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发明公开
CN1534380A 转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法 有权

转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法
摘要：
本发明公开了一种转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法，可藉以补偿光罩接合区(Stitching Area)因为接合效应(Stitching Effect)所产生的误差。本发明的转移光罩图形的方法至少包括以下步骤。首先，提供用以产生一光罩的一数据文件，并将此数据文件分成复数个部分，其中每一部分至少包括一主要图形区与一接合区，且此接合区至少包括一几何图形。然后，于接合区形成一组几何特征，其中于一照射过程后此组几何特征形成一半色调灰阶曝光剂量分布。
摘要（英）：

A method and equipment for transferring mask pattern and the method for preparing mask are disclosed, which features that the error generated by stitching effect in mask stitching area can be compensated. Said method for transferring mask pattern includes providing a data file for generating a mask, dividing the data file into multiple units (each must include a primary pattern area and a stitching area and the stitching includes at least one geometric graphics), and generating a group of geometric characteristics in the stitching area for generating a semi-hue grayscale distribution of exposing agent after radiation.

公开/授权文献
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