非破壊検査装置及び非破壊検査システム

    公开(公告)号:WO2022250038A1

    公开(公告)日:2022-12-01

    申请号:PCT/JP2022/021197

    申请日:2022-05-24

    Abstract: 非破壊検査システム1は非破壊検査装置2と管理装置3を有し、非破壊検査装置2は、中性子線を照射可能な中性子照射部10と、ガンマ線を検出可能なガンマ線検出部20と、中性子照射部10及びガンマ線検出部20を覆い、開口部30aが形成された装置筐体30と、開口部30aを開閉する外シャッタ31と、装置筐体30に設けられ、放射線量を検出する線量モニタ51、52、53と、検出された放射線量を含む装置情報を管理装置3に送信可能であり、且つ管理装置3からの検査許可情報を受信可能な装置通信部56と、検査許可情報を取得した場合に、外シャッタ31を開放し、中性子照射部10からの中性子線の照射を可能とする装置制御部40と、を備える。

    晶圆样品分析方法和装置
    2.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2022062583A1

    公开(公告)日:2022-03-31

    申请号:PCT/CN2021/106119

    申请日:2021-07-13

    Inventor: 徐高峰

    Abstract: 本申请提供一种晶圆样品分析方法和装置。该方法应用于二次离子质谱仪,包括:提供晶圆样品,所述晶圆样品至少包括一斜面,所述斜面用于在同一面上暴露衬底、第一保护层和第一掺杂层,其中所述第一保护层形成在所述衬底上,所述第一掺杂层形成在所述第一保护层上;获取所述斜面的斜面图像并分析所述斜面图像,得到所述斜面图像内所述晶圆样品中元素的掺杂深度和掺杂浓度。

    SYSTEM AND METHOD FOR MOISTURE MEASUREMENT
    3.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2019241830A1

    公开(公告)日:2019-12-26

    申请号:PCT/AU2019/050609

    申请日:2019-06-13

    Inventor: TICKNER, James

    Abstract: A system and method is provided to determine the moisture content in a sample material undergoing elemental activation analysis (EAA), the sample material containing at least one sample element which during EAA forms an activation product. The method comprises the steps of (i) positioning a reference material in vicinity of the sample material, the reference material containing a reference element having a thermal neutron capture cross-section of at least 1 barn, the reference material selected such that its product isotope of a thermal neutron capture reaction is a radioisotope that emits gamma-rays, (ii) irradiating the sample material and the reference material with a source of fast neutrons to produce thermal neutrons in the sample material and (iii) detecting gamma-rays emitted from the reference material and generating signals representative of the detected gamma-rays, (iv) calculating a factor, R , proportional to the thermal neutron flux based on the generated signals and (v) identifying, from a relationship relating moisture content to R , the moisture content in the sample material.

    METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING PLASMA EMISSIONS IN A PLASMA PROCESSING REACTOR

    公开(公告)号:WO2018191704A1

    公开(公告)日:2018-10-18

    申请号:PCT/US2018/027636

    申请日:2018-04-13

    Applicant: IONEER, LLC

    Inventor: CHEN, Anthony

    Abstract: A method of characterizing a Plasma Processing Reactor (PPR) by measuring the electromagnetic (EM) emissions of a plasma inside the PPR using an Optical Plasma Monitoring Apparatus (OPMA) is described. The OPMA contains a plurality of photo-sensors that can measure EM emissions of narrow and/or broad spectral regions at various selected positions on the OPMA, and record them as a function of time. The OPMA can have substantially similar dimensions of a workpiece to facilitate loading and unloading into the PPR.

    VACUUM CONDITION CONTROLLING APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR SPECIMEN OBSERVATION

    公开(公告)号:WO2018094903A1

    公开(公告)日:2018-05-31

    申请号:PCT/CN2017/075465

    申请日:2017-03-02

    Inventor: HE, Wei LI, Shuai

    Abstract: A vacuum condition controlling apparatus (104), the top of which is connected with an electron beam generating instrument. The apparatus is rotationally symmetric, comprises the following parts deployed outward from the central axis: the central channel (113), the first pumping channel (107), the gas supplying chamber (106) and the at least one pumping chamber (108). A pressure limiting aperture (109) is deployed near the outlet of the central channel (113), for keeping the pressure difference between the central channel (113) and the outside environment, and allow the electron beam to go through the central channel (113); the first pumping channel (107) is connected to the central channel (113) to pump the central channel (113); the top of the gas supplying chamber (106) is connected to the gas supplying channel (106) to supply gas to the area (114) between the specimen (111) and the apparatus; the top of the second pumping channel is connected to the second pumping channel, to pump the area (114).

    試料観察装置
    6.
    发明申请
    試料観察装置 审中-公开
    样品观察装置

    公开(公告)号:WO2018003108A1

    公开(公告)日:2018-01-04

    申请号:PCT/JP2016/069571

    申请日:2016-07-01

    Abstract: 多層構造を有するデバイスの解析装置において、素子自体への損傷のない、高速上層除去機能を搭載した解析装置を提供する。 試料表面のミリングプロセスを2段階に分ける前処理機構を搭載する。本発明で提案する前処理機構は試料表面に勾配をつけたミリングが可能で、解析対象点よりもミリング量の浅い箇所の組成をモニターし、その結果によって前段の高速ミリングから後段の低速ミリングに切り替える。これにより、解析対象点に損傷を与えない、高速上層除去が可能になる。

    Abstract translation: 在具有多层结构的装置的分析装置中,提供了一种具有不会损坏元件本身的高速上层去除功能的分析装置。 安装一个预处理机构,将样品表面的研磨过程分成两个阶段。 在本发明中提出的预处理机构能够研磨所述样品表面上的梯度的,以监视浅量小于分析对象点铣削位置中的组合物中,低速研磨随后从前述高速铣削其结果 开关。 这使得可以在不损坏分析目标点的情况下消除高速上层。

    METHOD AND SYSTEM FOR ABERRATION CORRECTION IN ELECTRON BEAM SYSTEM
    7.
    发明申请
    METHOD AND SYSTEM FOR ABERRATION CORRECTION IN ELECTRON BEAM SYSTEM 审中-公开
    电子束系统中异常校正的方法和系统

    公开(公告)号:WO2016182948A1

    公开(公告)日:2016-11-17

    申请号:PCT/US2016/031322

    申请日:2016-05-06

    CPC classification number: H01J37/28 H01J37/1474 H01J2237/1534 H01J2237/1536

    Abstract: A scanning electron microscopy system is disclosed. The system includes an electron beam source configured to generate a primary electron beam. The system includes a sample stage configured to secure a sample. The system includes a set of electron-optical elements configured to direct at least a portion of the primary electron beam onto a portion of the sample. The set of electron-optical elements includes an upper deflector assembly and a lower deflector assembly. The upper deflect assembly is configured to compensate for chromatic aberration in the primary electron beam caused by the lower deflector assembly. In addition, the system includes a detector assembly positioned configured to detect electrons emanating from the surface of the sample.

    Abstract translation: 公开了扫描电子显微镜系统。 该系统包括被配置为产生一次电子束的电子束源。 该系统包括配置成固定样品的样品台。 该系统包括一组电子 - 光学元件,其被配置为将至少一部分一次电子束引导到样品的一部分上。 该组电子 - 光学元件包括上偏转器组件和下偏转器组件。 上偏转组件被配置为补偿由下偏转器组件引起的一次电子束中的色差。 此外,该系统包括检测器组件,其被配置成检测从样品表面发出的电子。

    METHOD OF THREE-DIMENSIONAL SCANNING USING FLUORESCENCE INDUCED BY ELECTROMAGNETIC RADIATION AND A DEVICE FOR EXECUTING THIS METHOD
    9.
    发明申请
    METHOD OF THREE-DIMENSIONAL SCANNING USING FLUORESCENCE INDUCED BY ELECTROMAGNETIC RADIATION AND A DEVICE FOR EXECUTING THIS METHOD 审中-公开
    使用由电磁辐射诱导的荧光进行三维扫描的方法和用于执行该方法的装置

    公开(公告)号:WO2016116078A1

    公开(公告)日:2016-07-28

    申请号:PCT/CZ2016/000009

    申请日:2016-01-19

    Abstract: For volumetric analysis of the elemental composition of a measured sample (3) the method of three-dimensional scanning is executing using fluorescence induced by electromagnetic radiation, in which the primary beam (1) of electromagnetic radiation is flattened and is directed at the measured sample (3) in which it irradiates the measured area (6). From the measured area (6) there exits fluorescence radiation, which is almost completely shielded by the shielding means (7) to a secondary beam (9), which is released towards the shielded detector (4) through the permeable area (8) formed in the shielding means (7). The secondary beam (9) projects the image of the measured area (6) onto the shielded detector (4), which records the data of the measured area (6) and subsequently uses the data to obtain an elemental composition of the measured sample (3), including the distribution of concentration of elements in the sample volume.

    Abstract translation: 对于测量样品的元素组成的体积分析(3),使用由电磁辐射诱导的荧光来执行三维扫描的方法,其中电磁辐射的主光束(1)被平坦化并且被引导到测量样品 (3),其照射测量区域(6)。 从测量区域(6)出现荧光辐射,其几乎被屏蔽装置(7)完全屏蔽到次级光束(9),次级光束(9)通过形成的可渗透区域(8)被释放到屏蔽检测器(4) 在屏蔽装置(7)中。 辅助光束(9)将测量区域(6)的图像投影到屏蔽检测器(4)上,该检测器记录测量区域(6)的数据,并随后使用该数据以获得测量样品的元素组成 3),包括样品体积中元素浓度的分布。

    VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR IDENTIFIKATION KRISTALLINER PHASEN SOWIE EIN ENTSPRECHENDES COMPUTERPROGRAMM UND EIN ENTSPRECHENDES COMPUTERLESBARES SPEICHERMEDIUM
    10.
    发明申请
    VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR IDENTIFIKATION KRISTALLINER PHASEN SOWIE EIN ENTSPRECHENDES COMPUTERPROGRAMM UND EIN ENTSPRECHENDES COMPUTERLESBARES SPEICHERMEDIUM 审中-公开
    方法和系统识别晶相和相应的计算机程序和相应的计算机可读存储介质

    公开(公告)号:WO2015165681A1

    公开(公告)日:2015-11-05

    申请号:PCT/EP2015/057082

    申请日:2015-03-31

    Inventor: SCHWAGER, Thomas

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Identifikation kristalliner Phasen in einer polykristallinen Probe, umfassend die Verfahrensschritte: a) für Kristallstrukturen, die in der Probe vermutet werden, jeweils Bestimmung eines normierten Vektors p(i) für die chemische Zusammensetzung der Kristallstruktur, wobei die Basis des Vektors Elemente und/oder Verbindungen repräsentiert und somit die Koordinaten des Vektors Angaben über die Konzentration der Elemente und/oder Verbindungen innerhalb der Kristallstruktur umfassen; b) an jedem Messpunkt der Probe, (i) Aufnahme eines Spektrums mittels energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDX-Spektrum) und Bestimmung der chemischen Zusammensetzung und (ii) Aufnahme eines Elektronenbeugungsbildes und Bestimmung der Beugungsbänder; c) Bestimmung eines normierten Vektors v für die chemische Zusammensetzung am Messpunkt, dessen Koordinaten Angaben über die Konzentration der Elemente und/oder Verbindungen am Messpunkt umfassen; d) Vergleich des normierten Vektors v für die chemische Zusammensetzung am Messpunkt mit jedem der normierten Vektoren p(i) der vermuteten Kristallstrukturen unter Ausgabe eines Bewertungsfaktors s(i) für die jeweilige Übereinstimmung der Vektoren; e) Vergleich der am Messpunkt bestimmten Beugungsbänder mit den Beugungsbändern der vermuteten Kristallstrukturen unter Ausgabe eines Bewertungsfaktors n(i) für die Übereinstimmung der Beugungsbänder; und f) Bestimmung einer Gesamtgüte aus den beiden Bewertungsfaktoren s(i) und n(i) und Zuordnung der Kristallstruktur mit der höchsten Gesamtgüte zum Messpunkt.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于在多晶试样的结晶相的识别的方法,包括以下步骤:a)用于晶体结构,其被怀疑在样品中,归一化的向量p(i)用于所述晶体结构的化学组成的各测定,的其中所述基 向量元素和/或化合物表示,并且因此包括在晶体结构内的元素和/或化合物的浓度的矢量数据的坐标; b)在所述样品的各测量点中,(i)通过能量分散型X射线光谱(EDX)光谱和化学成分的测定,以及(ii)将所述衍射带的电子衍射图案和确定的光谱的记录; c)确定对于在测量点的坐标包括在测量点处的元件和/或化合物的浓度信息的化学组成的归一化矢量v; D)通过用于载体的各自对应发出的加权因子序列s(i)比较在与每个假定的晶体结构的归一化矢量P(i)的测量点的化学组成的归一化矢量v; e)比较所述通过发出用于衍射带的重合的加权因子n(i)所述假定晶体结构的衍射带的测量点衍射频带确定; 和f)确定两个加权因子S的总的品质因数(ⅰ)和n(i)和晶体结构的分配与所述测量点的最高总体质量。

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