光束的光束路径监测温度和/或温度相关的参数，特别是 （9），包括：至少一个测量光源（28，34），用于检测至少的一部分（由光学元件产生和发射所述光学元件（9）上测量辐射（29），至少一个检测器（31，36） 9，其已通过所述测量辐射（29），以及与检测器（31 20），与（所检测到的测量辐射29）的强度相关联的36）相关的评估装置（33）的温度和/或温度相关的特性变量（在通道区域 基于37）所述测量辐射（29）上的强度之间的预定关系 （37）监视的检测到的测量的辐射（29）和所述温度和/或在通道区域中的依赖于温度的特性。

公开(公告)号：WO2008103458A1

公开(公告)日：2008-08-28

申请号：PCT/US2008/002374

申请日：2008-02-22

Applicant: POULSEN, Peter

Inventor： POULSEN, Peter

IPC: G01J5/00

CPC classification number: G01J5/602 ,  G01J5/0003 ,  G01J2005/0048 ,  G01K11/125 ,  G01K15/00

Abstract: Systems and methods can determine the temperatures and/or emissivities of an object (150) that may be semi-transparent or in an environment (160) with background lighting (152). One such system (100) measures the spectra of background lighting (152); light from a target area while the system (100) illuminates the area, light from the area without illumination, and in some embodiments, light from the area while the system (100) illuminates the back of the object. The spectra are typically measured using at least four wavelength bands. Numerical methods using relative measurements can solve for a temperature and/or spectral emissivity of the object.

Abstract translation: 系统和方法可以确定可以是半透明的物体（150）或具有背景照明（152）的环境（160）中的温度和/或发射率。 一个这样的系统（100）测量背景照明的光谱（152）; 当系统（100）照亮该区域时，来自目标区域的光，并且在一些实施例中，来自该区域的光，在一些实施例中，来自该区域的光，同时系统（100）照亮物体的背面。 通常使用至少四个波长带来测量光谱。 使用相对测量的数值方法可以解决物体的温度和/或光谱发射率。