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公开(公告)号：CN117894913A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202311286781.0
申请日：2023-10-07
Applicant: 丰田自动车株式会社
IPC: H01M4/13 , H01M10/0525
Abstract: 本公开的目的是提供一种抑制在电极层的端面产生缺陷的电极体。在本公开中，通过提供一种电极体来解决上述课题，上述电极体为用于电池的电极体，其中，上述电极体具有集电体和电极层，上述电极层在厚度方向上从上述集电体侧起依次具有第一电极层及第二电极层，上述第一电极层具有端面A，上述第二电极层具有端面B，在上述厚度方向的截面中，上述端面A具有上述集电体侧的端部A1和上述第二电极层侧的端部A2，上述端面B具有上述第一电极层侧的端部B1和与上述第一电极层相反侧的端部B2，上述端面A具有上述端部A1比上述端部A2在垂直于上述厚度方向的方向上突出的第一倾斜部，在从上述厚度方向观察上述电极体的情况下，上述第二电极层的外缘全周配置得比上述第一电极层的外缘全周靠内侧。
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公开(公告)号：CN108220907A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711326795.5
申请日：2017-12-13
Applicant: 丰田自动车株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体装置，在对工件进行等离子体处理的等离子体装置中，抑制处理对象物的变形。等离子体装置具备容器，该容器具有相向配置的第一模及第二模，将工件密封在关闭的第一模及第二模的内部。工件具有：处理对象物，具有处理对象部分和处理对象部分的外周的非处理对象部分；及掩模部件，覆盖非处理对象部分。第一模具有：相向平面部，与工件的外周表面相向配置；第一凹陷部，与处理对象部分相向配置并产生等离子体；及第二凹陷部，在相向平面部与第一凹陷部之间与非处理对象部分相向配置并产生等离子体。第二凹陷部的深度设定为与第一凹陷部的深度不同的值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109554688A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201811072892.0
申请日：2018-09-14
Applicant: 丰田自动车株式会社
Inventor： 加藤典之
IPC: C23C16/50 , C23C16/458 , C23C16/04 , C23F4/00 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置，构成为对具有导电性的平板状的工件进行等离子处理，具备：导电性的真空容器，具有凹陷部和从凹陷部连续地设置在凹陷部的外侧的周缘部，该凹陷部构成为供平板状的工件的至少单侧的处理对象部分配置；保持构件，构成为以使所述工件相对于周缘部分离且绝缘的方式保持所述工件；电压施加部，构成为对工件与真空容器之间施加电压；及绝缘层，构成为覆盖周缘部中与工件对向的部位。
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公开(公告)号：CN117766670A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311212045.0
申请日：2023-09-19
Applicant: 丰田自动车株式会社
Abstract: 本发明涉及电极构件的制造装置和电极构件的制造方法。本公开的主要目的在于提供可抑制制造不良的产生的电极构件的制造装置。在本公开中，通过提供电极构件的制造装置，从而解决上述课题，电极构件的制造装置是用于电池的电极构件的制造装置，该制造装置具有：用于支承所搬运的集电体的支承辊、用于通过在支承辊上的集电体涂布第一浆料从而形成第一涂布层的第一模具、用于通过在支承辊上的第一涂布层涂布第二浆料从而形成第二涂布层的第二模具，其中，第一模具和第二模具相互独立，在将水平方向设为基准(0°)，将铅直向下设为+90°，将铅直向上设为‑90°的情况下，第二模具中的第二浆料的排出角度为‑90°以上且+60°以下。
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公开(公告)号：CN109554688B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201811072892.0
申请日：2018-09-14
Applicant: 丰田自动车株式会社
Inventor： 加藤典之
IPC: C23C16/50 , C23C16/458 , C23C16/04 , C23F4/00 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置，构成为对具有导电性的平板状的工件进行等离子处理，具备：导电性的真空容器，具有凹陷部和从凹陷部连续地设置在凹陷部的外侧的周缘部，该凹陷部构成为供平板状的工件的至少单侧的处理对象部分配置；保持构件，构成为以使所述工件相对于周缘部分离且绝缘的方式保持所述工件；电压施加部，构成为对工件与真空容器之间施加电压；及绝缘层，构成为覆盖周缘部中与工件对向的部位。
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公开(公告)号：CN118106174A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311601488.9
申请日：2023-11-28
Applicant: 丰田自动车株式会社
Abstract: 本发明涉及涂覆装置，该涂覆装置(1)具备用于对基材供给涂液的涂覆歧管(110)、对涂覆歧管供给涂液的供给流路(200)、以及将供给流路与涂覆歧管连结的连结流路(300)。连结流路(300)包括至少一个分支部(310)，至少一个分支部(310)分支成流路距离互相相等的两个分支流路(A、B)。
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公开(公告)号：CN108220907B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201711326795.5
申请日：2017-12-13
Applicant: 丰田自动车株式会社
Abstract: 本发明提供一种等离子体装置，在对工件进行等离子体处理的等离子体装置中，抑制处理对象物的变形。等离子体装置具备容器，该容器具有相向配置的第一模及第二模，将工件密封在关闭的第一模及第二模的内部。工件具有：处理对象物，具有处理对象部分和处理对象部分的外周的非处理对象部分；及掩模部件，覆盖非处理对象部分。第一模具有：相向平面部，与工件的外周表面相向配置；第一凹陷部，与处理对象部分相向配置并产生等离子体；及第二凹陷部，在相向平面部与第一凹陷部之间与非处理对象部分相向配置并产生等离子体。第二凹陷部的深度设定为与第一凹陷部的深度不同的值。
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