摘要:
Verfahren zur Beschichtung eines Drahtes aus einem Metall 1 ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Kupfer, Silber, Gold, Nickel sowie Legierungen eines dieser Metalle mit mindestens einem anderen Metall mit einer Mantelschicht aus einem von Metall 1 verschiedenen Metall 2 ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Nickel, Silber, Gold, Ruthenium, Platin, Palladium, Rhodium sowie Legierungen eines dieser Metalle mit mindestens einem anderen Metall, umfassend die Schritte: (a) Bereitstellung eines Drahtes mit einer Querschnittsfläche im Bereich von 75 bis 200000 μιτι2 aus einem Metall 1, (b) Bereitstellung eines Behälters mit einer Einlassöffnung für den Draht, wobei der Umriss der Einlassöffnung dem des zu ummantelnden Drahtes entspricht oder einen bis zu 20 μιτι breiten wenigstens teilweise um den Drahtumriss umlaufenden Spalt bildet, (c) Einführen des Drahtes in die Einlassöffnung, (d) Einfüllen einer zum Aufbringen der Mantelschicht aus dem von Metall 1 verschiedenen Metall 2 geeigneten flüssigen Beschichtungszusammensetzung in den Behälter, (e) gerades Hindurchführen des Drahtes durch die flüssige Beschichtungszusammensetzung und den Behälter und Verlassen des Behälters in beschichteter Form, und (f1 ) Trocknen des in Schritt (e) beschichteten Drahtes oder (f2) thermisches Behandeln des in Schritt (e) beschichteten Drahtes, wobei (i) es sich bei der flüssigen Beschichtungszusammensetzung um eine eine außenstromlose Applikation von Metall 2 auf ein Substrat aus dem Metall 1 erlaubende Zusammensetzung handelt oder (ii) der Draht als Kathode geschaltet ist und es sich bei der flüssigen Beschichtungszusammensetzung um eine eine Elektroplattierung mit Metall 2 eines als Kathode geschalteten Substrates aus dem Metall 1 erlaubende Zusammensetzung handelt.
摘要:
The lifetime of sliding contact surfaces (11,31 ) of a precious metal or a precious metal alloy can be enhanced by embedding at least one nano particle in the layer forming the sliding contact surface.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung elektrischen Kontaktelements, wobei das Kontaktelement im Wesentlichen aus einem Grundkörper gebildet ist, wobei der Grundkörper folgende Verfahrensschritte in der aufgelisteten Reihenfolge durchläuft: a. eine Entfettung der Oberfläche, beispielsweise eine Kaltentfettung und/oder eine Heißentfettung und/oder eine elektrolytische Entfettung, b. eine Spülung zur Befreiung von eventuell vorhandenen chemischen Rückständen, c. eine Aktivierung der Oberfläche, d. eine Abscheidung einer Nickelschicht, e. eine weitere Spülung zur Befreiung von eventuell vorhandenen chemischen Rückständen, f. eine Abscheidung einer Nickellegierung, g. eine weitere Spülung zur Befreiung von eventuell vorhandenen chemischen Rückständen, h. eine Abscheidung einer Goldschicht oder einer Goldlegierung.
摘要:
The present invention relates to a process for the electrolytic deposition of gold on, in particular, electric contacts. The process is characterized in that particular additives which allow undesirable deposition of gold in regions of low current density to be prevented are added to the electrolyte.
摘要:
Articles, such as printed circuit boards, that include electrodeposited coatings, as well as electrodeposition processes for forming such coatings are described herein. In one aspect, a method of forming a conductive region on a printed circuit board structure is provided. The method comprises electrodepositing a first layer of a coating on a portion of a printed circuit board structure. The first layer comprises an alloy comprising nickel and tungsten. The weight percentage of tungsten in the first layer is between 10% and 35%. The first layer has a nanocrystalline grain size. The method further comprises electrodepositing a second layer of the coating formed over the first layer.
摘要:
One aspect of the present invention is a method of processing a substrate. In one embodiment, the method comprises forming an electrical conductor on or in the substrate by providing a mixture comprising metal particles and an electroless deposition solution and electrolessly depositing a metal matrix and co-depositing the metal particles. In another embodiment, the method comprises forming an electrical conductor on or in the substrate by providing a mixture comprising metal particles and an electrochemical plating solution and electrochemically plating a metal matrix and co-depositing the metal particles. Another aspect of the present invention is a mixture for the formation of an electrical conductor on or in a substrate. Another aspect of the present invention is an electronic device.