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等离子处理装置
Abstract:
本发明提供一种等离子处理装置,构成为对具有导电性的平板状的工件进行等离子处理,具备:导电性的真空容器,具有凹陷部和从凹陷部连续地设置在凹陷部的外侧的周缘部,该凹陷部构成为供平板状的工件的至少单侧的处理对象部分配置;保持构件,构成为以使所述工件相对于周缘部分离且绝缘的方式保持所述工件;电压施加部,构成为对工件与真空容器之间施加电压;及绝缘层,构成为覆盖周缘部中与工件对向的部位。
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