公开(公告)号：WO2010110179A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：PCT/JP2010/054724

申请日：2010-03-12

Applicant: 株式会社フューチャービジョン ,  齊藤 裕 ,  野田 洋一 ,  山元 良高

Inventor： 齊藤　裕 ,  野田　洋一 ,  山元　良高

IPC: G09F9/30 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1368 ,  G09F9/00 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336 ,  H01L21/768 ,  H01L23/52 ,  H01L29/417 ,  H01L29/423 ,  H01L29/49 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L27/12 ,  G02F1/136209 ,  G02F1/136227 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/134372 ,  G02F2001/136222 ,  G02F2001/136231 ,  G02F2001/13625 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1248 ,  H01L27/1288

Abstract: 　ホトリソプロセス数を削減し、製造コストを低減したアクティブ素子基板とその製造方法、及びこの製造方法で製造したアクティブ素子基板を用いた表示装置を提供する。　表示装置を構成するアクティブ基板に画素を形成するプロセスに、アクティブ素子と表示電極を塗布方式で形成したホトレジスト膜又は黒色ホトレジスト膜をハーフトーン露光してバンク、或いはエッチングパターンを形成して絶縁膜を加工すると共に、透明導電膜やカラーフィルタをインクジェット法を用いて形成する。

Abstract translation: 本发明提供一种有源元件基板及其制造方法，其中减少了光刻工艺的数量并减少了制造成本，以及使用通过该制造方法制造的有源元件基板的显示装置。 在构成显示装置的有源基板上形成像素的工序中，通过涂布在有源元件和显示电极上形成的光致抗蚀剂膜或黑色光致抗蚀剂膜进行半色调曝光，形成堤或蚀刻 从而通过喷墨法形成绝缘膜和透明导电膜或滤色器。

公开(公告)号：WO2005076165A9

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：PCT/KR2004001183

申请日：2004-05-19

Applicant: SANAYI SYSTEM CO LTD ,  WON TAE YOUNG ,  YOON SANG HO

Inventor： WON TAE YOUNG ,  YOON SANG HO

IPC: G06F17/50 ,  G02F1/1362 ,  H01L21/77

CPC classification number: G06F17/5009 ,  G02F2001/136231 ,  G02F2001/13625 ,  G06F17/50 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/1288

Abstract: A method of defining three-dimensional structure from mask layout for computer simulation, which provides a technology for defining a three-dimensional structure of liquid crystal cell which comprises a apparatus of liquid crystal display for designing and analyzing a apparatus of liquid crystal display. A method of generating three-dimensional structure which comprised of material layers between upper substrate and lower substrate, which provides a generation method of three-dimensional structure for computer simulation by depositing material layers under the upper substrate and over the lower substrate, and sandwiching a center insertion layer between the deposited upper and lower material layers for a case which includes tapered structure of material layer for the substrate.

Abstract translation: 一种用于计算机模拟的由掩模布局定义三维结构的方法，其提供了用于定义液晶单元的三维结构的技术，该液晶单元包括用于设计和分析液晶显示装置的液晶显示装置。 一种在上部基板和下部基板之间形成由材料层构成的三维结构的方法，其通过在上部基板下方和下方基板上方沉积材料层来提供用于计算机模拟的三维结构的产生方法， 在所沉积的上和下材料层之间的中心插入层用于包括用于衬底的材料层的锥形结构的情况。

公开(公告)号：WO1995016276A1

公开(公告)日：1995-06-15

申请号：PCT/JP1994002053

申请日：1994-12-07

Applicant: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA ,  INADA, Katsuhiko ,  SHIMADA, Osamu ,  SEIKI, Masahiro ,  TADA, Ryuji ,  SUGAHARA, Atsushi

Inventor： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70283 ,  G02F1/1362 ,  G02F2001/13625 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475 ,  H01L27/124 ,  Y10S438/946

Abstract: A liquid crystal display device having a uniform display screen from which a liner luminance defect which looks like a "seam" is eliminated. When, for example, one conductive or dielectric layer is exposed as shown in the figure, a total of four photomasks (60) corresponding to four shot areas (a, b, c and d) are used. For example, the light shielding layer (62) of the photomask used for exposure at the time of patterning a signal line (51) is so formed that the layer (62) is the projected pattern of the signal line (51). In addition, the photomasks corresponding to the adjacent shot areas, for example, the masks (a and b) are so formed that the patterns of light shielding layers (62) are fitted into each other like a finger joint at the boundary of the areas (a and b).

Abstract translation: 具有均匀显示屏的液晶显示装置，消除了看起来像“接缝”的衬板亮度缺陷。 当例如一个导电或电介质层如图所示露出时，使用对应于四个照射区域（a，b，c和d）的总共四个光掩模（60）。 例如，在图案化信号线（51）时用于曝光的光掩模的遮光层（62）形成为使得层（62）是信号线（51）的投影图案。 此外，对应于相邻拍摄区域的光掩模，例如掩模（a和b）被形成为使得遮光层（62）的图案像区域边界处的手指接头彼此嵌合 （a和b）。

公开(公告)号：WO2018120331A1

公开(公告)日：2018-07-05

申请号：PCT/CN2017071338

申请日：2017-01-17

Applicant: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECT

Inventor： CHEN SHUAI

IPC: G02F1/1343

CPC classification number: G09G3/34 ,  G02B1/115 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/136227 ,  G02F1/136259 ,  G02F2001/13606 ,  G02F2001/136222 ,  G02F2001/136231 ,  G02F2001/13625 ,  G02F2203/30 ,  G09G3/00 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1248

Abstract: Provided is a COA substrate, comprising a glass substrate (1), a common electrode (2), an insulating layer (3) covering the common electrode (2), data lines (4) provided on the insulating layer (3) and staggered relative to the common electrode (2), and a first passivation layer (5), an RGB color resist layer (6), and a second passivation layer (7) that are sequentially provided on the data lines (4). A separation opening (14) is provided on the common electrode (2) at the position where the common electrode is staggered relative to the data lines (4), such that the common electrode (2) forms two opposite end portions. The insulating layer (3) fills the opening (14). A conductive layer (8) is provided on the second passivation layer (7) and is used for bridging the two end portions of the common electrode (2). Further provided is a liquid crystal panel, comprising the COA substrate. Compared with the prior art, the present invention reduces the parasitic capacitance generated between the data lines (4) and the common electrode (2) by increasing the spacing between the common electrode (2) and the data lines (4), thereby reducing the capacitive coupling effect of the data lines (4) on the common electrode (2), and avoiding the occurrence of crosstalk.

公开(公告)号：WO2017201772A1

公开(公告)日：2017-11-30

申请号：PCT/CN2016/085459

申请日：2016-06-12

Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司

Inventor： 张蒙蒙

IPC: G02F1/1362 ,  H01L27/12 ,  H01L23/552

CPC classification number: G02F1/1368 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/136209 ,  G02F2001/136236 ,  G02F2001/13625 ,  G02F2202/103 ,  H01L27/12 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1255 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/78633

Abstract: 一种阵列基板（10）、液晶显示面板（20）及阵列基板（10）的制造方法，该阵列基板（10）包括：第一遮光绝缘层（12）形成在基板（11）上，用于遮住进入基板（11）的部分光线，其包括第一区域（121）和第二区域（122），均为绝缘材料；第一功能层（13）形成在第一遮光绝缘层（12）的第二区域（122）上，在第一遮光绝缘层（12）的第二区域（122）的遮光作用下避免受到光线的影响；第二功能层（14）形成在第一遮光绝缘层（12）的第一区域（121）和第一功能层（13）上，在第一遮光绝缘层（12）的遮光作用下避免受到光线的影响；第三功能层（15）形成在第二功能层（14）上，在第一遮光绝缘层（12）的遮光作用下避免受到光线的影响；第一功能层（13）、第二功能层（14）以及第三功能层（15）为导体或半导体材料。通过上述方式，能够使各个功能层不被照光，进而避免产生光漏电的问题。

公开(公告)号：WO2003060600A1

公开(公告)日：2003-07-24

申请号：PCT/KR2002/000376

申请日：2002-03-05

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. ,  TAK, Young-Mi ,  PARK, Woon-Yong ,  LEE, Jung-Ho ,  HONG, Mun-Pyo ,  CHUNG, Kyuha

Inventor： TAK, Young-Mi ,  PARK, Woon-Yong ,  LEE, Jung-Ho ,  HONG, Mun-Pyo ,  CHUNG, Kyuha

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G02F1/1362 ,  G02F2001/13625 ,  G03F7/0035 ,  Y10S438/946

Abstract: The present invention relates to a method of forming a pattern on a substrate and a method of manufacturing a liquid crystal display panel using the same. In order to decrease stitch defect, the shot boundary lines for respective layers of patterns do not overlap each other to be dispersed. Specifically, according to a method of forming patterns of the present invention, after a first material layer is first formed on a substrate, a first pattern is formed by performing a first photo etching including divisional light exposure with at least two areas across at least one shot boundary line on the first material layer. Subsequently, after a second material layer is formed on the first pattern, a second pattern is formed by performing a second photo etching including divisional light exposure with at least two areas across at least one shot boundary light on the second material layer. The shot boundary line in the second photo etching is spaced apart from the shot boundary light in the first photo etching. A liquid crystal display panel is manufactured by using this forming method.

Abstract translation: 本发明涉及在基板上形成图案的方法以及使用该图案的液晶显示面板的制造方法。 为了减少针迹缺陷，各层图案的拍摄边界线彼此不重叠以分散。 具体而言，根据本发明的图案的形成方法，首先在基板上形成第一材料层后，通过进行第一光蚀刻而形成第一图案，所述第一图案蚀刻包括具有至少两个区域的分光曝光 在第一材料层上拍摄边界线。 随后，在第一图案上形成第二材料层之后，通过在第二材料层上进行包括至少两个区域的至少两个区域的至少两个区域的包括分次曝光的第二光刻蚀来形成第二图案。 在第一光蚀刻中，第二光蚀刻中的照射边界线与第一光蚀刻中的照射边界光隔开。 通过使用该形成方法制造液晶显示面板。

公开(公告)号：WO2003052501A1

公开(公告)日：2003-06-26

申请号：PCT/KR2002/001764

申请日：2002-09-18

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. ,  TAK, Young-Mi ,  PARK, Woon-Yong ,  CHOI, Kwon-Young ,  PARK, Myung-Jae

Inventor： TAK, Young-Mi ,  PARK, Woon-Yong ,  CHOI, Kwon-Young ,  PARK, Myung-Jae

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/1362 ,  G02F2001/13625

Abstract: In a method of manufacturing a liquid crystal display using a divisional exposure for a substrate, an overlapping area at the boundary between adjacent shots is provided and the shots left and right to the boundary are exposed in a way that the areas of the shots gradually decreases and gradually increases, respectively, to reduce the brightness difference due to stitch errors between the two shots. For example, the number of unit stitch areas assigned to the left gradually decreases and the number of unit stitch areas assigned to the right shot gradually increases as it goes to the right along the transverse direction in the stitch area. A unit stitch includes an area obtained by dividing a pixel into at least two parts.

Abstract translation: 在使用基板的分割曝光来制造液晶显示器的方法中，提供相邻镜头之间的边界处的重叠区域，并且以边界的区域逐渐减小到边界的左右的镜头 并分别逐渐增加，以减少由于两次拍摄之间的针迹误差引起的亮度差异。 例如，分配给左侧的单位针迹区域的数量逐渐减少，并且分配给右侧拍摄的单位针迹区域的数量随着在针迹区域中的横向方向上的向右逐渐增加。 单位线圈包括通过将像素划分为至少两部分而获得的区域。

公开(公告)号：WO2017140083A1

公开(公告)日：2017-08-24

申请号：PCT/CN2016/089745

申请日：2016-07-12

Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司

Inventor： 豆婷 ,  李强

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/1362 ,  G03F1/32 ,  H01L21/77

CPC classification number: G02F1/1337 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/13625 ,  G03F1/32 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/77 ,  H01L27/1288 ,  H01L27/1296

Abstract: 一种配向膜(600)厚度均一性的优化方法，包括以下步骤：提供沉积有钝化层(100)的薄膜晶体管阵列基板(2)；在钝化层(100)上涂布光阻(200)；将薄膜晶体管阵列基板(2)划分为不同区域，对处于不同区域的光阻(200)分别进行半色调掩膜曝光和普通掩膜曝光、显影、刻蚀；刻蚀后，去除光阻(200)、沉积ITO膜层(500)；对ITO膜层(500)进行刻蚀，得到ITO膜层(500)上表面与钝化层(100)上表面处于同一平面的薄膜晶体管阵列基板(2)；在ITO膜层(500)上表面和钝化层(100)上表面涂布配向膜(600)。由于ITO膜层(500)上表面与钝化层(100)上表面处于同一平面，使得涂布在其上方的整面配向膜(600)厚度均一，因而有助于提高液晶显示面板的显示品质。

公开(公告)号：WO2017019420A1

公开(公告)日：2017-02-02

申请号：PCT/US2016/043230

申请日：2016-07-21

Applicant: OREGON STATE UNIVERSITY ,  AMORPHYX

Inventor： COWELL, E., William ,  NEWTON, John

IPC: G02F1/1343 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368

CPC classification number: G02F1/134363 ,  G02F1/133528 ,  G02F1/136213 ,  G02F1/136286 ,  G02F2001/13625 ,  G09G3/3614 ,  G09G3/3659 ,  G09G2300/0426

Abstract: A physical layout for a circuit using amorphous metal non-linear resistors as active devices for an in-plane switching liquid crystal display sub-pixel is provided. The lower interconnect of the two amorphous metal non-linear resistors and the lower electrode of the storage capacitor may be concurrently deposited and patterned. The area of the storage capacitor is defined by the overlap of the data signal interconnect and the storage capacitor lower electrode, which is easily modified through the size of the lower electrode and/or the size of the data signal interconnect where it overlaps the lower electrode and does not degrade the aperture ratio of the pixel. Two embodiments of sub-pixel circuits are described. One, which employs a select line bridge, enables the use of full dot inversion of the image data. The second only allows row inversion of the image data.

Abstract translation: 提供了使用非晶金属非线性电阻器作为面内切换液晶显示子像素的有源器件的电路的物理布局。 可以同时沉积和图案化两个非晶金属非线性电阻器和存储电容器的下电极的下互连。 存储电容器的面积由数据信号互连和存储电容器下电极的重叠来定义，其容易地通过下电极的尺寸进行修改和/或数据信号互连的大小，其中它与下电极重叠 并且不会降低像素的开口率。 描述子像素电路的两个实施例。 一个采用选择线桥，使得能够使用图像数据的全点反转。 第二个只允许图像数据的行反转。

公开(公告)号：WO2014187080A1

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/CN2013/086759

申请日：2013-11-08

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 崔承镇 ,  金熙哲 ,  宋泳锡 ,  刘圣烈

IPC: H01L21/77 ,  H01L21/28 ,  H01L29/786 ,  G02F1/1362

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G02F2001/13625

Abstract: 一种阵列基板、其制造方法及显示装置。该方法包括：在基板（31）上形成栅极金属层，通过构图工艺形成包括栅极（32）和栅线的图案；在形成有栅极（32）和栅线图案的基板（31）上依次形成绝缘层（38）、半导体材料层和源/漏金属层，通过构图工艺形成包括半导体层（33a）、源/漏电极（34）和数据线（35）的图案，其中源/漏电极（34）的图案与半导体层（33a）的图案一致；在形成有半导体层（33a）、源/漏电极（34）和数据线（35）图案的基板（31）上形成第一透明导电层，通过构图工艺形成第一透明电极（36）的图案，并在源/漏电极（34）的图案上形成间隙（39）以形成源极（341）和漏极（342）的图案。