公开(公告)号：WO2023274909A1

公开(公告)日：2023-01-05

申请号：PCT/EP2022/067480

申请日：2022-06-27

Applicant: LANXESS DEUTSCHLAND GMBH

Inventor： WEIDENHAUPT, Hermann-Josef ,  MOLL, Irene ,  MEIERS, Michaela

IPC: C07F7/18 ,  C08K5/103 ,  C08L9/06 ,  C08L21/00 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/1892 ,  C08K2201/005 ,  C08K2201/006 ,  C08K2201/011

Abstract: Die neuen Organosilylpolysulfide der Formel (I), worin die Substituenten R1 bis R8 und der Index x die in der Beschreibung angegebenen Bedeutungen haben, eignen sich hervorragend zur Herstellung von Kautschukmischungen, Vulkanisaten und Kautschukprodukten die sich durch verbesserte Mischungseigenschaften, höherer Härte, Festigkeit und Bruchdehnung und einem geringen Rollwiderstand der daraus hergestellten Reifen auszeichnen.

公开(公告)号：WO2023057049A1

公开(公告)日：2023-04-13

申请号：PCT/EP2021/077402

申请日：2021-10-05

Applicant: WACKER CHEMIE AG

Inventor： DELLERMANN, Theresa ,  FEHN, Armin ,  HELDMANN, Dieter ,  WALCH, Ramona

IPC: C07F7/18 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/188

Abstract: Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Silylbenzpinakol Radikalinitiatoren, bei dem Benzophenon mit einem Reduktionsmittel, das ausgewählt wird aus Alkali und Erdalkalimetall und Silan der allgemeinen Formel (I) R1R2SiCl2 in der R1 einen C3-C32 Alkylrest bedeutet und R2 einen C1-C32 Alkylrest oder Cl bedeutet, umgesetzt wird; sowie die nach dem Verfahren erhältlichen Silylbenzpinakol Radikalinitiatoren.

公开(公告)号：WO2022267991A1

公开(公告)日：2022-12-29

申请号：PCT/CN2022/099402

申请日：2022-06-17

Applicant: 湖北固润科技股份有限公司

Inventor： 孙芳 ,  杨宗鑫 ,  邹应全

IPC: C07F7/18 ,  C09D7/63 ,  C09D11/03 ,  C09J11/06 ,  G03F7/004 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/1892

Abstract: 本发明涉及一种硫醚基氧杂环丁烷硅烷偶联剂，其制备方法，包含其的可光固化组合物和由该可光固化组合物得到的光固化材料。本发明的硫醚基氧杂环丁烷硅烷偶联剂光固化后会固定在体系中，游离少，甚至不游离，还具有拉伸性能好，附着力强等优点。

公开(公告)号：WO2023272803A1

公开(公告)日：2023-01-05

申请号：PCT/CN2021/107067

申请日：2021-07-19

Applicant: 山东硅科新材料有限公司

Inventor： 渠源 ,  孔凡振 ,  杨甜甜 ,  李杭杭 ,  李朋涛

IPC: C08G77/04 ,  C07F7/18 ,  C08G77/06 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/188 ,  C08G77/045

Abstract: 本发明提供了一种(2,4,4-三甲基戊基)硅烷低聚物及其制备方法和应用，属于高分子硅烷材料技术领域。本发明所述(2,4,4-三甲基戊基)硅烷低聚物的制备方法，包括以下步骤：在正压条件下，向(2,4,4-三甲基戊基)氯硅烷中滴加水和低级醇的混合液，进行水解和酯化反应，得到(2,4,4-三甲基戊基)硅烷低聚物。本发明采用(2,4,4-三甲基戊基)氯硅烷单体为原材料，在正压环境中将水和醇的混合液滴加于(2,4,4-三甲基戊基)氯硅烷单体中，酯化和水解同时进行，可以一步直接合成硅烷低聚物。本发明的方法工艺简单，能耗小，副产物少，减少了醇的使用量，降低了三废总量。

公开(公告)号：WO2021252788A1

公开(公告)日：2021-12-16

申请号：PCT/US2021/036856

申请日：2021-06-10

Applicant: ENTEGRIS, INC.

Inventor： CHEN, Philip S. H. ,  CONDO, Eric ,  HENDRIX, Bryan C. ,  BAUM, Thomas H. ,  KUIPER, David

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/36 ,  H01L21/02 ,  C07F7/10 ,  C07F7/18 ,  C01B21/0828 ,  C07F7/0814 ,  C07F7/1804 ,  C23C16/308 ,  C23C16/401 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

Abstract: Provided is a plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process for depositing etch-resistant SiOCN films. These films provide improved growth rate, improved step coverage and excellent etch resistance to wet etchants and post-deposition plasma treatments containing O2 and NH3 co-reactants. This PEALD process relies on one or more precursors reacting in tandem with the plasma exposure to deposit the etch-resistant thin-films of SiOCN. The films display excellent resistance to wet etching with dilute aqueous HF solutions, both after deposition and after post-deposition plasma treatment(s). Accordingly, these films are expected to display excellent stability towards post-deposition fabrication steps utilized during device manufacturing and build.

公开(公告)号：WO2021130058A1

公开(公告)日：2021-07-01

申请号：PCT/EP2020/086174

申请日：2020-12-15

Applicant: DSM IP ASSETS B.V.

Inventor： BONRATH, Werner ,  MUELLER, Marc-André ,  WUESTENBERG, Bettina

IPC: C07F7/18 ,  C07F7/08 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/1876

Abstract: The present invention relates to the functionalisation of specific 1,3-alpha-dienes. These functionalized 1,3-alpha-dienes are important intermediates in organic synthe- sis (especially in the synthesis of carotenoids, vitamin A and/or vitamin A derivatives).

公开(公告)号：WO2022006207A1

公开(公告)日：2022-01-06

申请号：PCT/US2021/039773

申请日：2021-06-30

Applicant: DOW SILICONES CORPORATION ,  DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC

Inventor： YVON-BESSETTE, André ,  ROBERTS, John ,  LIU, Nanguo ,  ZHOU, Xiaoyuan ,  JOFFRE, Eric

IPC: C07F7/08 ,  C07F7/18 ,  C07F7/0896 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/188

Abstract: A method of preparing a multifunctional organosilicon compound is provided. The method comprises reacting (A) an organosilanol compound comprising a functional moiety selected from alkoxysilyl moieties and acryloxy moieties and (B) a hydridosilane compound having at least two hydrolysable groups in the presence of (C) an acetate salt. A multifunctional organosilicon compound prepared according to the method is also provided.

公开(公告)号：WO2021143511A1

公开(公告)日：2021-07-22

申请号：PCT/CN2020/140732

申请日：2020-12-29

Applicant: 武汉赛沣瑞技术有限公司

Inventor： 邢钧 ,  陈亮群

IPC: C07F7/18 ,  B01J20/26 ,  C02F1/28 ,  B01J20/30 ,  C02F101/20 ,  B01J20/268 ,  C02F1/285 ,  C02F2101/20 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/1892

Abstract: 本发明公开了一种N,O型多齿功能单体(AAPTS-COOH)及其制备方法和在离子印迹材料中的应用，属于分离材料领域。本发明的N,O型多齿功能单体是先通过N-氨乙基-γ-氨丙基三甲氧基硅烷与丙烯酸酯类物质的迈克尔加成反应，在前者的氨基和亚胺基上键合酯基，再用三氟乙酸溶液使酯基水解得到的，该功能单体中的2个氮原子和3个氧原子可与金属离子配位。本发明制备的N,O型多齿功能单体可用于制备离子印迹材料，该印迹材料对铜离子、镍离子具有高选择性吸附能力，另外，本发明基于AAPTS-COOH的Cu 2+-IIP合成方法还具有良好的普适性，有望用于其它金属离子的印迹、多种金属离子同时印迹及有机分子的印迹。

公开(公告)号：WO2021113643A2

公开(公告)日：2021-06-10

申请号：PCT/US2020/063321

申请日：2020-12-04

Applicant: DANTARI, INC.

Inventor： WYATT, Emily, A. ,  BLUMENFELD, Carl, M. ,  LAMM, Robert, J.

IPC: C07F7/18 ,  C07F5/02 ,  C07D405/14 ,  C08B37/00 ,  C08G65/333 ,  C08G65/332 ,  C08G65/337 ,  B82Y5/00 ,  A61K47/549 ,  A61K47/60 ,  A61K47/61 ,  A61K47/6803 ,  A61K47/6855 ,  A61K47/6883 ,  A61K47/6929 ,  C07D491/22 ,  C07F5/025 ,  C07F7/0814 ,  C07F7/1804

Abstract: Improved methods and reactants for the chemical synthesis of therapeutic nanoparticles are provided. The nanoparticles comprise a polymeric core, to which is attached one or more homing molecules and one or more therapeutic agents. Improvements in speed, yield and purity are attained using the methods disclosed herein.

公开(公告)号：WO2023277824A2

公开(公告)日：2023-01-05

申请号：PCT/SG2022/050462

申请日：2022-07-01

Applicant: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE

Inventor： WU, Jie ,  FAN, Xuanzi ,  ZHANG, Muliang

IPC: C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C07F7/18 ,  B01J31/04 ,  C07F7/1804 ,  C07F7/1876 ,  C07F7/188 ,  C08G77/00

Abstract: Disclosed herein is a process to functionalise a hydrosilane, the process comprising the steps of: (a) providing a hydrosilane of formula (I); and (b) photochemically reacting the hydrosilane of formula (I) in the presence of a solvent, neutral Eosin Y, a reagent and, optionally, an additive, for a period of time in the presence of light and at a suitable temperature to provide a compound of formula (II). This functionalization enabled by Eosin Y photocatalysis allowed us to achieve modular and versatile stepwise decoration of a silicon atom from a di- or trihydrosilane for the synthesis of multisubstituted organosilanes.